一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜及加工工艺的制作方法

本发明涉及电容屏
技术领域：
，具体为一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜及加工工艺。
背景技术：
：电容屏即电容式触摸屏技术是利用人体的电流感应进行工作的，电容式触摸屏是一块四层复合玻璃屏，当手指触摸在金属层上时，由于人体电场，用户和触摸屏表面形成以一个耦合电容，控制器通过对这电流比例的精确计算，得出触摸点的位置；传统电容屏在使用时需要贴膜使用，贴膜后由于膜的厚度与材料，造成用户使用时触摸灵敏度低下，不利于用户使用，同时由于用户玩手机游戏时喜欢使用物理按键外挂，物理按键外挂导电性能差，更加降低使用时的灵敏度；针对这些缺陷，设计一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜及加工工艺是很有必要的。技术实现要素：本发明的目的在于提供一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜及加工工艺，以解决上述
背景技术：
中提出的问题。为了解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案：一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜，配方包括：石英玻璃基片、金属铟、碳酸铵、硫酸锡、硝酸、氯化锡、酒精、氨水、催化剂、添加剂，各组分的质量百分含量分别是：15-25%的石英玻璃基片、20-30%的金属铟、15-25%的碳酸铵、10-20%的硫酸锡、2-4%的硝酸、10-20%的氯化锡、1-3%的酒精、5-10%的氨水、0.5-1%的催化剂和0.5-1%的添加剂。一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜的加工工艺，包括以下步骤，步骤一，原料选取；步骤二，溶液混合；步骤三，共沉淀加工；步骤四，处理筛分；步骤五，提拉镀层；步骤六，高热处理；步骤七，包装存储；其中上述步骤一中，按照各组分的质量百分含量分别是：15-25%的石英玻璃基片、20-30%的金属铟、15-25%的碳酸铵、10-20%的硫酸锡、2-4%的硝酸、10-20%的氯化锡、1-3%的酒精、5-10%的氨水、0.5-1%的催化剂和0.5-1%的添加剂进行选取，并按照重量百分比之和为1进行称取；其中上述步骤二中，溶液混合包括以下步骤：1）将反应釜进行清洗后加入硝酸，保持常温；2）将金属铟投入到反应釜中，边投入边搅拌均匀；3）保持料温，加入添加剂，调整ph值至中性，持续搅拌反应1-2h；其中上述步骤三中，将上述步骤二中所得混合物加入氯化锡，混合搅拌后滴加氨水，高温反应，终点ph为8，停止滴加氨水，搅拌2-3h，进行共沉淀；其中上述步骤四中，处理筛分包括以下步骤：1）将反应釜加热至30-50℃，兑入酒精，加入步骤三中混合物；2）再向反应釜中加入硫酸锡与碳酸铵，加入催化剂，强烈搅拌，得到ito复合粉颗粒；3）将ito复合粉颗粒洗涤、烘干，然后进行筛分，得到超细的ito复合粉颗粒粉末；4）将ito复合粉颗粒超细粉末溶与酒精，在使用超声仪器混合，得到溶胶；其中上述步骤五中，将石英玻璃基片放在坩埚中加热熔化，专业人士使用仪器在熔体表面接籽晶提拉溶体，直至溶体成型；其中上述步骤六中，将上述步骤五中所得混合物进行400-500℃的热处理除去有机成分，然后放置在200℃以下，使用凝胶法将步骤四中溶胶镀在步骤五所得的混合物表面，得到电容屏贴膜；其中上述步骤七中，将上述步骤六中所得电容屏贴膜放在剪裁机中，剪裁至合适大小，捆扎包装，放置在阴凉处存放。根据权利要求2所述的一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜及加工工艺的制备工艺，其特征在于：所述组分的质量百分含量分别是：石英玻璃基片16%、金属铟25%、碳酸铵20%、硫酸锡10%、硝酸4%、氯化锡10%、酒精3%、氨水10%、催化剂1%和添加剂1%。根据上述技术方案，所述反应釜搅拌时使用机械搅拌，并通入惰性气体排空反应釜内部空气。根据上述技术方案，所述步骤二3）使用的添加剂为硝酸钾。根据上述技术方案，所述步骤三中高温反应的反应温度为70℃。根据上述技术方案，所述步骤四2）中使用的催化剂为无机催化剂。与现有技术相比，本发明所达到的有益效果是：该发明，安全可靠，采用共沉淀加工与超声反应制作ito溶胶，大大提高ito溶胶制作效率，同时增加ito溶胶拉伸强度，再采用提拉法在石英玻璃基片上镀层，节约时间，省时省力，使石英玻璃基片与ito溶胶融合更加紧密，大大提升该电容屏贴膜的耐磨耗等级，同时降低该电容屏贴膜厚度，增加该电容屏贴膜导电性，达到提升该电容屏贴膜灵敏度目的，方便用户使用，该电容屏贴膜制作采用环保原料，降低气味，有利于使用者健康，避免危害环境，有利于环保，同时该发明工艺简单严谨，原料便宜成本低廉，加工方便，节约了生产成本，有利于加工与生产。附图说明附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明的实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。在附图中：图1是本发明的工艺立流程图。具体实施方式下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。请参阅图1，本发明提供一种技术方案：一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜及加工工艺：实施例1：一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜，配方包括：石英玻璃基片、金属铟、碳酸铵、硫酸锡、硝酸、氯化锡、酒精、氨水、催化剂、添加剂，各组分的质量百分含量分别是：16%的石英玻璃基片、20%的金属铟、25%的碳酸铵、10%的硫酸锡、4%的硝酸、10%的氯化锡、3%的酒精、10%的氨水、1%的催化剂和1%的添加剂。一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜的加工工艺，包括以下步骤，步骤一，原料选取；步骤二，溶液混合；步骤三，共沉淀加工；步骤四，处理筛分；步骤五，提拉镀层；步骤六，高热处理；步骤七，包装存储；其中上述步骤一中，按照各组分的质量百分含量分别是：16%的石英玻璃基片、20%的金属铟、25%的碳酸铵、10%的硫酸锡、4%的硝酸、10%的氯化锡、3%的酒精、10%的氨水、1%的催化剂和1%的添加剂进行选取，并按照重量百分比之和为1进行称取；其中上述步骤二中，溶液混合包括以下步骤：1）将反应釜进行清洗后加入硝酸，保持常温；2）将金属铟投入到反应釜中，边投入边搅拌均匀，反应釜搅拌时使用机械搅拌，并通入惰性气体排空反应釜内部空气；3）保持料温，加入添加剂，调整ph值至中性，持续搅拌反应1-2h；其中上述步骤三中，将上述步骤二中所得混合物加入氯化锡，混合搅拌后滴加氨水，反应温度为70℃，终点ph为8，停止滴加氨水，搅拌2-3h，进行共沉淀；其中上述步骤四中，处理筛分包括以下步骤：1）将反应釜加热至30-50℃，兑入酒精，加入步骤三中混合物；2）再向反应釜中加入硫酸锡与碳酸铵，加入催化剂，强烈搅拌，得到ito复合粉颗粒；3）将ito复合粉颗粒洗涤、烘干，然后进行筛分，得到超细的ito复合粉颗粒粉末；4）将ito复合粉颗粒超细粉末溶与酒精，在使用超声仪器混合，得到溶胶；其中上述步骤五中，将石英玻璃基片放在坩埚中加热熔化，专业人士使用仪器在熔体表面接籽晶提拉溶体，直至溶体成型；其中上述步骤六中，将上述步骤五中所得混合物进行400-500℃的热处理除去有机成分，然后放置在200℃以下，使用凝胶法将步骤四中溶胶镀在步骤五所得的混合物表面，得到电容屏贴膜；其中上述步骤七中，将上述步骤六中所得电容屏贴膜放在剪裁机中，剪裁至合适大小，捆扎包装，放置在阴凉处存放。其中，添加剂为硝酸钾，催化剂为无机催化剂。实施例2：一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜，配方包括：石英玻璃基片、金属铟、碳酸铵、硫酸锡、硝酸、氯化锡、酒精、氨水、催化剂、添加剂，各组分的质量百分含量分别是：16%的石英玻璃基片、25%的金属铟、20%的碳酸铵、10%的硫酸锡、4%的硝酸、10%的氯化锡、3%的酒精、10%的氨水、1%的催化剂和1%的添加剂。一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜的加工工艺，包括以下步骤，步骤一，原料选取；步骤二，溶液混合；步骤三，共沉淀加工；步骤四，处理筛分；步骤五，提拉镀层；步骤六，高热处理；步骤七，包装存储；其中上述步骤一中，按照各组分的质量百分含量分别是：16%的石英玻璃基片、25%的金属铟、20%的碳酸铵、10%的硫酸锡、4%的硝酸、10%的氯化锡、3%的酒精、10%的氨水、1%的催化剂和1%的添加剂进行选取，并按照重量百分比之和为1进行称取；其中上述步骤二中，溶液混合包括以下步骤：1）将反应釜进行清洗后加入硝酸，保持常温；2）将金属铟投入到反应釜中，边投入边搅拌均匀，反应釜搅拌时使用机械搅拌，并通入惰性气体排空反应釜内部空气；3）保持料温，加入添加剂，调整ph值至中性，持续搅拌反应1-2h；其中上述步骤三中，将上述步骤二中所得混合物加入氯化锡，混合搅拌后滴加氨水，反应温度为70℃，终点ph为8，停止滴加氨水，搅拌2-3h，进行共沉淀；其中上述步骤四中，处理筛分包括以下步骤：1）将反应釜加热至30-50℃，兑入酒精，加入步骤三中混合物；2）再向反应釜中加入硫酸锡与碳酸铵，加入催化剂，强烈搅拌，得到ito复合粉颗粒；3）将ito复合粉颗粒洗涤、烘干，然后进行筛分，得到超细的ito复合粉颗粒粉末；4）将ito复合粉颗粒超细粉末溶与酒精，在使用超声仪器混合，得到溶胶；其中上述步骤五中，将石英玻璃基片放在坩埚中加热熔化，专业人士使用仪器在熔体表面接籽晶提拉溶体，直至溶体成型；其中上述步骤六中，将上述步骤五中所得混合物进行400-500℃的热处理除去有机成分，然后放置在200℃以下，使用凝胶法将步骤四中溶胶镀在步骤五所得的混合物表面，得到电容屏贴膜；其中上述步骤七中，将上述步骤六中所得电容屏贴膜放在剪裁机中，剪裁至合适大小，捆扎包装，放置在阴凉处存放。其中，添加剂为硝酸钾，催化剂为无机催化剂。实施例3：一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜，配方包括：石英玻璃基片、金属铟、碳酸铵、硫酸锡、硝酸、氯化锡、酒精、氨水、催化剂、添加剂，各组分的质量百分含量分别是：16%的石英玻璃基片、30%的金属铟、15%的碳酸铵、10%的硫酸锡、4%的硝酸、10%的氯化锡、3%的酒精、10%的氨水、1%的催化剂和1%的添加剂。一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜的加工工艺，包括以下步骤，步骤一，原料选取；步骤二，溶液混合；步骤三，共沉淀加工；步骤四，处理筛分；步骤五，提拉镀层；步骤六，高热处理；步骤七，包装存储；其中上述步骤一中，按照各组分的质量百分含量分别是：16%的石英玻璃基片、30%的金属铟、15%的碳酸铵、10%的硫酸锡、4%的硝酸、10%的氯化锡、3%的酒精、10%的氨水、1%的催化剂和1%的添加剂进行选取，并按照重量百分比之和为1进行称取；其中上述步骤二中，溶液混合包括以下步骤：1）将反应釜进行清洗后加入硝酸，保持常温；2）将金属铟投入到反应釜中，边投入边搅拌均匀，反应釜搅拌时使用机械搅拌，并通入惰性气体排空反应釜内部空气；3）保持料温，加入添加剂，调整ph值至中性，持续搅拌反应1-2h；其中上述步骤三中，将上述步骤二中所得混合物加入氯化锡，混合搅拌后滴加氨水，反应温度为70℃，终点ph为8，停止滴加氨水，搅拌2-3h，进行共沉淀；其中上述步骤四中，处理筛分包括以下步骤：1）将反应釜加热至30-50℃，兑入酒精，加入步骤三中混合物；2）再向反应釜中加入硫酸锡与碳酸铵，加入催化剂，强烈搅拌，得到ito复合粉颗粒；3）将ito复合粉颗粒洗涤、烘干，然后进行筛分，得到超细的ito复合粉颗粒粉末；4）将ito复合粉颗粒超细粉末溶与酒精，在使用超声仪器混合，得到溶胶；其中上述步骤五中，将石英玻璃基片放在坩埚中加热熔化，专业人士使用仪器在熔体表面接籽晶提拉溶体，直至溶体成型；其中上述步骤六中，将上述步骤五中所得混合物进行400-500℃的热处理除去有机成分，然后放置在200℃以下，使用凝胶法将步骤四中溶胶镀在步骤五所得的混合物表面，得到电容屏贴膜；其中上述步骤七中，将上述步骤六中所得电容屏贴膜放在剪裁机中，剪裁至合适大小，捆扎包装，放置在阴凉处存放。其中，添加剂为硝酸钾，催化剂为无机催化剂。各实施例性质对比如下表：拉伸强度/mpa灵敏度/rts气味等级/级耐磨耗/级实施例142322实施例240513实施例343232基于上述，本发明的优点在于，该发明，安全可靠，采用共沉淀加工与超声反应制作ito溶胶，同时增加ito溶胶拉伸强度，再采用提拉法在石英玻璃基片上镀层，节约时间，使石英玻璃基片与ito溶胶融合更加紧密，大大提升该电容屏贴膜的耐磨耗等级，同时降低该电容屏贴膜厚度，提升该电容屏贴膜灵敏度目的，该电容屏贴膜制作采用环保原料，降低气味，有利于使用者健康。需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。当前第1页12