C‑2位和C‑7位修饰的1‑去氧巴卡亭VI紫杉烷类化合物及其制备方法与流程

文档序号:11893306阅读:来源:国知局
技术总结
本发明涉及一种C‑2位和C‑7位修饰的1‑去氧巴卡亭VI紫杉烷类化合物及其制备方法。该化合物的结构是:其中R为苯甲酰基取代基,五元杂环取代基。本发明的1‑去羟基巴卡亭VI紫杉烷类似物在C‑2位将苯氧酰基改造为乙酰氧基并且在C‑7位引入各种取代基,保留紫杉烷类的环骨架和必要的官能团,丰富了该类化合物,通过初筛实验,稳定性实验,浓度梯度实验等相关数据表明部分化合物在抗炎方面比紫杉醇更好,同时也为这类化合物的活性构效关系的研究提供了宝贵的借鉴。

技术研发人员:林海霞;邱卫清;袁天海;崔永梅;唐平
受保护的技术使用者:上海大学
文档号码:201611103984
技术研发日:2016.12.05
技术公布日:2017.05.17

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