透气性眼用镜片材料及透气性眼用镜片的制作方法

文档序号:17288445发布日期:2019-04-03 03:45阅读:204来源:国知局

本发明涉及一种眼用镜片材料及应用该眼用镜片材料制得的眼用镜片,尤其涉及一种透气性眼用镜片材料及应用该透气性眼用镜片材料制得的透气性眼用镜片。



背景技术:

近年来,随着近视人群的数量越来越多,隐形眼镜因其便携、美观的特性而被广泛使用。此外,对于高度近视者一般会通过将透明晶(晶状体)全摘除,然后植入眼内镜片(人工晶状体等),以使高度近视者可以看清物体。

透气性眼用镜片因为可以使佩戴者的角膜能够与足够的氧气接触,有利于角膜的健康,而受到使用者的青睐。现有的透气性眼用镜片中含有硅酮以使眼用具有透气性,然而,硅酮的存在还可使眼用镜片具有疏水性,而疏水性会导致眼用镜片表面蛋白质沉积,使佩戴者有异物感,甚至滋生细菌。



技术实现要素:

有鉴于此,有必要提供一种新的透气性眼用镜片材料,以解决上述问题。

另,还有必要提供一种应用所述透气性眼用镜片材料制得的透气性眼用镜片。

一种透气性眼用镜片材料,其包含四乙氧基硅烷及离子型硅烷,该离子型硅烷包含正电荷及负电荷。

一种透气性眼用镜片,该透气性眼用镜片由上述透气性眼用镜片材料制得。

本发明的透气性眼用镜片材料中同时包含正电荷及负电荷两种极性相反的电荷,使得透气性眼用镜片材料具有亲水性,并且可以防止细菌污染。由该透气性眼用镜片材料制得的透气性眼用镜片中也同时包含正电荷及负电荷两种极性相反的电荷,使得透气性眼用镜片具有亲水性,并且可以防止细菌污染。

具体实施方式

基于本发明中的实施方式,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式,都属于本发明保护的范围。

本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的,不是旨在于限制本发明。

本发明较佳实施方式提供一种透气性眼用镜片材料,其用于制备透气性眼用镜片。该透气性眼用镜片材料包含四乙氧基硅烷(teos)及离子型硅烷。该离子型硅烷包含正电荷及负电荷。

在至少一实施例中,所述离子型硅烷为两性离子型硅烷。在另一实施例中,所述离子型硅烷包括带有正电荷的硅烷和带有负电荷的硅烷。

当所述离子型硅烷为两性离子型硅烷时,所述透气性眼用镜片材料中,四乙氧基硅烷的质量百分含量为68%~98.5%,两性离子型硅烷的质量百分含量为1.5%~32%。

所述两性离子型硅烷包括但不限于含有硅烷官能基的磺基甜菜碱(sulfobetainesilane)、含有硅烷官能基的羧基甜菜碱(carboxybetainesilane)、及硅烷官能化磷酸胆碱(phosphorylcholinesilane)中的一种或几种。

所述含有硅烷官能基的磺基甜菜碱的化学结构式为:

所述含有硅烷官能基的羧基甜菜碱的化学结构式为:

所述硅烷官能化磷酸胆碱的化学结构式为:

所述两性离子型硅烷中的总电荷为零,即两性离子性硅烷的电荷总和为中性。同时带有正电荷及负电荷两种极性相反的电荷,使得两性离子型硅烷具有亲水性,并且可以防止细菌污染。从而使得透气性眼用镜片材料具有亲水性,并且可以防止细菌污染。

当所述离子型硅烷包括带有正电荷的硅烷和带有负电荷的硅烷时,所述透气性眼用镜片材料中,四乙氧基硅烷的质量百分含量为67.2%~98%,带有正电荷的硅烷的质量百分含量为0.8%~32%,带有负电荷的硅烷的质量百分含量为0.8%~32%。

所述带有正电荷的硅烷包括但不限于3-(三甲氧基硅基)丙基-n,n,n-三甲基(3-(trimethoxysilyl)propyl-n,n,n-trimethylammonium)、n-(三甲氧基甲硅烷基)乙二胺三乙酸三钠(n-(trimethoxysilylpropyl)ethylenediaminetriacetate)、4-(三甲氧基硅基乙基)苄基三甲基氯化铵(4-(trimethoxysilylethyl)benzyltrimethylammoniumchloride)、及四乙酸二甲基(3-三甲氧基硅基丙基)铵(tetradecyldimethyl(3-trimethoxysilylpropyl)ammoniumchloride)中的一种或几种。

所述带有负电荷的硅烷包括但不限于羧乙基化硅烷三醇(carboxyethylsilanetriol)、3-(三羟基硅基)-丙烷磺酸(3-(trihydroxysilyl)-1-propanesulfonicacid)、三乙氧基硅基丙基马来酸(triethoxysilylpropylmaleamicacid)、及3-(三羟基硅基)丙甲基磷酸酯(3-(trihydroxysilyl)propylmethylphosphonate)中的一种或几种。

所述离子型硅烷中带有正电荷的硅烷和带有负电荷的硅烷的总电荷为零,即离子型硅烷的电荷总和为中性。同时带有正电荷及负电荷两种极性相反的电荷,使得离子型硅烷具有亲水性,并且可以防止细菌污染。从而使得透气性眼用镜片材料具有亲水性,并且可以防止细菌污染。

一种透气性眼用镜片,其可为隐形眼镜、眼内镜片(aiol)等,该眼内镜片可为人工晶状体(iols)等。该透气性眼用镜片由上述透气性眼用镜片材料制得。

当所述透气性眼用镜片材料中所包含的离子型硅烷为两性离子型硅烷时,所述透气性眼用镜片中主要包含以下化学结构式:

其中,r为磺基甜菜碱基、羧基甜菜碱基、或磷酸胆碱基,n1为大于等于1的自然数。上述化学结构式中,o-后连接si,si-后连接o,如此循环,形成一种连续的-si-o-网络结构。

所述磺基甜菜碱基的化学结构式为:

其中,n2可以为1、2或3。

所述羧基甜菜碱基的化学结构式为:

其中,n3可以为1、2或3。

所述磷酸胆碱基的化学结构式为:

当所述透气性眼用镜片材料中所包含的离子型硅烷为正电荷的硅烷和带有负电荷的硅烷时,所述眼用镜片中主要包含一下化学结构式:

其中,上述化学结构式中,o-后连接si,si-后连接o,如此循环,形成一种连续的-si-o-网络结构;n4为大于等于1的自然数;n5为大于等于1的自然数;

r1为:

r2为以下基团中的一种:

(磺基)、(羧基)、(磷酸基)。

所述透气性眼用镜片中同时含有正电荷及负电荷两种极性相反的电荷,使得该透气性眼用镜片具有亲水性,并且可以防止细菌污染。

一种透气性眼用镜片的制造方法,其包括以下步骤:

步骤s1,提供所述四乙氧基硅烷及离子型硅烷,将该四乙氧基硅烷及离子型硅烷按照预设比例混合均匀,使四乙氧基硅烷与离子型硅烷共水解,得到前驱体溶液。

步骤s2,提供一眼用镜片模具,将上述前驱体溶液置于眼用镜片模具中,压合,得到透气性眼用镜片片材。

步骤s3,对所述透气性眼用镜片片材的表面进行切削加工,以得到透气性眼用镜片。

下面通过实施例来对本发明进行具体说明。

实施例1

本实施例的透气性眼用镜片材料包含四乙氧基硅烷及含有硅烷官能基的磺基甜菜碱。

本实施例的透气性眼用镜片材料中四乙氧基硅烷的质量百分含量为94.8%,含有硅烷官能基的磺基甜菜碱的质量百分含量为5.2%。

本实施例的透气性眼用镜片材料制得的透气性眼用镜片的表面的水接触角为60℃。

本实施例的透气性眼用镜片材料制得的透气性眼用镜片的透氧值dk为100。

实施例2

本实施例的透气性眼用镜片材料包含四乙氧基硅烷及含有硅烷官能基的羧基甜菜碱。

本实施例的透气性眼用镜片材料中四乙氧基硅烷的质量百分含量为90.2%,含有硅烷官能基的羧基甜菜碱的质量百分含量为9.8%。

本实施例的透气性眼用镜片材料制得的透气性眼用镜片的表面的水接触角为46℃。

本实施例的透气性眼用镜片材料制得的透气性眼用镜片的透氧值dk为100。

实施例3

本实施例的透气性眼用镜片材料包含四乙氧基硅烷、羧乙基化硅烷三醇及3-(三甲氧基硅基)丙基-n,n,n-三甲基。

本实施例的透气性眼用镜片材料中四乙氧基硅烷的质量百分含量为95%,羧乙基化硅烷三醇的质量百分含量为2.5%,3-(三甲氧基硅基)丙基-n,n,n-三甲基的质量百分含量为2.5%。

本实施例的透气性眼用镜片材料制得的透气性眼用镜片的表面的水接触角为58℃。

本实施例的透气性眼用镜片材料制得的透气性眼用镜片的透氧值dk为100。

实施例4

本实施例的透气性眼用镜片材料包含四乙氧基硅烷、3-(三甲氧基硅基)丙基-n,n,n-三甲基、及n-(三甲氧基甲硅烷基)乙二胺三乙酸三钠。

本实施例的透气性眼用镜片材料中四乙氧基硅烷的质量百分含量为90%,3-(三甲氧基硅基)丙基-n,n,n-三甲基的质量百分含量为7.5%,n-(三甲氧基甲硅烷基)乙二胺三乙酸三钠的质量百分含量为2.5%。

本实施例的透气性眼用镜片材料制得的透气性眼用镜片的表面的水接触角为52℃。

本实施例的透气性眼用镜片材料制得的透气性眼用镜片的透氧值dk为100。

本发明的透气性眼用镜片材料中同时包含正电荷及负电荷两种极性相反的电荷,使得透气性眼用镜片材料具有亲水性,并且可以防止细菌污染。由该透气性眼用镜片材料制得的透气性眼用镜片中也同时包含正电荷及负电荷两种极性相反的电荷,使得透气性眼用镜片具有亲水性,并且可以防止细菌污染。

另外,以上所述,仅是本发明的较佳实施方式而已,并非对本发明任何形式上的限制,虽然本发明已将较佳实施方式揭露如上,但并非用以限定本发明,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施方式,但凡是未脱离本发明技术方案内容,依据本发明的技术实质对以上实施方式所做的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。

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