一种高耐磨釉中彩陶瓷砖及其制备方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及一种釉中彩陶瓷砖及其制备方法，特别设及一种高耐磨釉中彩陶瓷产 品及其制备方法。
【背景技术】
[0002] 随着国内外建陶行业的迅速发展，能源的日趋短缺，国家也逐渐提倡和规定了节 能降耗，绿色环保。该给建筑陶瓷企业无疑提高了口槛，使其面临潜在的生存危机。近几年 来，花色品种越来越多，新产品，新工艺不断涌现，人们的欣赏水平和要求也越来越高，提高 产品档次已成为陶瓷生产者迫切追求的一个目标，开发低成本，高品位的陶瓷产品已日益 得到各厂家的重视，目前陶瓷的渗花工艺受渗花离子的着色的原因，花色品种单调；聚晶微 粉工艺受布料系统的影响，花色品种受到很大影响；微晶石又不耐磨。瓷质釉中花工艺吸收 了S种工艺的优点，避免了弱点，将成为建筑陶瓷的一种新工艺。
[0003] 抛釉砖是近年来发展非常迅速的一种建筑装饰产品，其装饰图案丰富，色彩多变， 表面光泽度高等特点深受人们的喜爱，逐渐成为市场上的主流产品。目前抛釉砖制备工艺 都是在砖巧表面喷淋底面釉后再进行印花装饰，然后上一层透明釉，经烧成、抛光磨边后得 到最终产品。通过该工艺制备的产品虽然也属于釉中彩，图案受到表面透明釉层的保护，但 是，由于透明釉玻璃相太多，本身属于软瓷，其硬度、耐磨度都比较差，很容易磨损，不适合 人流量大的地方使用。
[0004] 因此，本领域技术人员一直致力于如何进一步提高抛釉砖的耐磨性能并保持其透 明度，从而扩展抛釉砖的使用范围。
【发明内容】
[0005] 本发明旨在克服现有包括抛釉砖在内的釉中彩陶瓷产品的耐磨性能，本发明提供 了一种高耐磨釉中彩陶瓷产品及其制备方法。
[0006] 本发明提供了一种高耐磨釉中彩陶瓷砖，所述高耐磨釉中彩陶瓷砖包括印刷有图 案的巧体、W及在印刷有图案的巧体上经烧成得到的透明釉层，其中，透明釉层组成包括透 明基釉、W及被透明基釉包覆的高耐磨透明烙块粒子，高耐磨透明烙块粒子的细度为130 目~180目，组成包括52~58wt% Si〇2、25~30wt% Al2〇3、8~15wt%Ca0、0. 2~0. 5wt% Mg0、l~3wt% K20、0. 5~2wt% Na2〇、l~5wt%化0。
[0007] 本发明中采用在透明釉层中加入高耐磨透明烙块粒子，W增加透明釉层的耐磨 性，从而能够将釉中彩陶瓷砖适用于更广的范围。高耐磨透明烙块粒子细度：130目~180 目。太粗生产过程中浆料容易沉淀，且与基釉结合力不够容易剥落影响性能。太细容易烙 于透明釉，影响耐磨效果。
[0008] 较佳地，透明基釉的组成包括55~65wt% Si〇2、16~20wt% Al2〇3、8~15wt% Ca0、l~3wt% Mg0、l~4wt% K20、3~5wt%化2〇、0~5wt%化0。
[0009] 较佳地，透明釉层厚度0. 2~0. 8mm。
[0010] 较佳地，透明釉层含10-60wt%高耐磨透明烙块粒子。
[0011] 较佳地，所述透明釉层还包括位于透明基釉和高耐磨透明烙块粒子之间的缓冲 层，所述缓冲层由在所述烧成过程中透明基釉和高耐磨透明烙块粒子的组分相互渗透形 成。高温烧成时，透明基釉作为玻璃相填充在高温高耐磨透明烙块粒子孔隙之间，并与之反 应形成结合良好的缓冲层，因此，高耐磨透明烙块粒子不会在抛光过程中剥落。由于高温反 应，透明基釉部分会烙解高温透明烙块粒子表面层，相互扩散、渗透，成分应该是介于透明 基釉与高耐磨透明烙块粒子之间。例如靠近高温透明烙块粒子的缓冲层的组分接近高温透 明烙块粒子的组成，靠近透明基釉的缓冲层的组分则靠近透明基釉的组成。
[0012] 又，本发明还提供了一种上述高耐磨釉中彩陶瓷砖的制备方法，包括： 将印刷有图案的巧体上喷淋透明釉层浆料后，在1150-123(TC下烧成，再经抛光后得 到所述高耐磨釉中彩陶瓷砖，其中，透明釉层浆料包括10-60wt%的高耐磨透明烙块粒子、 30- 50wt%的透明基釉W及10- 15wt%悬浮剂。
[0013]较佳地，透明基釉的粉体细度为过325目筛余0.4~0.8%
[0014]较佳地，悬浮剂采用駿甲基纤维素钢、己二醇和/或聚己二醇。
[0015]较佳地，采用直线淋釉器将透明釉层浆料施加在印刷有图案的巧体上。
[0016]较佳地，釉浆比重控制在1. 70~1. 85,流速控制在20~40s，施釉量为460-500 克/平方米。
[0017] 较佳地，烧成时间为60-80分钟。
[0018]本发明与现有技术相比，其有益效果为；由于高耐磨烙块粒子温度比基釉高，粒度 比基釉粗，生产过程中釉层透气性好，易于干燥，不会因为水分过大进畜造成炸砖，同时拓 宽了产品烧成范围，施釉量大，透明釉层厚，产品耐磨度高，通透感、立体感好，档次明显高 于普通抛釉砖。
【附图说明】
[0019] 图1示出了本发明一个实施方式中制备的釉中彩陶瓷砖中透明釉层结构示意图。
【具体实施方式】
[0020]W下结合附图和下述实施方式进一步说明本发明，应理解，附图及下述实施方式 仅用于说明本发明，而非限制本发明。
[0021] 为了解决现有抛釉砖耐磨性较差的缺陷，本发明提供了提供的一种高耐磨釉中彩 陶瓷砖制备方法。
[0022] 采用如下技术方案来实现上述目的： 本发明提供了一种高耐磨釉中彩陶瓷砖制备方法，所述方法包括： 按现有仿古砖工艺进行喷墨打印或漉筒印花装饰后，再利用钟罩或者直线淋釉器淋一 层含10~60%高耐磨透明烙块粒子的透明釉，经抛光即得本产品。
[0023]透明基釉作为玻璃相填充在高温高耐磨透明烙块粒子孔隙之间，并与之反应形成 结合良好的缓冲层，不会在抛光过程中剥落。其化学成分；Si〇255~65%、Al2〇3l6~20%、 Ca08~15%、Mg01~3%、K201~4%、化2〇3~5%、化00~5%。细度325目筛余0. 4~ 0. 8%。
[0024] 高耐磨透明烙块粒子化学成分；Si〇252~58%、Al2〇325~30wt%、Ca08~15%、 MgOO. 2 ~0.5%、K201~3%、化2〇0. 5 ~2%、Zn01 ~5%。