具有改进的应力分布的基于玻璃的制品的制作方法

具有改进的应力分布的基于玻璃的制品
1.相关申请的交叉参考
2.本技术根据35 u.s.c.
§
119，要求2019年7月2日提交的美国临时申请系列第62/869,898号的优先权，本文以其作为基础并将其全文通过引用结合于此。
技术领域
3.本公开内容的实施方式大体上涉及具有改进的应力分布的基于玻璃的制品及其制造方法。


背景技术：

4.基于玻璃的制品被用于许多各种行业中，包括消费者电子件、运输、建筑、防护、医疗和包装。对于消费者电子件，基于玻璃的制品被用于电子器件中作为便携式或移动电子通讯和娱乐装置的盖板或窗口，例如，手机、智能手机、平板、手表、视频播放器、信息终端(it)装置、笔记本电脑、和导航系统等。在建筑中，基于玻璃的制品被包含在窗户、淋浴板和台面中；以及在运输中，基于玻璃的制品存在于车辆、火车、飞行器和航海器中。基于玻璃的制品适合于会得益于优异的耐破碎性但是薄且轻量化制品的任何应用。对于每个行业，基于玻璃的制品的机械和/或化学可靠性通常由功能、性能和成本驱动。改善这些制品的机械和/或化学可靠性是持续的目标。
5.化学处理是一种赋予具有如下一种或多种参数的合乎希望和/或加工得到的应力分布的强化方法：压缩应力(cs)、压缩深度(doc)、和最大中心张力(ct)。许多基于玻璃的制品(包括具有加工得到的应力分布的那些)具有的压缩应力在玻璃表面处最高或者处于峰值，并且随着远离表面从峰值开始下降，以及在玻璃制品中的应力变成拉伸之前，在玻璃制品的某个内部位置是零应力。通过对含碱性玻璃进行离子交换(iox)来进行化学强化是本领域一种已经得到验证的方法。
6.在消费者电子行业中，化学强化玻璃被用作显示器覆盖的优选材料，这得益于其相比于塑料更好的美学外观和耐划痕性，以及相比于非强化玻璃更好的跌落性能与更好的耐划痕性。
7.对于这些行业，存在对于具有机械可靠性和/或化学可靠性的基于玻璃的制品的持续需求。对于以成本有效的方式来实现其也存在持续需求。


技术实现要素：

8.本公开内容的方面属于基于玻璃的制品以及它们的制造方法。
9.一个方面是基于玻璃的制品，其包括：锂基铝硅酸盐组合物；具有限定了基材厚度(t)的相对的第一和第二表面的基于玻璃的基材，其中，t小于或等于0.74mm；以及应力分布，其包含：从第一表面延伸且包含位于大于或等于7微米的深度的尖峰层深度(dol
sp
)的尖峰区域；和大于或等于50mpa的最大中心张力(ct
max
)。
10.另一个方面是基于玻璃的制品，其包括：锂基铝硅酸盐组合物；具有限定了基材厚
度(t)的相对的第一和第二表面的基于玻璃的基材，其中，t小于或等于0.74mm；以及应力分布，其包含：从第一表面延伸且包含位于大于或等于0.010t的深度的尖峰层深度(dol
sp
)的尖峰区域；和大于或等于50mpa的最大中心张力(ct
max
)。
11.一个具体方面是基于玻璃的制品，其包括：锂基铝硅酸盐组合物，其中，锂基铝硅酸盐组合物中的na2o:li2o的摩尔比小于或等于1.3；具有限定了基材厚度(t)的相对的第一和第二表面的基于玻璃的基材；以及应力分布，其包含：从第一表面延伸且包含位于大于或等于7微米的深度的尖峰层深度(dol
sp
)的尖峰区域；和大于或等于50mpa的最大中心张力(ct
max
)。
12.另一个具体方面是基于玻璃的制品，其包括：锂基铝硅酸盐组合物，其中，锂基铝硅酸盐组合物中的na2o:li2o的摩尔比小于或等于1.3；具有限定了基材厚度(t)的相对的第一和第二表面的基于玻璃的基材；以及应力分布，其包含：从第一表面延伸且包含位于大于或等于0.010t的深度的尖峰层深度(dol
sp
)的尖峰区域；和大于或等于50mpa的最大中心张力(ct
max
)。
13.另一个方面是消费者电子产品，包括：具有前表面、背表面和侧表面的外壳；提供成至少部分位于外壳内的电子组件，所述电子组件至少包括控制器、存储器和显示器，所述显示器提供成位于外壳的前表面或者与外壳的前表面相邻；以及布置在显示器上方的覆盖物，其中，外壳和覆盖物中的至少一个的一部分包括根据本文公开的任意方面或实施方式的基于玻璃的制品。
14.在另一个方面中，基于玻璃的制品的制造方法包括：将基础组成中包含氧化钠和氧化锂的基于玻璃的基材暴露于离子交换处理以形成基于玻璃的制品，所述基于玻璃的基材具有限定了基材厚度(t)的相对的第一和第二表面，所述离子交换处理包括：包含钾盐和钠盐和锂盐的第一浴，以及包含钾盐、钠盐和任选的锂盐的第二浴；其中，符合以下要求中的一个：t小于或等于0.74mm；基材包含如下组成，其中，锂基铝硅酸盐组合物中的na2o:li2o的摩尔比小于或等于1.3；或者t小于或等于0.74mm并且基材包含如下组成，其中，锂基铝硅酸盐组合物中的na2o:li2o的摩尔比小于或等于1.3；其中，基于玻璃的制品包括应力分布，其包含从第一表面延伸且包含位于大于或等于0.010t的深度的尖峰层深度(dol
sp
)的尖峰区域；和大于或等于50mpa的最大中心张力(ct
max
)。
附图说明
15.被纳入此说明书并构成说明书的一部分的附图说明了下述的数个实施方式。
16.图1a是结合了任意本文所揭示的基于玻璃的制品的示例性电子装置的平面图；
17.图1b是图1a的示例性电子装置的透视图；
18.图2是根据本文公开的一些实施方式的代表性应力分布；
19.图3是根据本文公开一些实施方式和比较例的尖峰层深度(dol
sp
)与步骤2时间(小时)的关系图；
20.图4是根据本文公开一些实施方式和比较例的中心张力与步骤2时间(小时)的关系图；
21.图5是根据本文公开一些实施方式和比较例的最大压缩应力(cs
max
)与步骤2时间(小时)的关系图；
22.图6是根据本文公开一些实施方式和比较例的尖峰层深度(dol
sp
)与步骤2时间(小时)的关系图；
23.图7是根据本文公开一些实施方式和比较例的中心张力与步骤2时间(小时)的关系图；
24.图8是根据本文公开一些实施方式和比较例的最大压缩应力(cs
max
)与步骤2时间(小时)的关系图；
25.图9是根据本文公开一些实施方式和比较例的尖峰层深度(dol
sp
)与步骤2时间(小时)的关系图；
26.图10是根据本文公开一些实施方式和比较例的中心张力与步骤2时间(小时)的关系图；
27.图11是根据本文公开一些实施方式和比较例的最大压缩应力(cs
max
)与步骤2时间(小时)的关系图；
28.图12是根据本文公开一些实施方式和比较例，对于变化步骤2和3的尖峰层深度(dol
sp
)与步骤1时间(小时)的关系图；
29.图13是根据本文公开一些实施方式和比较例，对于变化步骤2和3的中心张力(ct)与步骤1时间(小时)的关系图；
30.图14是根据本文公开一些实施方式和比较例的最大压缩应力(cs
max
，单位mpa)与步骤1时间(小时)的关系图；
31.图15-16是根据本文公开一些实施方式和比较例，对于第一步骤1时间(小时)和第二步骤浴类型的关系的尖峰层深度(dol
sp
)图；
32.图17是根据本文公开一些实施方式和比较例，对于第一步骤浴与变化第二步骤的中心张力(ct)图；
33.图18-19是根据本文公开一些实施方式和比较例，对于第一步骤1时间(小时)和第三步骤的关系(不同类型的第一步骤浴)的尖峰层深度(dol
sp
)图。
具体实施方式
34.在描述数个示例性实施方式之前，要理解的是，本公开内容不限于以下公开内容中所述的构造或工艺步骤的细节。本文提供的本公开内容能够以各种方式实践或进行其他实施方式。
35.本说明书全文中提到的“一个实施方式”、“某些实施方式”、“各种实施方式”、“一个或多个实施方式”、或者“一种实施方式”表示结合实施方式描述的具体特征、结构、材料或特性包括在本公开内容的至少一个实施方式中。因此，在本说明书全文各个地方出现的短语例如“在一个或多个实施方式中”、“在某些实施方式中”、“在各种实施方式中”、“在一个实施方式中”、或者“在一种实施方式中”不一定涉及同一个实施方式。此外，具体的特征、结构、材料或特性可以任何合适的方式组合在一个或多个实施方式中。
36.定义和测量技术
37.术语“基于玻璃的制品”和“基于玻璃的基材”用于包括完全或部分由玻璃(包括玻璃陶瓷，其包含无定形相和晶相)制得的任意物体。层叠的基于玻璃的制品包括玻璃与非玻璃材料的层叠体，例如，玻璃与晶体材料的层叠体。根据一个或多个实施方式，基于玻璃的
基材可以选自：碱性铝硅酸盐玻璃、含碱性硼硅酸盐玻璃、含碱性铝硼硅酸盐玻璃、以及含碱性磷硅酸盐玻璃。
[0038]“基础组成”是基材在经受任意离子交换(iox)处理之前的化学构成。也就是说，基础组成没有掺杂任何来自iox的离子。当iox处理条件使得iox供给的离子没有扩散进入到基材中心时，经过iox处理的基于玻璃的制品的中心处的组成通常与基础组成相同。在一个或多个实施方式中，玻璃制品的中心处的组成包括基础组成。
[0039]
涉及“化学平衡”指的是基材的基础组成或者制品的中心组成的两种或更多种碱性离子的任何扩散进入到iox浴中的情况小于约10％。
[0040]
要注意的是，本文可以用术语“基本上”和“约”来表示可能由任何定量比较、数值、测量或其它表示方法造成的内在不确定性的程度。在本文中还使用这些术语表示数量的表示值可以与所述的参比值有一定的偏离程度，但是不会导致审议的主题的基本功能改变。因而，例如基本不含“mgo”的玻璃基制品是这样一种基于玻璃的制品，其中，没有主动将mgo添加或者配料到基于玻璃的制品中，但是可能以非常少量(例如，小于0.01摩尔％)作为污染物存在。如本文所用，术语“约”表示量、尺寸、制剂、参数和其他变量和特性不是也不需要是确切的，而是可以按照需要是近似的和/或更大或更小的，反映了容差、转换因子、舍入和测量误差等，以及本领域技术人员已知的其他因素。当使用术语“约”来描述范围的值或端点时，应理解本公开内容包括所参考的具体值或者端点。无论本说明书的数值或者范围的端点有没有陈述“约”，该数值或者范围的端点旨在包括两种实施方式：一种用“约”修饰，一种没有用“约”修饰。例如，“约10摩尔％”旨在公开了用约修饰的值以及确切的10摩尔％的值。还会理解的是，每个范围的端点在与另一个端点有关及独立于另一个端点时都是重要的。
[0041]
除非另有说明，否则本文所述的所有组成是基于氧化物以摩尔百分比(摩尔％)表示。
[0042]“应力分布”是相对于基于玻璃的制品或其任意部分的位置的应力。压缩应力区域从制品的第一表面延伸到压缩深度(doc)，在该位置，制品处于压缩应力。中心张力区域从doc延伸至包括处于拉伸应力的制品的区域。
[0043]
如本文所用，压缩深度(doc)指的是基于玻璃的制品内的应力从压缩变化为拉伸应力的深度。在doc处，应力从正(压缩)应力转变为负(拉伸)应力，因而展现出零应力值。根据机械领域常用习惯，压缩表示为负应力(《0)以及拉伸表示为正应力(》0)。但是，在本说明书全文中，压缩应力(cs)表示为正值或者绝对值，即，本文所陈述的cs＝|cs|。当用于术语“拉伸”时，应力或者中心张力(ct)可以表述为正值，即，ct＝|ct|。中心张力(ct)指的是基于玻璃的制品的中心区域或中心张力区域中的拉伸应力。最大中心张力(最大ct或者ct
max
)存在于标称为0.5t处的中心张力区域中，式中，t是制品厚度，其允许相对于最大拉伸应力的位置的实际中心发生变化。峰值张力(pt)指的是测得的最大张力，其可以位于或者不位于制品的中心处。
[0044]
应力曲线的“拐点”是这样的制品深度，在那里，应力曲线的斜率从陡峭过渡至逐步。
[0045]
相对于金属氧化物而言从第一表面到层深度(dol)发生变化或者至少沿着大部分的制品厚度(t)发生变化的非零金属氧化物浓度表明作为离子交换的结果已经在制品中产
生了应力。金属氧化物浓度的变化在本文中可以被称作金属氧化物浓度梯度。浓度非零并且从第一表面到dol变化的或者沿着一部分的厚度变化的金属氧化物可以被描述为在基于玻璃的制品中产生应力。通过对基于玻璃的基材进行化学强化(其中，基于玻璃的基材中的多种第一金属离子与多种第二金属离子发生交换)，产生了金属氧化物的浓度梯度或变化。
[0046]
如本文所用，术语“交换深度”、“层深度”(dol)、“化学层深度”和“化学层的深度”可以互换使用，大致上描述了对于特定离子通过离子交换过程(iox)推动的离子交换的深度。dol指的是基于玻璃的制品内的如下深度(即，从基于玻璃的制品的表面到其内部区域的距离)，在该深度，金属氧化物或碱金属氧化物的离子(例如，金属离子或碱金属离子)扩散进入到基于玻璃的制品中，在那里，离子的浓度达到最小值或者达到基本类似于基础玻璃组成中的数值，这是通过辉光放电-光发射光谱法(gd-oes)确定得到的。在一些实施方式中，给出的dol是作为通过离子交换(iox)工艺引入的最缓慢扩散离子或最大离子的交换深度。相对于钾的dol(dolk)是玻璃制品的钾含量达到下方基材的钾含量的深度。通过fsm棱镜耦合器来测量拐点应力(csk)所处的尖峰层深度(dol
sp
)。dol
sp
与dolk近似相等。
[0047]
除非另有说明，否则本文所表述的ct和cs的单位是兆帕斯卡(mpa)，厚度表述的单位是毫米(mm)，以及doc和dol所表述的单位是微米(微米或μm)。
[0048]
通过表面应力计(fsm)，采用日本折原实业有限公司(orihara industrial co.,ltd.(japan))制造的商业仪器如fsm-6000，来测量压缩应力(包括表面和/或峰值cs、cs
max
)和dol
sp
。表面应力测量依赖于应力光学系数(soc)的精确测量，其与玻璃的双折射相关。进而根据astm标准c770-16中所述的方案c(玻璃碟的方法)来测量soc，题为“standard test method for measurement of glass stress-optical coefficient(测量玻璃应力-光学系数的标准测试方法)”，其全文通过引用结合入本文。
[0049]
可以通过根据2018年6月22日受让人提交的美国序列号16/015776的方法来测量拐点处的压缩应力csk，其通过引用结合入本文。
[0050]
采用本领域已知的散射光偏光镜(scalp)技术来测量最大中心张力(ct)或峰值张力(pt)以及应力保留值。可以使用折射近场(rnf)方法或者scalp来测量应力分布和压缩深度(doc)。当采用rnf方法来测量应力分布时，在rnf方法中采用scalp提供的最大ct值。具体来说，通过rnf测得的应力分布是作用力平衡的，并且用scalp测量提供的最大ct值进行校准。rnf方法如题为“systems and methods for measuring a profile characteristic of a glass sample(用于测量玻璃样品的分布特性的系统和方法)”的美国专利第8,854,623号所述，其全文通过引用结合入本文。
[0051]
基于玻璃的制品的性质总览
[0052]
本文公开了厚度为t的基于含锂(li)玻璃的制品，其具有改进的应力分布，该应力分布具有优异的尖峰深度(通过钾层深度(dolk)测量)结合大的最大压缩应力(cs
max
)、大的压缩深度(doc)、良好的拐点压缩应力(csk)和良好的中心张力(ct)。具体来说，薄的含li玻璃制品的有利的应力分布具有：增加的尖峰深度(大于或等于7的dolk)结合以下一种或任意组合：cs
max
大于或等于400mpa，包括大于或等于500mpa、大于或等于550mpa、大于或等于600mpa、大于或等于650mpa以及大于或等于700mpa；doc大于或等于0.16
·
t，csk大于或等于90mpa，其中，t大于或等于0.2毫米和/或小于或等于1.3毫米，包括其间的所有值和范围，包括0.65mm、0.6mm、0.5mm、0.4mm和0.3mm。本文的基于玻璃的制品提供了对于数种失效模
式的良好的抗破裂性，包括：深破坏引入、大表面上的挠曲过应力(例如，落球测试中的情况)以及边缘过应力。
[0053]
通常来说，在基于锂基玻璃的基材中，使用两种离子(钠(na)和钾(k))来进行扩散和形成应力分布。作为具有较大离子半径的k，其诱发了更高的应力，但是相比于诱发较低应力但是扩散更快的较小离子半径的na离子而言扩散缓慢。k离子定义了被称作分布尖峰的东西，而na离子定义了分布的深尾部。在这个点之后，进一步的扩散会导致k扩散以及尖峰深度(称作尖峰dol)的增加，但是代价是改变了样品的中部的离子含量并且进一步降低了被称作中心张力(ct)的样品的标称中心处的拉伸应力。更长的扩散时间还导致应力分布的其他区域进一步减小，这是应力分布的尖峰和尾部相遇的区域的情况被称作拐点应力(csk)。
[0054]
相比于无li玻璃，基于含锂玻璃的制品已经显示出对于通过离子交换(化学)强化获得具有非常大的压缩深度的应力分布的优势。具有大的压缩深度和充足的表面压缩应力的分布有时候会导致诸如相对于拐点应力(csk)和/或中心张力的平衡之类的限制。具体来说，实现充足的尖峰层深度(dol
sp
)(例如，大于或等于7.5微米)需要更长的时间使得na从表面扩散进入到基材的深度中。作为结果，在获得所需的dol
sp
之前，已经完全建立起了应力分布的深部分(dol已经基本上最大化了)，并且设计来增加dol
sp
的额外离子交换没有带来明显的doc增加，并且实际上会导致csk发生不合乎希望的下降效应。当寻求同时具有大的dol
sp
、大的cs(例如，大于或等于750mpa)时，这更存在挑战性。具体来说，当以下情况时，会存在这些挑战：当含li玻璃具有小的厚度时，例如：小于或等于0.8mm，或者小于或等于0.74，或者小于或等于7.0，并且具体来说小于或等于0.65mm，例如小于或等于0.6mm，或者小于或等于0.55mm，或者小于或等于.50mm，或者小于或等于0.45mm，或者小于或等于0.40mm，或者小于或等于0.35mm；和/或当含li玻璃的基础组成的na2o:li2o的摩尔比小于或等于1时；和/或当基础组成没有明显的k2o浓度时，包括当基础k2o浓度小于或等于总碱性含量的7％时，和/或小于或等于基础组成的约1.4摩尔％时，并且具体来说，当k2o的基础浓度小于1.3摩尔％，或者小于1.2摩尔％，或者小于1.1摩尔％，或者小于1.0摩尔％，或者小于0.9摩尔％，或者小于0.8摩尔％，或者小于0.7摩尔％，或者小于0.6摩尔％，或者小于0.5摩尔％，或者小于0.45摩尔％，或者小于0.40摩尔％，或者小于0.35摩尔％，或者小于0.30摩尔％。
[0055]
在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品包括大于或等于7微米至小于或等于20微米的dol
sp
，包括其间的所有值和子范围，例如：大于或等于7.5微米至小于或等于15微米，或者大于或等于8微米至小于或等于15微米，或者大于或等于8微米至小于或等于15微米，或者大于或等于8.5微米至小于或等于14.5微米，或者大于或等于9微米至小于或等于14微米，或者大于或等于9.5微米至小于或等于13.5微米，或者大于或等于10微米至小于或等于13微米，或者大于或等于10.5微米至小于或等于12.5微米，或者大于或等于11微米至小于或等于12微米。
[0056]
在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品包括如下dol
sp
：大于或等于0.010t，或者大于或等于0.0125t，或者大于或等于0.015t，或者大于或等于0.0175t，或者大于或等于0.020t，或者大于或等于0.025t，和/或小于或等于0.050t，以及其间的所有值和子范围。
[0057]
在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品包括大于或等于7微米至小于或等于
20微米的dol
sp
(包括其间的任意和全部值和子范围，例如：大于或等于7.5微米至小于或等于15微米，以及大于或等于8微米至小于或等于15微米)以及以下特征中的一种或组合：厚度大于或等于0.02毫米至小于或等于1.3毫米，例如：大于或等于0.05毫米至小于或等于1毫米，包括小于或等于0.8毫米、0.74、或者小于或等于7.0，并且具体来说，小于或等于0.65mm，例如小于或等于0.6mm、或者小于或等于0.55mm、或者小于或等于.50mm、或者小于或等于0.45mm、或者小于或等于0.40mm、或者小于或等于0.35mm；拐点压缩应力(csk)大于或等于85mpa，包括大于或等于90mpa；和/或中心张力(ct)大于或等于60mpa；和/或最大压缩应力(cs
max
)大于或等于400mpa，例如：大于或等于450mpa、大于或等于500mpa、大于或等于550mpa、大于或等于600mpa、大于或等于650mpa、大于或等于700mpa、大于或等于750mpa；和/或压缩深度(doc)大于或等于0.16t；和/或基础组成包含的na2o:li2o的摩尔比小于或等于1.3且大于或等于0.16，例如：小于或等于1.2，或者小于或等于1.1，或者小于或等于1.0，或者小于或等于0.9，或者小于或等于0.8，或者小于或等于0.7，或者小于或等于0.6，或者小于或等于0.5，或者小于或等于0.4，或者小于或等于0.3，包括其间的所有值和子范围，包括0.63和0.29。
[0058]
本公开内容采用在玻璃制品的近表面层富集钾离子(k)同时建立应力分布的深部分的工艺。图2提供了根据本文公开的方法制造的根据本文公开的一些实施方式(本文讨论的实施例29)的一半制品厚度的非限制性代表性建模应力分布。在图2中，500微米厚度，最大压缩应力(cs
max
)约为717mpa，拐点压缩应力(csk)是约110至约120mpa，尖峰层深度(dol
sp
)约为10.7微米(0.0214t)，压缩深度(doc)是约89至约94微米(0.19t)，以及中心张力(ct)是约64至约70mpa。尖峰区域从表面(0微米)延伸到dol
sp
。难以精确地指出分布的尖峰与尾部之间发生过渡的具体渐近点，但是总体上来说，应力分布位于尖峰区域中的所有点包括斜率的绝对值是20mpa/微米或更大的正切，以及应力分布位于尾部区域中的所有点所包括的正切的斜率绝对值小于尖峰区域的正切的斜率绝对值，例如：小于20mpa/微米，或者小于15mpa/微米，或者小于10mpa/微米，或者小于5mpa/微米，或者小于4mpa/微米，或者小于3mpa/微米，或者小于2mpa/微米。
[0059]
在这些工艺中，多步骤离子交换处理的第一步骤产生了：玻璃的表面中的明显尖峰区域，加上朝向制品的中心的应力分布的衰减尾部。第二步骤在没有对尖峰区域造成干扰的情况下形成应力分布的尾部区域。相比于先前的二步骤离子交换工艺(或者双离子交换工艺或diox)，本文方法是相反顺序，其通常依赖于第一步骤在基材内产生应力分布的较深部分，例如采用的浴是例如50重量％kno3/50重量％nano3(380℃持续4小时)，之后采用第二步骤来赋予靠近表面处的尖峰，例如采用的浴是90重量％kno3/10重量％nano3(20分钟)。
[0060]
本文公开的方法所实现的应力分布的优势在于，对于薄的制品实现的深的dol
sp
值。并且相信深的dol
sp
值和/或高的csk值对于基于玻璃的制品实现更好的跌落性能是有利的。
[0061]
应力分布可以包括：从第一表面延伸到尾部区域的尖峰区域；以及延伸到基于玻璃的制品的中心的尾部区域；其中，应力分布位于尖峰区域中的所有点包括斜率绝对值是20mpa/微米或更大的正切，以及应力分布位于尾部区域中的所有点包括斜率绝对值小于尖峰区域的正切的斜率绝对值的正切。
[0062]
在基于玻璃的制品中，存在具有非零浓度的金属氧化物，所述非零浓度从第一表
面到相对于金属氧化物的层深度(dol)是变化的。在一个或多个实施方式中，具有从第一表面开始是变化的非零浓度的金属氧化物是钾，具有dolk。由于从第一表面开始变化的金属氧化物的非零浓度产生了应力分布。非零浓度可以沿着一部分的制品厚度是变化的。在一些实施方式中，沿着从0t到约为0.3t的厚度范围，金属氧化物的浓度是非零的并且是变化的。在一些实施方式中，金属氧化物(例如钾)的浓度是非零的并且沿着如下厚度范围是变化的：0t到约0.050t，或者0t到约0.0.25t，或者0t到约0.020t，或者0t到约0.0175t，或者0t到约0.015t，或者0t到约0.0125t，或者0t到约0.010t。在一些实施方式中，浓度的变化可能沿着上述厚度范围是连续的。浓度的变化可以包括从表面到dol(例如，dolk)的金属氧化物浓度变化至少约0.2摩尔％。在一些实施方式中，从表面到dol(例如dolk)，金属氧化物浓度变化可以是至少约0.3摩尔％，或者至少约0.4摩尔％，或者至少约0.5摩尔％。可以通过本领域已知方法(包括微探针)来测量这种变化。
[0063]
在一些实施方式中，沿着约10微米至约30微米的厚度区段，浓度变化可以是连续的。在一些实施方式中，金属氧化物的浓度从第一表面降低到位于第一表面和第二表面之间的一个点处的一个值，并且从该值增加到第二表面。
[0064]
金属氧化物的浓度可以包括不止一种金属氧化物(例如，na2o和k2o的组合)。在一些实施方式中，当采用两种金属氧化物以及当离子半径相互不同时，在浅深度处，具有较大半径的离子的浓度大于具有较小半径的离子的浓度，而在较深深度处，具有较小半径的离子的浓度大于具有较大半径的离子的浓度。例如，当在离子交换过程中使用含有na和k的单个浴时，在较浅深度处，玻璃基制品中的k
+
离子的浓度大于na
+
离子的浓度，而在较深深度处，na
+
离子的浓度大于k
+
离子的浓度。这至少部分是由于与较小单价离子发生交换进入到玻璃中的单价离子的尺寸所导致的。在此类基于玻璃的制品中，由于表面处或者靠近表面处的更大量的较大离子(例如，k
+
离子)，表面处的区域或者靠近表面处的区域包括较大的cs。此外，应力分布的斜率通常随着距离表面的距离而减小，这是由于从固定表面浓度的化学扩散所实现的浓度分布的特性所导致的。
[0065]
在一个或多个实施方式中，金属氧化物浓度梯度延伸穿过大部分的制品厚度t。在一些实施方式中，金属氧化物的浓度可以沿着第一和/或第二区段的整个厚度是约0.5摩尔％或更大(例如，约1摩尔％或更大)，并且在第一表面和/或第二表面0t处最大，以及基本恒定地降低至第一表面与第二表面之间的一个点处的值。在该点，金属氧化物的浓度是沿着整个厚度t最小的；但是，浓度在该点也可以是非零的。换言之，该特定金属氧化物的非零浓度沿着大部分的厚度t(如本文所述)或者沿着整个厚度t延伸。基于玻璃的制品中的该特定金属氧化物的总浓度可以是约1摩尔％至约20摩尔％。
[0066]
可以通过经过离子交换以形成基于玻璃的制品的基于玻璃的基材中的金属氧化物的基线量，来确定金属氧化物的浓度。
[0067]
在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品包括大于或等于0.16t的压缩深度(doc)，包括：大于或等于0.17t，大于或等于0.18t，大于或等于0.19t，大于或等于0.20t，大于或等于0.21t，大于或等于0.22t，大于或等于0.23t，大于或等于0.24t，或者更深。
[0068]
在一个或多个实施方式中，应力分布位于尖峰区域中的所有点包括斜率绝对值是20mpa/微米或更大的正切。
[0069]
在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品包括可以大于或等于400mpa的最大压
缩应力(cs
max
，标称在第一表面处)。例如，cs
max
可以大于或等于450mpa且小于或等于1200mpa，大于或等于500mpa至小于或等于1100mpa，大于或等于550mpa至小于或等于1050mpa，大于或等于600mpa至小于或等于1000mpa，大于或等于650mpa至小于或等于950mpa，大于或等于700mpa至小于或等于950mpa，大于或等于700mpa至小于或等于900mpa，大于或等于700mpa至小于或等于850mpa，大于或等于700mpa至小于或等于800mpa，或者约750mpa，以及其间的所有值和子范围。
[0070]
在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品包括相对于厚度而言大于或等于0.010t的尖峰层深度(dol
sp
)，包括：大于或等于0.0125t，大于或等于0.015t，大于或等于0.0175t，大于或等于0.020t，大于或等于0.0215t，或者更深。
[0071]
在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品包括如下厚度：大于或等于0.02毫米至小于或等于1.3毫米，大于或等于0.05毫米至小于或等于1毫米，包括：小于或等于0.8毫米，0.74，或者小于或等于7.0，并且具体来说小于或等于0.65mm，例如小于或等于0.6mm，或者小于或等于0.55mm，或者小于或等于.50mm，或者小于或等于0.45mm，或者小于或等于0.40mm，或者小于或等于0.35mm。
[0072]
在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品包括大于或等于70mpa至小于或等于180mpa的拐点压缩应力(csk)，包括其间的所有值和子范围，包括：大于或等于75mpa，大于或等于80mpa，大于或等于85mpa，大于或等于90mpa，或者大于或等于95mpa，或者大于或等于100mpa，或者大于或等于110mpa，或者大于或等于120mpa，或者大于或等于125mpa，或者大于或等于130mpa，或者大于或等于135mpa，或者大于或等于140mpa，或者大于或等于145mpa，大于或等于150mpa，大于或等于155mpa，大于或等于160mpa，大于或等于165mpa，大于或等于170mpa，或者大于或等于175mpa。
[0073]
在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品包括大于或等于50mpa至小于或等于120mpa的中心张力(ct，或者ct
max
)，包括其间的所有值和子范围，包括：大于或等于52mpa，或者大于或等于55mpa，或者大于或等于60mpa，或者大于或等于65mpa，或者大于或等于70mpa，或者大于或等于75mpa，或者大于或等于80mpa，或者大于或等于85mpa，或者大于或等于90mpa，或者大于或等于100mpa，或者大于或等于115mpa。
[0074]
在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品包括的基础组成具有小于或等于1.3且大于或等于0.16的na2o:li2o摩尔比，例如：小于或等于1.2，或者小于或等于1.1，或者小于或等于1.0，或者小于或等于0.9，或者小于或等于0.8，或者小于或等于0.7，或者小于或等于0.6，或者小于或等于0.5，或者小于或等于0.4，或者小于或等于0.3，包括其间的所有值和子范围，包括0.63和0.29。
[0075]
在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品包括的基础组成具有小于或等于1.3且大于或等于0.16的na2o:li2o摩尔比，例如：小于或等于1.2，或者小于或等于1.1，或者小于或等于1.0，或者小于或等于0.9，或者小于或等于0.8，或者小于或等于0.7，或者小于或等于0.6，或者小于或等于0.5，或者小于或等于0.4，或者小于或等于0.3，包括其间的所有值和子范围，包括0.63和0.29。
[0076]
在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品在表面上包含li2o的浓度是大于或等于0.6摩尔％，或者大于或等于1摩尔％，或者大于或等于1.4摩尔％。
[0077]
在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品在表面上包含li2o的浓度是大于或等
于0.6摩尔％，或者大于或等于1摩尔％，或者大于或等于1.4摩尔％，结合大于或等于70mpa至小于或等于100mpa的拐点压缩应力(csk)，包括其间的所有值和子范围。
[0078]
基于玻璃的基材
[0079]
可以用作基材的玻璃例子可以包括碱性铝硅酸盐玻璃组合物或者含碱性铝硼硅酸盐玻璃组合物，但是也考虑其他玻璃组合物。此类玻璃组合物可以表征为可离子交换的。如本文所用，“可离子交换”是指基材包含的组成能够实现尺寸更大或更小的同价态阳离子与位于基材表面处或附近的阳离子发生交换。
[0080]
在一些实施方式中，基材可以包括含锂碱性铝硅酸盐玻璃。在一些实施方式中，含锂碱性铝硅酸盐玻璃具有如下组成，以摩尔％计，其包含：sio2的量是约60％至约75％，al2o3的量是约12％至约20％，b2o3的量是约0％至约5％，li2o的量是约2％至约8％，na2o的量是大于约4％，mgo的量是约0％至约5％，zno的量是约0％至约3％，cao的量是约0％至约5％，以及p2o5是非零量，其中，玻璃基材是可离子交换的以及是无定形的，其中，组合物中的al2o3和na2o的总量大于约15摩尔％。
[0081]
在实施方式中，可以由能够形成所述的应力分布的任何组合物形成基于玻璃的基材。在一些实施方式中，可以由2018年11月28日提交的题为“glasses with low excess modifier content(具有低的过度改性剂含量的玻璃)”的美国申请第16/202,691号所述的玻璃组合物形成基于玻璃的基材，其全文通过引用结合入本文。在一些实施方式中，可以由2018年11月28日提交的题为“ion-exchangeable mixed alkali aluminosilicate glasses(可离子交换的混合的碱性铝硅酸盐玻璃)”的美国申请第16/202,767号所述的玻璃组合物形成玻璃制品，其全文通过引用结合入本文。
[0082]
可以通过其形成的方式来对基于玻璃的基材进行表征。例如，基于玻璃的基材可以表征为可浮法成形(即，通过浮法工艺形成)、可下拉成形，具体地，可熔合成形或者可狭缝拉制(即，通过下拉工艺例如熔合拉制工艺或者狭缝拉制工艺形成)。在实施方式中，基于玻璃的基材可以是辊制形成的。
[0083]
可以通过使得熔融玻璃浮动在熔融金属(通常是锡)床上以产生浮法玻璃所制备的基于玻璃的基材的特征在于光滑表面和均匀厚度。在示例性工艺中，将熔融玻璃进料到熔融锡床表面上，形成浮动玻璃带。随着玻璃带沿着锡浴流动，温度逐渐降低直至玻璃带固化成固体的基于玻璃的基材，可以将其从锡上举起到辊上。一旦离开浴，可以对基于玻璃的基材进行进一步冷却，退火以降低内应力，和进行任选的抛光。
[0084]
本文所述的基于玻璃的基材的一些实施方式可以通过下拉工艺形成。下拉工艺生产具有均匀厚度的基于玻璃的基材，所述基于玻璃的基材具有较原始的表面。因为玻璃制品的平均挠曲强度受到表面瑕疵的量和尺寸的控制，因此接触程度最小的原始表面具有较高的初始强度。下拉的基于玻璃的基材可以被拉制成小于约2mm的厚度。此外，下拉玻璃制品具有非常平坦、光滑的表面，其可以不经高成本的研磨和抛光就用于最终应用。
[0085]
基于玻璃的制品的一些实施方式可以描述为可熔合成形(即，可以采用熔合拉制工艺成形)。熔合工艺使用拉制罐，其具有用来接受熔融玻璃原料的通道。通道具有堰，其沿着通道的长度在通道两侧的顶部开放。当用熔融材料填充通道时，熔融玻璃从堰溢流。在重力的作用下，熔融玻璃从拉制罐的外表面作为两个流动玻璃膜流下。这些拉制罐的外表面向下和向内延伸，使得它们在拉制罐下方的边缘处接合。这两个流动的玻璃膜在这个边缘
相聚并熔合和形成单个流动的玻璃制品，这包括可以通过显微镜检测到的位于制品的中心处或者中心附近的熔合线。熔合拉制法的优点在于：由于从通道溢流的两个玻璃膜熔合在一起，因此所得到的玻璃制品的任一外表面都没有与设备的任意部件相接触。因此，熔合拉制玻璃制品的表面性质不受到此类接触的影响。
[0086]
本文所述的基于玻璃的基材的一些实施方式可以通过狭缝拉制工艺形成。狭缝拉制工艺与熔合拉制方法不同。在狭缝拉制工艺中，向拉制罐提供熔融原材料玻璃。拉制罐的底部具有开放狭缝，其具有沿着狭缝的长度延伸的喷嘴。熔融玻璃流过狭缝和/或喷嘴，以连续的制品下拉并进入退火区。
[0087]
离子交换(iox)处理
[0088]
通过如下方式完成对具有基础组成的玻璃基材进行化学强化：将可离子交换玻璃基材放入含有阳离子(k
+
、na
+
、ag
+
等)的熔融浴中，所述阳离子(k
+
、na
+
、ag
+
等)扩散进入玻璃的同时玻璃的较小碱性离子(na
+
、li
+
)扩散出来进入熔融浴。用较大阳离子替换较小的那些在靠近玻璃的顶表面处产生压缩应力。在玻璃的内部中产生拉伸应力，从而平衡压缩应力。
[0089]
对于离子交换工艺，它们可以独立地是热扩散工艺或者电扩散工艺。其他额外强化处理可以选自下组：离子交换、热退火、热回火，及其组合。
[0090]
在进行了离子交换过程之后，应理解的是，基于玻璃的制品的表面处的组成可能不同于刚形成的基于玻璃的基材(即，基于玻璃的物体在其经过离子交换过程之前)的组成。这来源于刚形成的基于玻璃的基材中的一种类型的碱金属离子(例如，li
+
或na
+
)分别被较大的碱金属离子(例如，na
+
或k
+
)所替代。但是，在实施方式中，在基于玻璃的制品的深度中心处或者靠近深度中心处的组成仍然会具有刚形成的基于玻璃的基材的组成。
[0091]
一些实施方式包括通过在盐中进行交换使得基于玻璃的制品的近表面层富集钾离子(k)的过程，其基本没有改变基于玻璃的制品的内部(例如，明显比尖峰更深的深度处)的na与li之间的比例。以如下方式对经由离子交换获得此类富集的盐进行选择，使得制品的重量变化在此类离子交换之后优选小于约0.1(1+0.02/t)％，这表明仅钾离子被交换到制品中(因为如果以锂(li)作为代价使得制品的平均化学组成存在明显钠(na)富集的话，会预期具有明显增重；并且如果以na作为代价使得制品的平均化学组成存在明显li富集的话，会预期明显的重量损失)，其中，t是制品或基材的厚度，单位是mm。在本公开内容的大多数例子中，由于k富集所导致的增重可以被认为是可忽略不计的，这是由于相比于玻璃厚度而言，k富集是较浅区域(dol
sp
通常小于厚度的4-5％)。示例性盐浴主要包含kno3，和小于或等于2重量％的lino3和nano总和，其中，通过使得浴中不具有显著量的lino3和nano3避免了玻璃内部的na:li比例的明显改变。在这种情况下，可以在k富集之后采用热处理步骤，使得在初始浓缩表面富集之后使得玻璃中的k分布变深，从而在热处理之后，k分布实现了4至20微米，优选6至15微米的深度范围。
[0092]
一些实施方式包括通过在盐中进行交换使得基于玻璃的制品的近表面层富集钾离子(k)的过程，这还使得玻璃制品的内部(例如，明显比尖峰更深的深度处)li相对于na富集。在这些实施方式中，相对于基材基础组成，制品内部的na/li摩尔比下降。以如下方式对经由离子交换获得此类富集的盐进行选择，使得在离子交换过程中制品损失重量，并且重量损失是：约0.1％至约3％，约0.1％至约2％，约0.1％至约1.5％，约0.1％至约1％，约0.1％至约0.7％，约0.1％至约0.5％，或者约0.1％至约0.35％，这取决于初始玻璃组成以
及k和li富集的步骤数。在多步骤富集工艺中，第一步骤可以优选包括这样的离子交换，其重量变化明显小于后续步骤，例如增重或损失小于0.1(1+0.02/t)％，式中，t是厚度(单位mm)，或者其中，观察到0.1至0.35％的重量损失。
[0093]
一些实施方式包括使用盐的特定混合物，包括例如：包含kno3、lino3和nano3的k富集硝酸盐混合物，用于实现玻璃制品的k富集，使得玻璃内部(例如，在大于约0.010t深度处)的na:li之比具有有限的变化或者没有变化。用于锂基玻璃的示例性k富集组合物是：55重量％nano3、15重量％lino3和30重量％kno3，其有利地用于基础组成的na2o:li2o摩尔比为1.69或者大于1.3的玻璃基材，但不限于此。用于锂基玻璃的另一示例性k富集组合物是：2重量％nano3、8重量％lino3和90重量％kno3，其有利地用于基础组成的na2o:li2o摩尔比为0.63，或者小于1.3，例如小于或等于1.3且大于或等于0.16，例如小于或等于1.2，或者小于或等于1.1，或者小于或等于1.0，或者小于或等于0.9，或者小于或等于0.8，或者小于或等于0.7，或者小于或等于0.6，或者小于或等于0.5，或者小于或等于0.4，或者小于或等于0.3，包括其间的所有值和子范围，包括0.63和0.29的玻璃基材，但不限于此。
[0094]
最终产品
[0095]
本文所揭示的基于玻璃的制品可以被整合到另一制品中，例如具有显示器的制品(或显示器制品)(例如，消费者电子件，包括移动电话、平板、电脑、手表和导航系统等)，建筑制品，运输制品(例如，车辆、火车、飞行器、航海器等)，电器制品，或者任何可以受益于部分透明性、耐划痕性、耐磨性或其组合的制品。图1a和1b。具体来说，图1a和1b显示消费者电子装置100，其包括：具有前表面104、后表面106和侧表面108的外壳102；(未示出的)电子组件，其至少部分位于或者完全位于外壳内并且至少包括控制器、存储器和位于外壳的前表面或者与外壳的前表面相邻的显示器110；以及位于外壳的前表面或者在外壳的前表面上方的盖板112，从而使其位于显示器上方。在一些实施方式中，盖板112的至少一部分可以包括任何本文所揭示的基于玻璃的制品。在一些实施方式中，外壳102的至少一部分可以包括任何本文所揭示的基于玻璃的制品。
[0096]
实施例
[0097]
通过以下实施例进一步阐述各个实施方式。在实施例中，在经过强化之前，将实施例称作“基材”。在经过强化之后，将实施例称作“制品”或者“基于玻璃的制品”。
[0098]
实施例基于以下组成中的一种。
[0099]
组合物a是基于锂基玻璃的基材，其具有如下基础组成：63.27摩尔％sio2、6.73摩尔％b2o3、15.17摩尔％al2o3、4.32摩尔％na2o、6.86摩尔％li2o、1.02摩尔％mgo、0.02摩尔％fe2o3、1.03摩尔％sro、0.07摩尔％sno2和1.55摩尔％cao。基础组成的na2o:li2o摩尔比是0.63，这小于1.3，例如：小于1.2，或者小于1.1，或者小于1.0，或者小于0.9，或者小于0.8，或者小于0.7。
[0100]
组合物b是基于锂基玻璃的基材，其具有如下基础组成：64.13摩尔％sio2、15.98摩尔％al2o3、10.86摩尔％na2o、0.03摩尔％k2o、6.42摩尔％li2o、0.08摩尔％mgo、1.17摩尔％zno、0.04摩尔％sno2、1.24摩尔％p2o5和0.02摩尔％cao。基础组成的na2o:li2o摩尔比是1.69，这大于1.0，例如：大于或等于1.1，或者大于会等于1.2，或者大于或等于1.3。
[0101]
采用爱沙尼亚(estonia)的玻璃应力(glasstress)公司的scalp-5通过散射偏振法来测量中心张力(ct)。
[0102]
通过根据2018年6月22日受让人提交的美国序列号16/015776的方法来测量拐点处的压缩应力csk，其通过引用结合入本文。
[0103]
在下文中，通过日本折原fsm-6000le测量“记录的fsm最大压缩应力(cs
max
)”和“尖峰层深度(dol
sp
)”。fsm测量允许存在于表面处的最大cs(cs
max
)，并且cs随深度单调减小，从而可以采用棱镜耦合从模谱测量得到表面处的最大cs。然后，通过如下给出记录的fsm最大cs：
[0104][0105]
从通过棱镜耦合测得的tm和te模谱中的最初两个条纹的位置处得到横向磁(tm)和横向电(te)偏振状态的表面折射率n
tmsurf
和n
tesurf
。fsm软件使用：
[0106]
和
[0107][0108]
这代表了当可能存在应力松弛和/或浸后扩散的明显影响时的一般情况的良好近似。
[0109]
之后，参考表面应力(cs
表面
)，通过采用不同的系数改变fsm软件，允许在低于400℃进行离子交换的玻璃(可忽略不计的应力松弛)和当进行快速的离子交换后冷却的玻璃(例如，避免了明显的浸后扩散)，这可以准确地近似为从表面到第二模深度(第二模的转变点)的线性分布。在这种情况下，在cs
max
等式中使用如下变化形式来计算cs
表面
，其中，“(lin)”指的是线性近似：
[0110][0111][0112]
实施例1-4和实施例a(比较例)
[0113]
由50mm x 50mm x 0.5mm厚的组成a的基于玻璃的基材来形成基于玻璃的制品。
[0114]
对于实施例1-4，进行两步骤离子交换(iox)处理。步骤二的持续时间相对于步骤一发生变化。在开始处理之前，样品在去离子水(di)中清洗，用丙酮擦拭干净，以及用高精度天平称重。
[0115]
样品预热10至15分钟从而接近离子交换温度。第一步骤包括：在第一iox浴中进行双侧离子交换，所述第一iox浴具有如下组成：90重量％kno3、8重量％lino3和2重量％nano3，并且温度为420℃。不同样品在第一步骤浴中分别进行2、4、5.2和7.8小时的离子交换，然后单独进行表征。在第一步骤离子交换之后的清洁包括用去离子水清洗样品从而去除残留盐，然后用浸泡在丙酮中的布擦拭干净。
[0116]
然后，样品在不锈钢装置器中预热，结合设定为300℃的热板上10分钟，所述热板覆盖了500ml玻璃烧瓶从而将热量保持在其中。这之后是设定在430℃的离子交换室内3分钟，来确保有限的分布变化或者确保没有分布变化。初始第二步骤包括第二iox浴中双侧离子交换，所述第二iox浴具有如下组成：85重量％kno3和15重量％nano3，430℃的温度，以及2
小时的持续时间。在初始第二步骤离子交换之后的清洁包括用去离子水清洗样品从而去除残留盐，然后用浸泡在丙酮中的布擦拭干净。
[0117]
在初始第二步骤之后是430℃的相同的85重量％kno3和15重量％nano3的浴中的多次后续步骤。每个后续时间点的预热如下：样品在不锈钢装置器中，结合设定为300℃的热板上10分钟，所述热板覆盖了500ml玻璃烧瓶从而将热量保持在其中。这之后是设定在430℃的离子交换室内3分钟，来确保几乎没有分布变化或者确保没有分布变化。然后，将样品放在盐浴内持续某一时间量。初始2小时之后的时间点如下：30分钟，总计2.5小时；加上30分钟，总计3小时；加上30分钟，总计3.5小时；加上45分钟，总计4.25小时；加上1小时，总计5.25小时。在每次离子交换之前，样品具有如上文所述相同的预热：热板上10分钟以及室中3分钟。每个第二步骤离子交换之后的清洁包括用去离子水清洗样品从而去除残留盐，然后用浸泡在丙酮中的布擦拭干净。
[0118]
对于实施例a，仅采用第二iox浴进行对比单步骤离子交换处理。也就是说，第一步骤的持续时间为0小时(h)。
[0119]
表1提供了每个实施例的条件总结以及所得到的记录的fsm最大压缩应力(cs
max
)、表面应力(cs
表面
)、尖峰层深度(dol
sp
)和中心张力(ct)。实施例1-4在第2步骤之后的拐点压缩应力(csk)的值在118+20/-15mpa范围内。
[0120]
表1
[0121]
[0122][0123]
对于基于表1的实施例1-4和实施例a(比较例)，图3是尖峰层深度(dol
sp
)与步骤2时间(小时)的关系图，图4是中心张力与步骤2时间(小时)的关系图，以及图5是最大压缩应力(cs
max
)与步骤2时间(小时)的关系图。
[0124]
对于dol
sp
，表1的数据和图3显示样品留在第一步骤浴中越久，dol
sp
的值越高，导致2至2.3μm的增加。此外，样品留在第二步骤浴中越久，实现了更高的dol
sp
。以7.8小时第一步骤(实施例4)和5.25小时第二步骤实现了8.8μm的最高dol
sp
值。
[0125]
对于ct，表1和图4显示了实施例1-4的ct损失，它们经受了第一步骤浴、最高至4.25小时的第二步骤，相比较而言，实施例a(比较例)没有第一步骤离子交换。这是对于具有更高dol
sp
的妥协。在5.25小时，实施例1-4的ct值高于实施例a(比较例)或者与其相当。
[0126]
对于cs
max
，在恒定的第二步骤持续时间，表1和图5显示实施例1-4相对于实施例a(比较例)而言相当的数值，注意到的是，对于实施例a(比较例)，由于fsm 6000对于测量少于2个条纹的样品的限制，没有包含2小时或者2.5小时的cs
max
。
[0127]
实施例1-4显示在第一步骤之后的重量损失范围的绝对值是0.0027％至0.038％，这在表1中显示为负的百分比增重。
[0128]
表1和图3-5显示在任意给定第二步骤时间，对于每个实施例cs
max
保持大致相同，但是在相同的第二步骤时间，ct随着第一步骤1时间的增加而减小。不旨在受限于理论，预尖峰化(第一步骤)的存在增加了后续na富集步骤(第二步骤)中达到最大ct所需的时间。这有助于实现更高的dol
sp
，因为预尖峰化提供了一些k，并且同时还因为在还提供了na分布的后续步骤中给予了k更多的时间变得更深入。
[0129]
实施例5-8和实施例b(比较例)
[0130]
由50mm x 50mm x 0.5mm厚的组成a的基于玻璃的基材来形成基于玻璃的制品。
[0131]
对于实施例5-8，以类似于实施例1-4的方式进行二步骤离子交换(iox)处理，差异在于第一iox浴组成和第一步骤持续时间以及初始第二步骤之后的第二步骤持续时间。第一步骤包括：在第一iox浴中进行双侧离子交换，所述第一iox浴具有如下组成：80重量％kno3、16重量％lino3和4重量％nano3，并且温度为420℃。不同样品在第一步骤中分别进行
3、6、9和12小时的离子交换。
[0132]
对于第二步骤，初始2小时之后的时间点如下：36分钟，总计2.6小时；加上42分钟，总计3.3小时；加上57分钟，总计4.25小时；加上60分钟，总计5.25小时。在430℃的85重量％kno3和15重量％nano3浴中进行第二步骤。
[0133]
对于实施例b，仅采用第二iox浴进行对比单步骤离子交换处理。也就是说，第一步骤的持续时间为0小时。
[0134]
表2提供了每个实施例的条件总结以及所得到的记录的fsm最大压缩应力(cs
max
)、表面应力(cs
表面
)、尖峰层深度(dol
sp
)和中心张力(ct)。实施例5-8在第2步骤之后的拐点压缩应力(csk)的值在139+20/-15mpa范围内。
[0135]
表2
[0136][0137]
对于基于表2的实施例5-8和实施例b(比较例)，图6是尖峰层深度(dol
sp
)与步骤2时间(小时)的关系图，图7是中心张力与步骤2时间(小时)的关系图，以及图8是最大压缩应力(cs
max
)与步骤2时间(小时)的关系图。
[0138]
对于dol
sp
，表2的数据和图6显示样品留在第一步骤浴中越久，dol
sp
的值越高，导致0.6至1μm的增加。此外，样品留在第二步骤浴中越久，实现了更高的dol
sp
。以9小时第一步骤(实施例7)和5.25小时第二步骤实现了7.8μm的最高dol
sp
值。
[0139]
对于ct，表2和图7显示了实施例5-8的ct损失，它们经受了第一步骤浴、最高至4.25小时的第二步骤，相比较而言，实施例b(比较例)没有第一步骤离子交换。这是对于具有更高dol
sp
的妥协。在5.25小时，实施例5-8的ct值高于实施例b(比较例)。
[0140]
对于cs
max
，在恒定的第二步骤持续时间，表2和图8显示实施例5-8相对于实施例b(比较例)而言相当的数值，注意到的是，对于实施例b(比较例)，由于fsm 6000对于测量少于2个条纹的样品的限制，没有包含2小时或者2.6小时的cs
max
。
[0141]
当以dol
sp
为优先时，则优选条件是对于第一步骤和第二步骤都具有更长时间的那几个。
[0142]
当dol
sp
和ct同时为优先考虑并且对于生产效率(短的iox时间)也感兴趣时，则可以优选较短的预尖峰化步骤(第一步骤)，这也有助于缩短na富集步骤(以更小dol
sp
为折衷)。
[0143]
实施例5-8显示在第一步骤之后的重量损失范围的绝对值是0.053％至0.11％，这在表2中显示为负的百分比增重。
[0144]
实施例9-12和实施例c(比较例)
[0145]
由50mm x 50mm x 0.4mm厚的组成a的基于玻璃的基材来形成基于玻璃的制品。
[0146]
对于实施例9-12，以类似于实施例1-4的方式进行二步骤离子交换(iox)处理，差异在于第一iox浴组成和第一步骤持续时间以及初始第二步骤持续时间和初始第二步骤之后的第二步骤持续时间。第一步骤与实施例5-8相同，这包括：在第一iox浴中进行双侧离子交换，所述第一iox浴具有如下组成：80重量％kno3、16重量％lino3和4重量％nano3，并且温度为420℃。不同样品在第一步骤浴中分别进行3、6、9和12小时的离子交换。
[0147]
对于第二步骤，初始第二步骤持续时间为1小时。初始1小时之后的时间点如下：30分钟，总计1.5小时；加上30分钟，总计2小时；加上30分钟，总计2.5小时；加上30分钟，总计3小时；加上45分钟，总计3.75小时。在温度为430℃的组成为85重量％kno3、15重量％nano3的浴中进行第二步骤。
[0148]
对于实施例c，仅采用第二iox浴进行对比单步骤离子交换处理。也就是说，第一步骤的持续时间为0小时。
[0149]
表3提供了每个实施例的条件总结以及所得到的记录的fsm最大压缩应力(cs
max
)、表面应力(cs
表面
)、尖峰层深度(dol
sp
)和中心张力(ct)。实施例9-12在第2步骤之后的拐点压缩应力(csk)的值在127+20/-15mpa范围内。
[0150]
表3
[0151]
[0152][0153]
对于基于表3的实施例9-12和实施例c(比较例)，图9是尖峰层深度(dol
sp
)与步骤2时间(小时)的关系图，图10是中心张力与步骤2时间(小时)的关系图，以及图11是最大压缩应力(cs
max
)与步骤2时间(小时)的关系图。
[0154]
对于dol
sp
，表3的数据和图9显示样品留在第一步骤浴中越久，dol
sp
的值越高，导致1至1.3μm的增加。此外，样品留在第二步骤浴中越久，实现了更高的dol
sp
。以12小时第一步骤(实施例12)和3.75小时第二步骤实现了7.3μm的最高dol
sp
值。
[0155]
对于ct，表3和图10显示了实施例9-12的ct损失，它们经受了第一步骤浴、最高至3小时的第二步骤，相比较而言，实施例c(比较例)没有第一步骤离子交换。这是对于具有更高dol
sp
的妥协。在3.75小时，实施例9-12的ct值高于实施例c(比较例)。
[0156]
对于cs
max
，在恒定的第二步骤持续时间，表3和图11显示实施例9-12相对于实施例c(比较例)而言相当的数值，注意到的是，对于实施例c(比较例)，由于fsm 6000对于测量少于2个条纹的样品的限制，没有包含1小时、1.5小时或者2.5小时的cs
max
。
[0157]
当以dol
sp
为优先时，则优选条件是对于第一步骤和第二步骤都具有更长时间的那几个。
[0158]
当dol
sp
和ct同时为优先考虑并且对于生产效率(短的iox时间)也感兴趣时，则可
以优选较短的预尖峰化步骤(第一步骤)，这也有助于缩短na富集步骤(以更小dol
sp
为折衷)。
[0159]
实施例9-12显示在第一步骤之后的重量损失范围的绝对值是0.064％至0.13％，这在表3中显示为负的百分比增重。
[0160]
实施例13-16和实施例d(比较例)
[0161]
由50mm x 50mm x 0.8mm厚的组成a的基于玻璃的基材来形成基于玻璃的制品。
[0162]
对于实施例13-16，进行三步骤离子交换(iox)处理。第一步骤的进行类似于实施例1-4，包括浴组成为：90重量％kno3、8重量％lino3和2重量％nano3，并且温度为420℃，不同之处在于第一步骤持续时间。第二步骤的进行类似于实施例1-4，包括浴组成为：85重量％kno3和15重量％nano3，并且温度为430℃。增加了新的第三步骤，细节如下：
[0163]
第一步骤分别包括第一步骤中1、2、3和4小时的离子交换持续时间。
[0164]
对于第二步骤，持续时间为6小时和6.75小时。
[0165]
第三步骤具有如下浴组成：96重量％kno3和4重量％nano3，并且温度为430℃，持续1小时的持续时间。样品在烘箱内预热3分钟，以确保非常小的分布变化至没有分布变化。在第三步骤之后的清洁包括用去离子水清洗样品从而去除残留盐，然后用浸泡在丙酮中的布擦拭干净。
[0166]
对于实施例d，仅采用第二和第三iox浴进行对比二步骤离子交换处理。也就是说，第一步骤的持续时间为0小时。
[0167]
表4a和4b分别提供了每个实施例的条件总结以及第二步骤之后和第三步骤之后得到的记录的fsm最大压缩应力(cs
max
)、表面应力(cs
表面
)、尖峰层深度(dol
sp
)和中心张力(ct)。实施例13-16在第2步骤之后的拐点压缩应力(csk)的数值范围是156+20/-15mpa，以及在第3步骤之后的范围是97+20/-15mpa。
[0168]
表4a
[0169][0170]
表4b
[0171][0172][0173]
对于基于表4a和4b的实施例13-16和实施例d(比较例)，图12是对于变化的步骤2和3的情况下尖峰层深度(dol
sp
)与步骤1时间(小时)的关系图，图13是对于变化的步骤2和3的情况下中心张力与步骤1时间(小时)的关系图，以及图14是最大压缩应力(cs
max
)与步骤2时间(小时)的关系图。
[0174]
对于dol
sp
，表4a和4b的数据以及图12显示样品留在第一步骤浴中越久，dol
sp
值越高，在第二步骤之后导致0.8μm的增加以及在第三步骤之后0.7μm的增加。此外，样品留在第一和第二步骤浴中越久，实现了更高的dol
sp
。此外，数据显示第三步骤也使得dol
sp
相对于第二步骤中所实现的情况得以增加。相对于实施例d(比较例)的增加是中等情况。
[0175]
对于ct，表4a和4b以及图13显示样品留在第一步骤浴中越久，则第二和第三步骤离子交换的ct都越低。在完成第2步骤离子交换之后，在第一步骤浴中0小时至4小时的ct折衷为3.7mpa。在完成第3步骤离子交换之后，在第一步骤浴中0小时至4小时的ct折衷为4.1mpa。
[0176]
对于cs
max
，在恒定的第二步骤持续时间，表4a和图14显示对于所有的第一步骤条件，实施例13-16相对于实施例d(比较例)而言相当的数值。此外，无论第一步骤多久，在第二步骤之后的cs
max
都保持大致相同。类似地，无论第一步骤多久，在第三步骤中的cs
max
都保持大致相同。此外，数据显示第三步骤可以被用于使得表面cs相对于第二步骤所得到的情况发生增加，但是与此同时，第三步骤使得ct相对于第二步骤所得到的情况发生减小。在一些情况下，csk和ct的适度减小是为了获得cs
max
的显著提升的良好折衷，特别是如果没有提升cs
max
低于600mpa的情况。
[0177]
实施例13-16显示在第一步骤之后的增重绝对值范围是0.00070％至0.047％。
[0178]
实施例17-29和实施例e-g(比较例)
[0179]
由50mm x 50mm x 0.5mm厚的组成b的基于玻璃的基材来形成基于玻璃的制品。
[0180]
对于实施例17-29，进行三步骤离子交换(iox)处理。方法类似于实施例13-16的那些。在表5a和5b中总结了每一个的相对于硝酸盐的组成(重量％)、温度和持续时间。对于第一步骤，在420℃测试两种不同浴组成。对于第二步骤，在380℃测试两种不同浴组成持续1.42小时。以370℃的87重量％kno3/13重量％nano3的浴进行第三步骤。
[0181]
对于实施例e-g，仅采用第二和第三iox浴进行对比二步骤离子交换处理。也就是说，第一步骤的持续时间为0小时。
[0182]
表5a和5b还分别提供了每个实施例的条件总结以及第二步骤之后和第三步骤之后得到的记录的fsm最大压缩应力(cs
max
)、表面应力(cs
表面
)、尖峰层深度(dol
sp
)和中心张力(ct)。实施例17-22在第2步骤之后的拐点压缩应力(csk)的值在166+20/-15mpa范围内。实施例23-29在第2步骤之后的拐点压缩应力(csk)的数值范围是153+20/-15mpa，以及在第3步骤之后的范围是115-145+20/-15mpa。
[0183]
表5a
[0184]
[0185][0186]
[0187]
表5b
[0188]
[0189][0190]
图2显示实施例29的建模应力分布，其中，对于500微米的厚度，最大压缩应力(cs
max
)约为717mpa，拐点压缩应力(csk)是约110至约120mpa，尖峰层深度(dol
sp
)约为10.7微米(0.0214t)，压缩深度(doc)是约89至约94微米(0.19t)，以及中心张力(ct)是约64至约70mpa。
[0191]
基于表5a和5b，图15-16是对于第一步骤1时间(小时)与第二步骤浴类型的关系的尖峰层深度(dol
sp
)图；图17是对于第一步骤浴与变化的第二步骤的关系的中心张力(ct)图；图18-19是对于不同类型的第一步骤浴，第一步骤1时间(小时)与第三步骤的关系的尖峰层深度(dol
sp
)图。
[0192]
对于dol
sp
，数据显示对于52％k/48％na的第二步骤，以30％kno3、15％lino3、55％nano3浴的第一浴组成处理相同iox时间的样品(实施例27-29)相比于以20％kno3、16％lino3、64％nano3的第一浴组成处理的样品(实施例23-25)具有更高的dol
sp
。对于这些样品，在第三步骤之后仍然如此。
[0193]
数据显示对于60％k/40％na的第二步骤，以30％kno3、15％lino3、55％nano3浴的第一浴组成处理相当的iox时间的样品(实施例20-22)相比于以20％kno3、16％lino3、64％nano3的第一浴组成处理的样品(实施例17-19)具有略微更高的dol
sp
。有时，由于fsm软件对条纹计数的估计不准确的结果，导致dol
sp
测量误差，可能使得看上去破坏了这种趋势。当条纹计数的非整数部分在0.15至0.7之间时，此类误差小于0.2微米，但是当条纹计数的小数部分落在0.15至0.70这个区间外的时候，误差会最高至1微米。在第三步骤之后，对于相当的iox时间，实施例20-22与实施例17-19的dol
sp
是相当的。
[0194]
对于ct，数据显示对于两种第二浴条件，具有相当的ct。
[0195]
对于cs
max
，在恒定的第二步骤持续时间，表5a显示具有60重量％nano3的浴对于目前的实施例产生了469mpa至约510mpa的压缩应力(以fsm-6000软件进行测量)，而具有48重量％nano3的浴产生了最高至540mpa的更高的cs值；以及表5b显示具有13％nano3和87％kno3的第三浴产生了692mpa至755mpa的最大cs值。
[0196]
实施例17-29显示第一步骤之后的各种小的重量增益和损失，目的在于说明玻璃基材的内部基本未发生变化，或者略微富集li但是没有在第一步骤过程中明显富集na。明显的增重(例如高于0.07％，特别是高于0.10％或者0.15％)会表明不可忽略不计的na富集，使得较少量的k被引入到玻璃中。给定实施例中的增重明显小于这些值，表明浴组成的优异选择处于部分平衡使得仅k富集在近表面处。
[0197]
实施例30
[0198]
以下是由50mm x 50mm x 0.5mm厚的组成b的基于玻璃的基材形成的基于玻璃的制品的预测实施例。对于第一步骤，iox浴组成是420℃的实施例17-29的两种不同浴组成的任一种情况。结合了实施例17-29的第二和第三步骤，具体来说，用单个长步骤(87％kno3/13％nano3，1.4-1.6小时)替换了第二步骤(40％kno3/60％nano3，1.42小时)和第三步骤(87％kno3/13％nano3，0.2小时)。所得到的基于玻璃的制品具有：大于或等于710mpa的cs
max
，约8.2至约12微米的dol
sp
，这取决于第一步骤持续时间(0.5至1.2小时)，主要差异在于csk会较低(70-100mpa)并且ct也会较低(50-60mpa)。
[0199]
实施例31
[0200]
根据相同的基材和实施例17-29的前两个步骤以及改变的第三步骤形成基于玻璃的制品的预测实施例。第三步骤是100％kno3浴中380c的12-25分钟iox。cs
max
的范围是1100-1200mpa，以及高dol
sp
是约8至约9微米。
[0201]
虽然上述内容涉及各种实施方式，但是，可以在不偏离基本范围的情况下，对本公开内容的其他和进一步的实施方式进行设计，并且本公开内容的范围由所附权利要求书确定。本公开内容的特征可以任意和全部组合，例如如以下实施方式所述。
[0202]
实施方式1：一种基于玻璃的制品，其包括：
[0203]
锂基铝硅酸盐组合物；
[0204]
具有限定了基材厚度(t)的相对的第一和第二表面的基于玻璃的基材，其中，t小于或等于0.74mm；以及
[0205]
应力分布，其包括：
[0206]
尖峰区域，其从第一表面延伸并且包括位于大于或等于7微米深度的尖峰层深度(dol
sp
)；和
[0207]
大于或等于50mpa的最大中心张力(ct
max
)。
[0208]
实施方式2：一种基于玻璃的制品，其包括：
[0209]
锂基铝硅酸盐组合物；
[0210]
具有限定了基材厚度(t)的相对的第一和第二表面的基于玻璃的基材，其中，t小于或等于0.74mm；以及
[0211]
应力分布，其包括：
[0212]
尖峰区域，其从第一表面延伸并且包括位于大于或等于0.010t深度的尖峰层深度
(dol
sp
)；和
[0213]
大于或等于50mpa的最大中心张力(ct
max
)。
[0214]
实施方式3：如任意前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，t大于或等于0.05微米。
[0215]
实施方式4：如任意前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，锂基铝硅酸盐组合物中的na2o:li2o摩尔比小于或等于1.3。
[0216]
实施方式5：一种基于玻璃的制品，其包括：
[0217]
锂基铝硅酸盐组合物，其中，锂基铝硅酸盐组合物中的na2o:li2o摩尔比小于或等于1.3；
[0218]
具有限定了基材厚度(t)的相对的第一和第二表面的基于玻璃的基材；以及
[0219]
应力分布，其包括：
[0220]
尖峰区域，其从第一表面延伸并且包括位于大于或等于7微米深度的尖峰层深度(dol
sp
)；和
[0221]
大于或等于50mpa的最大中心张力(ct
max
)。
[0222]
实施方式6：一种基于玻璃的制品，其包括：
[0223]
锂基铝硅酸盐组合物，其中，锂基铝硅酸盐组合物中的na2o:li2o摩尔比小于或等于1.3；
[0224]
具有限定了基材厚度(t)的相对的第一和第二表面的基于玻璃的基材；以及
[0225]
应力分布，其包括：
[0226]
尖峰区域，其从第一表面延伸并且包括位于大于或等于0.010t深度的尖峰层深度(dol
sp
)；和
[0227]
大于或等于50mpa的最大中心张力(ct
max
)。
[0228]
实施方式7：如实施方式6至前述实施方式中任一项的基于玻璃的制品，其中，t大于或等于0.05毫米且小于或等于1毫米。
[0229]
实施方式8：如前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，t大于或等于0.35毫米且小于或等于0.8毫米。
[0230]
实施方式9：如任意前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，锂基铝硅酸盐组合物中的na2o:li2o摩尔比大于或等于0.1。
[0231]
实施方式10：如任意前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，锂基铝硅酸盐组合物中的k2o含量小于或等于1.4摩尔％。
[0232]
实施方式11：如前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，锂基铝硅酸盐组合物的k2o含量小于或等于0.4摩尔％。
[0233]
实施方式12：任意前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，dol
sp
小于或等于20微米。
[0234]
实施方式13：任意前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，dol
sp
大于或等于0.015t。
[0235]
实施方式14：任意前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，dol
sp
大于或等于0.020t。
[0236]
实施方式15：任意前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，应力分布还包括大于或
等于0.16t的压缩深度(doc)。
[0237]
实施方式16：任意前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，应力分布还包括大于或等于400mpa的最大压缩应力(cs
max
)。
[0238]
实施方式17：任意前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，应力分布还包括大于或等于85mpa的拐点压缩应力(csk)。
[0239]
实施方式18：任意前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，中心张力(ct)大于或等于55mpa。
[0240]
实施方式19：前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，中心张力(ct)大于或等于60mpa。
[0241]
实施方式20：前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，中心张力(ct)大于或等于65mpa。
[0242]
实施方式21：前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，中心张力(ct)大于或等于70mpa。
[0243]
实施方式22：任意前述实施方式的基于玻璃的制品，其包括非零浓度的氧化钾(k2o)，所述非零浓度从第一表面到钾层深度(dolk)是变化的。
[0244]
实施方式23：前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，应力分布还包括近似等于dol
sp
的钾层深度(dolk)。
[0245]
实施方式24：任意前述实施方式的基于玻璃的制品，其中，应力分布还包括：
[0246]
从尖峰区域延伸到基于玻璃的制品的中心的尾部区域；以及
[0247]
其中，应力分布位于尖峰区域中的所有点包括斜率绝对值为20mpa/微米或更大的正切，以及应力分布位于尾部区域中的所有点包括斜率绝对值小于20mpa/微米的正切。
[0248]
实施方式25：一种基于玻璃的制品，其包括：
[0249]
锂基铝硅酸盐组合物；
[0250]
具有限定了基材厚度(t)的相对的第一和第二表面的基于玻璃的基材，其中，t大于或等于0.05毫米且小于或等于0.74毫米；
[0251]
具有非零浓度的氧化钾(k2o)，所述非零浓度从第一表面到钾层深度(dolk)是变化的；以及
[0252]
应力分布，其包括：
[0253]
大于或等于400mpa的最大压缩应力(cs
max
)；
[0254]
尖峰区域，其从第一表面延伸到尾部区域并且包括位于大于或等于0.010t深度的尖峰层深度(dol
sp
)；以及大于或等于85mpa的拐点压缩应力(csk)；以及
[0255]
尾部区域，其从尖峰区域延伸到基于玻璃的制品的中心并且包括大于或等于50mpa的最大中心张力(ct
max
)。
[0256]
实施方式26：一种基于玻璃的制品，其包括：
[0257]
锂基铝硅酸盐组合物，其中，锂基铝硅酸盐组合物中的na2o:li2o摩尔比小于或等于1.3；
[0258]
具有限定了基材厚度(t)的相对的第一和第二表面的基于玻璃的基材；
[0259]
具有非零浓度的氧化钾(k2o)，所述非零浓度从第一表面到钾层深度(dolk)是变化的；以及
[0260]
应力分布，其包括：
[0261]
大于或等于400mpa的最大压缩应力(cs
max
)；
[0262]
尖峰区域，其从第一表面延伸到尾部区域并且包括位于大于或等于0.010t深度的尖峰层深度(dol
sp
)；以及大于或等于85mpa的拐点压缩应力(csk)；以及
[0263]
尾部区域，其从尖峰区域延伸到基于玻璃的制品的中心并且包括大于或等于50mpa的最大中心张力(ct
max
)。
[0264]
实施方式27：实施方式23至前述实施方式中的一项的基于玻璃的制品，其中，应力分布还包括近似等于dol
sp
的钾层深度(dolk)。
[0265]
实施方式28：一种消费电子产品，其包括：
[0266]
具有前表面、背表面和侧表面的外壳；
[0267]
至少部分位于所述外壳内的电子组件，所述电子组件至少包括控制器、存储器和显示器，所述显示器位于所述外壳的前表面处或者与所述外壳的前表面相邻；以及
[0268]
布置在所述显示器上的覆盖物；
[0269]
其中，外壳和覆盖物中的至少一个的至少一部分包括实施方式1至27中任一项的基于玻璃的制品。
[0270]
实施方式29：一种基于玻璃的制品的制造方法，其包括：
[0271]
将基础组成中包含氧化钠和氧化锂的基于玻璃的基材暴露于离子交换处理以形成基于玻璃的制品，所述基于玻璃的基材具有限定了基材厚度(t)的相对的第一和第二表面，所述离子交换处理包括：
[0272]
第一浴，其包含钾盐和钠盐和锂盐；以及
[0273]
第二浴，其包含钾盐、钠盐和任选的锂盐；
[0274]
其中，满足以下一种情况：
[0275]
t小于或等于0.74mm；
[0276]
基材包含如下组成，其中，锂基铝硅酸盐组合物中的na2o:li2o的摩尔比小于或等于1.3；或者
[0277]
t小于或等于0.74mm以及基材包含如下组成，其中，锂基铝硅酸盐组合物中的na2o:li2o的摩尔比小于或等于1.3；
[0278]
其中，基于玻璃的制品包括如下应力分布，其包含：
[0279]
尖峰区域，其从第一表面延伸并且包括位于大于或等于0.010t深度的尖峰层深度(dol
sp
)；和
[0280]
大于或等于50mpa的最大中心张力(ct
max
)。
[0281]
实施方式30：如实施方式29的方法，其中，在暴露于第一浴之后，基于玻璃的基材的增重绝对值小于或等于0.1(1+0.02/t)％。
[0282]
实施方式31：如实施方式29至前述实施方式中的一项的方法，其中，第二浴中的钠盐含量大于第一浴中的钠盐含量。
[0283]
实施方式32：如实施方式29至31中的一项的方法，其中，离子交换处理还包括第三浴，其包含钾盐和钠盐，其中，第三浴中的钾盐含量大于或等于90重量％。
[0284]
实施方式33：如实施方式29至31中的一项的方法，其中，第一浴包含：50-60重量％nano3、10-20重量％lino3和25-35重量％kno3，其中，nano3、lino3和kno3的含量总计为
100％，并且玻璃基材包括na2o:li2o的摩尔比大于或等于1.3的基础组成。
[0285]
实施方式34：如实施方式29至31中的一项的方法，其中，第一浴包含：1-3重量％nano3、6-10重量％lino3和88-90重量％kno3，其中，nano3、lino3和kno3的含量总计为100％，并且玻璃基材包括na2o:li2o的摩尔比小于或等于1.3的基础组成。
[0286]
本文所用的方向术语，例如上、下、左、右、前、后、顶、底、内、外，仅仅是参照绘制的附图而言，并不用来表示绝对的取向。
[0287]
如本文所用，术语“该”、“一个”或“一种”表示“至少一个(一种)”，并且不应限制为“仅一个”，除非另有明确相反说明。因此，例如，提到的“一种组件”包括具有两种或更多种这类组件的实施方式，除非文本中有另外的明确表示。
[0288]
如本文所用，除非另有说明，否则术语“包含”和“包括”及其变化形式应该理解为同义词且是开放式的。跟在过渡用语包含或包括之后的一系列元件是非排他性举例，从而还可能存在除了那些具体列出之外的元件。