本发明属于光学材料及薄膜技术领域，具体涉及一种高折射率光学镀膜材料及制备方法、光学增透膜。
背景技术：
在一个光学成像系统中，用于成像的自然光有些是有益光，可以增加成像清晰度；有些是有害光，会降低成像的清晰度。为了增加成像系统的清晰度，通常通过在成像镜头或透光的玻璃上增加增透膜。1817年德国的夫琅和费发明了化学镀膜并制成了第一批增透膜。增透膜的原理是通过在光学玻璃上增加一层相当于反射光的波长的四分之一的透明薄膜，而使得在透明薄膜上下两个表面所反射的两束光相差半个波程，使得两束光反生干涉，从而相互抵消，来减少反射光，同时增加透射光，提高成像系统的清晰度。现有技术中，增透膜广泛的应用于相机镜头、眼镜镜片、各种可视窗口等。
现有技术中，用于制备增透膜的材料通常采用氧化钛，氧化钛是一种高折射率的光学镀膜材料，应用范围十分广泛。但是，氧化钛在镀膜过程中，会释放氧气，使真空度波动较大，膜层易形成斑点；另一方面氧化钛强度相对较低，镀制膜层在使用的过程中易形成划痕。
技术实现要素：
本发明实施例为了解决现有技术中氧化钛等增透膜材料易形成斑点、强度不高易产生划痕的问题，提出了一种光学镀膜材料及其制备方法，以及采用所述光学镀膜材料镀制的光学增透膜。本发明的光学镀膜材料采用在氧化钛原料中加入三氧化二铝后共烧，形成氧化钛-三氧化二铝复合结构，获得更稳定的薄膜结构，从而解决了在镀制过程中的氧气释放问题，同时，氧化钛-三氧化二铝二元结构形成的膜层强度明显比单独氧化钛膜层的强度大，所制备的增透膜不易产生划痕，寿命更长。
为了实现上述目的，本发明采取了如下技术方案。
一种光学镀膜材料，所述材料为氧化钛-三氧化二铝二元复合结构。
进一步地，所述氧化钛包括：二氧化钛、七氧化四钛、五氧化三钛、三氧化二钛、一氧化钛。
进一步地，所述光学镀膜材料中氧化钛-三氧化二铝二元复合结构中的重量比为氧化钛:三氧化二铝＝(75～95):(25～5)。
本发明还提供了一种光学镀膜材料的制备方法，所述方法包括如下步骤：
步骤s1，称取预定重量比的二氧化钛粉末和三氧化二铝粉末；
步骤s2，将所述二氧化钛粉末和三氧化二铝粉末混合均匀后，进行造粒；
步骤s3，将造料后得到的微颗粒/微片/微块放入马弗炉中在1100～1250℃进行预烧结，并保温3～5小时，随炉冷却后得到预烧微颗粒/微片/微块；
步骤s4，将所述预烧微颗粒/微片/微块放入真空炉中在1400～1600℃进行烧结，并保温3～6小时，随炉冷却后得到所述光学镀膜材料。
进一步地，所述步骤s4还包括：对随炉冷却后的光学镀膜材料进行过筛。
本发明还提供了一种光学增透膜，所述增透膜由如上所述的光学镀膜材料镀制而成。
本发明还提供了一种光学增透膜，所述增透膜由如上所述的光学镀膜材料制备方法所制备的光学镀膜材料镀制而成。
由上述本发明的实施例提供的技术方案可以看出，本发明实施例在氧化钛和/或钛原料中引入适量的三氧化二铝制造的光学镀膜材料，很好的解决了因纯氧化钛材料在使用过程中出现的斑点及强度不足的问题。
本发明附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。
具体实施方式
本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本发明的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。应该理解，这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的任一单元和全部组合。
本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样定义，不会用理想化或过于正式的含义来解释。
下面以几个具体实施例为例，对本发明做进一步的解释说明，且各个实施例并不构成对本发明实施例的限定。
实施例1
本实施例提供了一种光学镀膜材料，所述材料为二氧化钛-三氧化二铝二元结构，其中，所述二氧化钛与三氧化二铝的比例为75:25，所述材料为两种材料共烧后形成的颗粒状二元结构材料。
本实施例还提供了一种光学镀膜材料的制备方法，所述方法包括如下步骤：
步骤s101，称取75份二氧化钛粉末和25份三氧化二铝粉末(本申请文件中所涉及到的所有“份”均为重量份)；
步骤s102，将所述二氧化钛粉末和三氧化二铝粉末混合均匀后，进行造粒得到微颗粒；
步骤s103，将造料后形成的微颗粒放入马弗炉中在1250℃进行预烧结，并保温5小时，随炉冷却后得到预烧微颗粒；
步骤s104，将所述预烧微颗粒放入真空炉中在1600℃进行烧结，并保温6小时，随炉冷却后得到所述光学镀膜材料。进一步地，本步骤还可以包括，对烧结后的光学镀膜材料进行过筛，根据不同的要求及微颗粒粒度选择不同筛目的筛子。
本实施例还提供了一种光学增透膜，所述光学增透膜由所述制备方法所制备的所述光学镀膜材料镀制而成，镀制参数为：基片温度50℃，蒸发速率是
实施例2
本实施例提供了一种光学镀膜材料，所述材料为二氧化钛-三氧化二铝二元结构，其中，所述二氧化钛与三氧化二铝的比例为85:15，所述材料为两种材料共烧后形成的片状二元结构材料。
本实施例还提供了一种光学镀膜材料的制备方法，所述方法包括如下步骤：
步骤s201，称取85份二氧化钛粉末和15份三氧化二铝粉末；
步骤s202，将所述二氧化钛粉末和三氧化二铝粉末混合均匀后，进行造粒得到微片；
步骤s203，将造料后形成的微片放入马弗炉中在1200℃进行预烧结，并保温4小时，随炉冷却后得到预烧微片；
步骤s204，将所述预烧微片放入真空炉中在1500℃进行烧结，并保温5小时，随炉冷却后得到所述光学镀膜材料。进一步地，本步骤还可以包括，对烧结后的粉末进行过筛，根据不同的要求及微片尺寸选择不同筛目的筛子。
本实施例还提供了一种光学增透膜，所述光学增透膜由所述制备方法所制备的所述光学镀膜材料镀制而成，镀制参数为：基片温度50℃，蒸发速率是
实施例3
本实施例提供了一种光学镀膜材料，所述材料为二氧化钛-三氧化二铝二元结构，其中，所述二氧化钛与三氧化二铝的比例为95:5，所述材料为两种材料共烧后形成的微块状二元结构材料。
本实施例还提供了一种光学镀膜材料的制备方法，所述方法包括如下步骤：
步骤s301，称取95份二氧化钛粉末和5份三氧化二铝粉末；
步骤s302，将所述二氧化钛粉末和三氧化二铝粉末混合均匀后，进行造粒得到微块；
步骤s303，将造料后形成的微块放入马弗炉中在1100℃进行预烧结，并保温3小时，随炉冷却后得到预烧微块；
步骤s304，将所述预烧微块放入真空炉中在1400℃进行烧结，并保温3小时，随炉冷却后得到所述光学镀膜材料。进一步地，本步骤还可以包括，对烧结后的光学镀膜材料进行过筛，根据不同的要求及微块尺寸选择不同筛目的筛子。
本实施例还提供了一种光学增透膜，所述光学增透膜由所述制备方法所制备的所述光学镀膜材料镀制而成，镀制参数为：基片温度50℃，蒸发速率是
实施例4
本实施例提供了一种光学镀膜材料，所述材料及制备方法与实施例1成份比例相同，所不同的是，所采用的二元混合物为七氧化四钛和三氧化二铝。
本实施例还提供了一种光学镀膜材料的制备方法，所述方法包括如下步骤：
步骤s401，称取75份七氧化四钛粉末和25份三氧化二铝粉末；
步骤s402，将所述七氧化四钛粉末和三氧化二铝粉末混合均匀后，进行造粒得到微颗粒；
步骤s403，将造料后形成的微颗粒放入马弗炉中在1200℃进行预烧结，并保温4小时，随炉冷却后得到预烧微颗粒；
步骤s404，将所述预烧微颗粒放入真空炉中在1600℃进行烧结，并保温5小时，随炉冷却后得到所述光学镀膜材料。进一步地，本步骤还可以包括，对烧结后的光学镀膜材料进行过筛，根据不同的要求及原始粉末条件选择不同筛目的筛子。
本实施例还提供了一种光学增透膜，所述光学增透膜由所述制备方法所制备的所述光学镀膜材料镀制而成，镀制参数为：基片温度50℃，蒸发速率是
实施例5
本实施例提供了一种光学镀膜材料，所述材料及制备方法与实施例2成份比例相同，所不同的是，所采用的二元混合物为五氧化三钛和三氧化二铝。
本实施例还提供了一种光学镀膜材料的制备方法，所述方法包括如下步骤：
步骤s501，称取85份五氧化三钛粉末和15份三氧化二铝粉末；
步骤s502，将所述五氧化三钛粉末和三氧化二铝粉末混合均匀后，进行造粒得到微片；
步骤s503，将造料后形成的微片放入马弗炉中在1150℃进行预烧结，并保温5小时，随炉冷却后得到预烧微片；
步骤s504，将所述预烧微片放入真空炉中在1500℃进行烧结，并保温6小时，随炉冷却后得到所述光学镀膜材料。进一步地，本步骤还可以包括，对烧结后的光学镀膜材料进行过筛，根据不同的要求及微片尺寸选择不同筛目的筛子。
本实施例还提供了一种光学增透膜，所述光学增透膜由所述制备方法所制备的所述光学镀膜材料镀制而成，镀制参数为：基片温度50℃，蒸发速率是
实施例6
本实施例提供了一种光学镀膜材料，所述材料及制备方法与实施例3成份比例相同，所不同的是，所采用的二元混合物为三氧化二钛和三氧化二铝。
本实施例还提供了一种光学镀膜材料的制备方法，所述方法包括如下步骤：
步骤s601，称取95份三氧化二钛粉末和5份三氧化二铝粉末；
步骤s602，将所述三氧化二钛粉末和三氧化二铝粉末混合均匀后，进行造粒得到微块；
步骤s603，将造料后形成的微块放入马弗炉中在1050℃进行预烧结，并保温4小时，随炉冷却后得到预烧微块；
步骤s604，将所述预烧微块放入真空炉中在1450℃进行烧结，并保温4小时，随炉冷却后得到所述光学镀膜材料。进一步地，本步骤还可以包括，对烧结后的光学镀膜材料进行过筛，根据不同的要求及微块尺寸选择不同筛目的筛子。
本实施例还提供了一种光学增透膜，所述光学增透膜由所述制备方法所制备的所述光学镀膜材料镀制而成，镀制参数为：基片温度50℃，蒸发速率是
实施例7
本实施例提供了一种光学镀膜材料，所述材料及制备方法与实施例2成份比例相同，所不同的是，所采用的二元混合物为一氧化钛和三氧化二铝。
本实施例还提供了一种光学镀膜材料的制备方法，所述方法包括如下步骤：
步骤s701，称取85份一氧化钛粉末和15份三氧化二铝粉末；
步骤s702，将所述一氧化钛粉末和三氧化二铝粉末混合均匀后，进行造粒得到微片；
步骤s703，将造料后形成的微片放入马弗炉中在1150℃进行预烧结，并保温5小时，随炉冷却后得到预烧微片；
步骤s704，将所述预烧微片放入真空炉中在1550℃进行烧结，并保温5小时，随炉冷却后得到所述光学镀膜材料。进一步地，本步骤还可以包括，对烧结后的光学镀膜材料进行过筛，根据不同的要求及微片尺寸选择不同筛目的筛子。
本实施例还提供了一种光学增透膜，所述光学增透膜由所述制备方法所制备的所述光学镀膜材料镀制而成，镀制参数为：基片温度50℃，蒸发速率是
对上述实施1至7中的光学镀膜材料所镀制的光学增透膜进行测试，结果如表1所示。
表1
通过上述几种实验，在氧化钛和/或钛原料中引入适量的三氧化二铝制造的光学镀膜材料，很好的解决了因纯氧化钛材料在使用过程中出现的斑点及强度不足的问题。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。