本发明涉及表面保护薄膜用基材、该基材的制造方法、使用该基材的表面保护薄膜、及带表面保护薄膜的光学薄膜。
背景技术：
：对于光学薄膜(例如，偏光板、包含偏光板的层叠体)，为了在直至应用该光学薄膜的图像显示装置实际使用之前的期间保护该光学薄膜(最终为图像显示装置)，以可剥离的方式贴合有表面保护薄膜。实用中，将光学薄膜/表面保护薄膜的层叠体贴合于显示单元来制作图像显示装置，在贴合有该层叠体的状态下将图像显示装置供于光学试验(例如，点亮试验)，在之后的适当的时间将表面保护薄膜剥离去除。表面保护薄膜代表性地具有作为基材的树脂薄膜和粘合剂层。利用以往的表面保护薄膜，有时在光学检查时发生漏光、着色、彩虹状不均匀等，成为光学检查的精度降低的原因。其结果，有时尽管图像显示装置自身没有问题，在出厂前的光学检查中也会被判断为不良，由此，存在从图像显示装置的制造到出厂为止的效率降低的问题。进而，对于表面保护薄膜(实质上为基材)，考虑贴合时及剥离时的操作性，要求优异的挠性。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2017-190406号公报技术实现要素：发明要解决的问题本发明是为了解决上述现有的问题而作出的，其主要目的在于，提供具有优异的挠性或耐弯折性、并且可良好地抑制光学检查时的漏光、着色及彩虹状不均匀的表面保护薄膜用基材。用于解决问题的方案本发明的实施方式的表面保护薄膜用基材由含有含芴环聚酯与芳香族聚碳酸酯的聚合物合金的薄膜构成，面内相位差re(550)为30nm以下，mit试验中的直至断裂为止的弯折次数为500次以上。1个实施方式中，上述含芴环聚酯包含二羧酸成分(a)和二醇成分(b)作为共聚成分，该二羧酸成分(a)包含芴二羧酸成分(a1)，所述芴二羧酸成分(a1)为选自下述式(1a)及(1b)所示的二羧酸中的至少1者，式(1a)及式(1b)中，r1及r2各自为取代基，k、m及n各自为0～4的整数，x1及x2各自为取代或非取代的2价烃基。1个实施方式中，上述含芴环聚酯相对于源自上述二羧酸成分(a)的结构单元总量包含50摩尔％以上源自上述芴二羧酸成分(a1)的结构单元。1个实施方式中，上述二醇成分(b)包含下述式(2)所示的芴二醇成分(b1)，式(2)中，z为芳香族烃环，r3及r4各自为取代基，p各自为0～4的整数，q及r各自为0或1以上的整数，r5各自为亚烷基。1个实施方式中，上述表面保护薄膜用基材的总透光率为80％以上，雾度为1.0％以下。根据本发明的另一方面，提供上述表面保护薄膜用基材的制造方法。该制造方法包括：将含有含芴环聚酯与芳香族聚碳酸酯的聚合物合金的薄膜形成材料成形为薄膜状；及对该成形得到的薄膜进行逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸。1个实施方式中，上述制造方法中，上述逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸中的拉伸速度为10％/秒以下。根据本发明的又一方面，提供表面保护薄膜。该表面保护薄膜包含上述表面保护薄膜用基材和粘合剂层。根据本发明的又一方面，提供带表面保护薄膜的光学薄膜。该带表面保护薄膜的光学薄膜包含：光学薄膜、和以可剥离的方式贴合于该光学薄膜的上述表面保护薄膜。发明的效果根据本发明的实施方式，通过对含有含芴环聚酯与芳香族聚碳酸酯的聚合物合金的薄膜在规定的拉伸条件(代表性的为拉伸速度)下进行拉伸，能够实现兼顾非常小的面内相位差和优异的挠性或耐弯折性的表面保护薄膜用基材。具体实施方式以下，对本发明的优选实施方式进行说明，但本发明不限定于这些实施方式。a.表面保护薄膜用基材本发明的实施方式的表面保护薄膜用基材由含有含芴环聚酯与芳香族聚碳酸酯的聚合物合金的薄膜构成。聚合物合金可以为共混聚合物(polymerblend)、也可以为共聚物。优选为共混聚合物。含芴环聚酯及芳香族聚碳酸酯尽管为不同种类的高分子，但混合时会呈完全相容状态或稳定的微相分离状态，即使不使用增容剂也能够容易地形成共混聚合物。作为含芴环聚酯及芳香族聚碳酸酯的混合方法，可以采用任意适当的方法。作为混合方法的具体例，可列举出使含芴环聚酯及芳香族聚碳酸酯溶解于溶剂的方法、利用混炼机或挤出机将含芴环聚酯及芳香族聚碳酸酯熔融混合的方法。优选熔融混合。这是因为，能够防止制作表面保护薄膜用基材后由残存溶剂导致的光学特性(例如，相位差、波长色散特性等)的降低。含芴环聚酯包含二羧酸成分(a)和二醇成分(b)作为共聚成分。二羧酸成分(a)包含芴二羧酸成分(a1)。作为芴二羧酸成分，例如，可列举出下述式(1a)及(1b)所示的二羧酸。这些二羧酸可以单独使用也可以组合使用。式(1a)及式(1b)中，r1及r2各自为取代基，k、m及n各自为0～4的整数，x1及x2各自为取代或非取代的2价烃基。式(1a)中，作为取代基r1，例如，可列举出氰基、卤素原子(例如，氟原子、氯原子、溴原子)、烃基[例如，烷基、芳基(例如，苯基等c6-10芳基)]等非反应性取代基。作为烷基，例如，可列举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、叔丁基等c1-12烷基。优选为c1-8烷基、更优选为c1-4烷基(例如，甲基)。各个取代基r1可以相同也可以不同。进而，取代基r1的取代数k为2以上的情况下，芴环中的同一苯环内的2个以上基团r1可以相同也可以不同。需要说明的是，构成芴环的2个苯环中的取代基r1的键合位置(取代位置)例如可列举出芴环的2-位、7-位、2-及7-位。取代基r1的取代数k例如为0～2的整数，优选为0或1、更优选为0。需要说明的是，构成芴环的2个苯环中，各个取代数k可以相同也可以不同。式(1b)中，取代基r2及取代数m各自与式(1a)中的取代基r1及取代数k同样。式(1b)中，亚甲基的重复数n例如为0～3的整数，优选为0～2的整数，更优选为0或1。式(1a)及(1b)中，作为x1及x2所示的烃基，例如，可列举出直链状或支链状亚烷基。作为具体例，可列举出亚甲基、亚乙基、三亚甲基、亚丙基、1,2-丁烷二基、2-甲基丙烷-1,3-二基等直链状或支链状c1-8亚烷基。优选的亚烷基为直链状或支链状c1-6亚烷基(例如，亚甲基、亚乙基、三亚甲基、亚丙基、2-甲基丙烷-1,3-二基等直链状或支链状c1-4亚烷基)。作为烃基的取代基，例如，可列举出芳基(苯基等)、环烷基(环己基等)。各个x1可以相同也可以不同。x1及x2可以相同也可以不同。x1优选为直链状或支链状c2-4亚烷基(例如，亚乙基、亚丙基等直链状或支链状c2-3亚烷基)，x2优选为直链状或支链状c1-3亚烷基(例如，亚甲基、亚乙基)。作为式(1a)所示的二羧酸成分，例如，可列举出9,9-双(羧基c2-6烷基)芴及它们的酯形成性衍生物。作为具体例，可列举出9,9-双(2-羧基乙基)芴、9,9-双(2-羧基丙基)芴。作为式(1b)所示的二羧酸成分，例如，可列举出9-(二羧基c2-8烷基)芴及它们的酯形成性衍生物。作为具体例，可列举出9-(1-羧基-2-羧基乙基)芴、9-(2,3-二羧基丙基)芴。含芴环聚酯相对于源自二羧酸成分(a)的结构单元总量，包含优选10摩尔％以上(例如，30摩尔％以上)、更优选50摩尔％以上(例如，60摩尔％以上)、进一步优选70摩尔％以上(例如，80摩尔％以上)、特别优选90摩尔％以上(例如，95摩尔％以上)的源自芴二羧酸成分(a1)的结构单元。二羧酸成分(a)可以实质上全部为芴二羧酸成分(a1)。二羧酸成分(a)在不损害本发明效果的范围内可以还包含其他二羧酸成分。作为其他二羧酸成分，例如，可列举出芳香族二羧酸成分(a2)[其中，芴二羧酸成分(a1)除外]、脂环族二羧酸成分(a3)、脂肪族二羧酸成分(a4)、及它们的酯形成性衍生物。二醇成分(b)包含下述式(2)所示的芴二醇成分(b1)。芴二醇成分(b1)可以为单独的二醇化合物，也可以为多种二醇化合物的组合。式(2)中，z为芳香族烃环，r3及r4各自为取代基，p各自为0～4的整数，q及r各自为0或1以上的整数，r5各自为亚烷基。式(2)中，作为z所示的芳香族烃环(芳烃环)，例如，可列举出苯环等单环式芳香族烃环(单环式芳烃环)、多环式芳香族烃环(多环式芳烃环)。作为多环式芳香族烃环，例如，可列举出稠合多环式芳香族烃环(稠合多环式芳烃环)、环集合芳香族烃环(环集合芳烃环)。优选苯环、萘环、联苯环等c6-12芳烃环、更优选苯环等c6-10芳烃环。各个z可以相同也可以不同。式(2)中，取代基r3及取代数p各自与式(1a)中的取代基r1及取代数k同样。作为取代基r4，例如，可列举出卤素原子、直链状或支链状烷基、环烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、环烷基氧基、芳基氧基、芳烷基氧基、烷硫基、环烷硫基、芳硫基、芳烷硫基、酰基、硝基、氰基、取代氨基、双(烷基羰基)氨基。取代基r4优选为烷基(例如，甲基等直链状或支链状c1-6烷基)、环烷基(例如，环己基等c5-8环烷基)、芳基(例如，苯基等c6-14芳基)、烷氧基(例如，甲氧基等直链状或支链状c1-4烷氧基)，更优选为烷基(例如，甲基等直链状或支链状c1-4烷基)、芳基(例如，苯基等c6-10芳基)。需要说明的是，取代基r4为芳基的情况下，取代基r4可以与环z一起形成上述环集合芳烃环。各个r4可以相同也可以不同。取代基r4的取代数q例如为0～8的整数，优选为0～4(例如，0～3)的整数、更优选为0～2的整数(例如，0或1)。取代数q可以为0。需要说明的是，取代基r4的键合位置(取代位置)没有特别限制。式(2)中，作为取代基r5，例如，可列举出亚乙基、亚丙基(1,2-丙烷二基)、三亚甲基、1,2-丁烷二基、四亚甲基等直链状或支链状c2-6亚烷基。优选为直链状或支链状c2-4亚烷基、进一步优选为直链状或支链状c2-3亚烷基(特别是亚乙基)。氧亚烷基(or5)的重复数(加成摩尔数)r例如为0～15(例如，1～10)的整数，优选为0～8(例如，1～6)的整数、更优选为0～4(例如，1～2)的整数、进一步优选为0或1(例如，1)。需要说明的是，式(2)中的基团[-o-(r5o)r-h]的取代位置没有特别限制。作为式(2)所示的二醇，例如，可列举出9,9-双(羟基芳基)芴类、9,9-双[羟基(聚)烷氧基芳基]芴类。对于二醇成分(b)，从提高聚合反应性、并且能够对含芴环聚酯赋予柔软性从而提高成形性等的方面出发，可以还含有烷烃二醇(b2)[或亚烷基二醇(b2)]。作为烷烃二醇(b2)，例如，可列举出乙二醇、丙二醇、三亚甲基二醇、1,2-丁二醇、1,3-丁二醇、四亚甲基二醇(1,4-丁二醇)、1,5-戊二醇、新戊二醇、1,6-己二醇、1,8-辛二醇、1,10-癸二醇等直链状或支链状c2-12烷烃二醇。含芴环聚酯中的源自芴二醇(b1)的结构单元与源自烷烃二醇(b2)的结构单元的比例b1/b2(摩尔比)例如为0/50～100/0(例如，50/50～99/1)，优选为60/40～97/3(例如，65/35～95/5)、更优选为68/32～92/8(例如，70/30～90/10)、进一步优选为73/27～88/12(例如，75/25～85/15)。二醇成分(b)根据需要可以还包含其他二醇。作为其他二醇，例如，可列举出聚亚烷基二醇(或聚烷烃二醇)(b3)、脂环族二醇(b4)、芳香族二醇(b5)及其氢化物。这些其他二醇可以单独使用，也可以组合使用2种以上。含芴环聚酯相对于源自二醇成分(b)的结构单元总量，包含例如10摩尔％以上(例如，30摩尔％～100摩尔％)、优选50摩尔％以上(例如，60摩尔％～99摩尔％)、更优选70摩尔％以上(例如，80摩尔％～98摩尔％)、进一步优选90摩尔％以上(例如，95摩尔％～97摩尔％)的源自芴二醇成分(b1)及烷烃二醇成分(b2)的结构单元。二醇成分(b)可以实质上全部为芴二醇成分(b1)及烷烃二醇成分(b2)。芳香族聚碳酸酯为以二醇成分(c)为聚合成分的聚碳酸酯。二醇成分(c)至少包含芳香族二醇(c1)。作为芳香族二醇(c1)，例如，可列举出上述的芴二醇(例如，9,9-双(羟基芳基)芴类、9,9-双[羟基(聚)烷氧基芳基]芴类)、二羟基芳烃(例如，对苯二酚、间苯二酚)、芳香脂肪族二醇(例如，苯二甲醇)、双酚类(例如，双酚a、双酚f、双酚ad、双酚c、双酚g、双酚s)、联苯酚类(例如，p，p’-联苯酚)、及它们的二醇成分的c2-4环氧烷(或亚烷基碳酸酯、卤代烷醇)加成物[例如，相对于1摩尔双酚a加成2～10摩尔左右的环氧乙烷而得到的加成物]。这些芳香族二醇(c1)可以单独使用，也可以组合使用2种以上。芳香族二醇(c1)优选包含联苯酚类、双酚类或其c2-4环氧烷加成物。聚合物合金中的含芴环聚酯与芳香族聚碳酸酯的比例pe/pc(重量比)例如为1/99～99/1(例如，10/90～97/3)，优选为30/70～95/5、更优选为50/50～90/10、进一步优选为60/40～88/12(例如，65/35～85/15)、特别优选为67/33～83/17(例如，70/30～80/20)。聚合物合金在不损害本发明效果的范围内根据需要还可以包含下述式(3)所示的化合物作为添加剂。式(3)中，z1各自为单环式或稠合多环式芳香族烃环，r6及r7各自为取代基，s、t及u为0以上的整数。聚合物合金可以还包含任意适当的添加剂。作为添加剂，例如，可列举出增塑剂(酯类、苯二甲酸系化合物、环氧化合物、磺酰胺类等)、阻燃剂(无机系阻燃剂、有机系阻燃剂、胶体阻燃物质等)、稳定剂(抗氧化剂、紫外线吸收剂、热稳定剂等)、抗静电剂、填充剂(氧化物系无机填充剂、非氧化物系无机填充剂、金属粉末等)、发泡剂、消泡剂、润滑剂、脱模剂(天然蜡类、合成蜡类、直链脂肪酸或其金属盐、酸酰胺类等)、易滑性赋予剂(例如，二氧化硅、钛氧化物、碳酸钙、粘土、云母、高岭土等无机微粒；(甲基)丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂(交联聚苯乙烯树脂等)等有机微粒)、增容剂。添加的添加剂的数量、种类、组合及添加量可以根据目的来适当设定。聚合物合金的详细情况例如记载于日本特开2017-198956号公报中，该公报的记载作为参考被援引至本说明书中。本发明的实施方式中，表面保护薄膜用基材的面内相位差为re(550)30nm以下，优选为20nm以下、更优选为15nm以下、进一步优选为10nm以下、特别优选为5nm以下。面内相位差re(550)越小越优选，其下限理想的是0nm，例如可以为1nm。面内相位差re(550)为这样的范围时，将使用了本发明的表面保护薄膜用基材的表面保护薄膜供于图像显示装置的光学检查时，能够良好地抑制漏光、着色及彩虹状不均匀。其结果，能够显著地提高图像显示装置的光学检查的精度，能够提高从图像显示装置的制造到出厂为止的效率。这样的面内相位差re(550)可以通过对包含如上所述的特定的聚合物合金的薄膜在后述那样的规定的拉伸条件下进行拉伸来实现。需要说明的是，本说明书中，“re(λ)”为在23℃下以波长λnm的光测得的面内相位差。对于re(λ)，将层(薄膜)的厚度设为d(nm)时，根据式：re＝(nx-ny)×d来求出。因此，“re(550)”为在23℃下以波长550nm的光测得的面内相位差。此处，“nx”为面内的折射率成为最大的方向(即慢轴方向)的折射率，“ny”为在面内与慢轴正交的方向(即快轴方向)的折射率。表面保护薄膜用基材的厚度方向相位差rth(550)优选为95nm以下、更优选为85nm以下。厚度方向相位差rth(550)越小越优选，其下限理想的是0nm。厚度方向相位差rth(550)为这样的范围时，能够良好地抑制上述光学检查中倾斜方向的漏光、着色及彩虹状不均匀。其结果，在大型的图像显示装置的光学检查中也能够显著地提高精度。表面保护薄膜用基材的nz系数优选为3.0～10。因此，表面保护薄膜用基材的折射率特性可以显示例如nx>ny>nz的关系。nz系数为这样的范围时，能够进一步良好地抑制光学检查中倾斜方向的漏光、着色及彩虹状不均匀。“rth(λ)”为在23℃下以波长λnm的光测得的厚度方向的相位差。对于rth(λ)，将层(薄膜)的厚度设为d(nm)时，根据式：rth＝(nx-nz)×d来求出。因此，“rth(550)”为在23℃下以波长550nm的光测得的厚度方向的相位差。此处，“nz”为厚度方向的折射率。进而，“nz系数”通过nz＝rth(λ)/re(λ)来求出。对于表面保护薄膜用基材，可以显示面内相位差相应于测定光的波长而变大的逆色散波长特性、可以显示面内相位差相应于测定光的波长而变小的正的波长色散特性、还可以显示面内相位差基本不因测定光的波长而发生变化的平坦的波长色散特性。表面保护薄膜用基材的总透光率优选为80％以上、更优选为85％以上、进一步优选为90％以上、特别优选为95％以上。进而，表面保护薄膜用基材的雾度优选为1.0％以下、更优选为0.7％以下、进一步优选为0.5％以下、特别优选为0.3％以下。根据本发明的实施方式，能够实现具有如上所述的非常小的面内相位差re(550)、并且具有这样非常优异的透明性的表面保护薄膜用基材。本发明的实施方式中，对于表面保护薄膜用基材，mit试验中的直至断裂为止的弯折次数为500次以上，优选为1000次以上、更优选为1500次以上、进一步优选为2000次以上。即，表面保护薄膜用基材能具有非常优异的挠性或耐弯折性。由于表面保护薄膜用基材的这样优异的挠性或耐弯折性，能够得到贴合时及剥离时的操作性优异、并且破裂得以抑制的表面保护薄膜。根据本发明的实施方式，能够兼顾这样优异的挠性或耐弯折性和如上所述的非常小的面内相位差re(550)。能够实现这样的兼顾是本发明的成果之一。需要说明的是，mit试验可以依据jisp8115来进行。表面保护薄膜用基材的弹性模量优选在拉伸速度100mm/分钟下为50mpa～350mpa。弹性模量为这样的范围时，能够得到输送性及操作性优异的表面保护薄膜。根据本发明的实施方式，能够兼顾优异的弹性模量(强度)和如上所述的优异的挠性或耐弯折性(柔韧性)。需要说明的是，弹性模量依据jisk7127：1999来测定。表面保护薄膜用基材的拉伸伸长率优选为70％～200％。拉伸伸长率为这样的范围时，有在输送中不易断裂的优点。需要说明的是，拉伸伸长率依据jisk6781来测定。表面保护薄膜用基材的厚度代表性的为10μm～100μm，优选为20μm～70μm。b.表面保护薄膜用基材的制造方法本发明的实施方式的表面保护薄膜用基材的制造方法包括：将上述a项目中记载的包含聚合物合金的薄膜形成材料(树脂组合物)成形为薄膜状、及对该成形得到的薄膜进行拉伸。薄膜形成材料除了包含上述聚合物合金以外，还可以包含其他树脂，可以包含添加剂、也可以包含溶剂。作为添加剂，可列举出上述中说明的例子。作为由薄膜形成材料形成薄膜的方法，可以采用任意适当的成形加工法。作为具体例，可列举出压缩成形法、传递成形法、注射成形法、挤出成形法、吹塑成形法、粉末成形法、frp成形法、流延涂布法(例如，流延法)、压延成形法、热压法等。优选挤出成形法或流延涂布法。这是因为，能提高所得薄膜的平滑性，能够得到良好的光学均匀性。成形条件可以根据使用的树脂的组成、种类、表面保护薄膜用基材所期望的特性等来适宜设定。薄膜的拉伸方法代表性的为双轴拉伸，更详细而言为逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸。这是因为，可得到面内相位差re(550)小、并且挠性或耐弯折性优异的表面保护薄膜用基材。逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸代表的是使用拉幅机来进行。因此，薄膜的拉伸方向代表性的为薄膜的长度方向及宽度方向。拉伸温度可以根据表面保护薄膜用基材所期望的面内相位差及厚度、使用的树脂的种类、使用的薄膜的厚度、拉伸倍率等来变化。具体而言，拉伸温度相对于薄膜的玻璃化转变温度(tg)优选为tg+5℃～tg+50℃、更优选为tg+10℃～tg+30℃。通过以这样的温度进行拉伸，本发明的实施方式中可得到具有适当的特性的表面保护薄膜用基材。拉伸倍率可以根据表面保护薄膜用基材所期望的面内相位差及厚度、使用的树脂的种类、使用的薄膜的厚度、拉伸温度等来变化。采用双轴拉伸(例如，逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸)的情况下，第1方向(例如，长度方向)的拉伸倍率和第2方向(例如，宽度方向)的拉伸倍率优选其差尽可能小，更优选实质上相等。为这样的构成时，可得到面内相位差re(550)小、并且挠性或耐弯折性优异的表面保护薄膜用基材。采用双轴拉伸(例如，逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸)的情况下，拉伸倍率对于第1方向(例如，长度方向)及第2方向(例如，宽度方向)各自而言，例如可以为1.1倍～3.0倍。本发明的实施方式中，拉伸速度优选为10％/秒以下、更优选为7％/秒以下、进一步优选为5％/秒以下、特别优选为2.5％/秒以下。通过对包含如上所述的特定的聚合物合金的薄膜以这样小的拉伸速度进行拉伸，从而可得到面内相位差re(550)小、并且挠性或耐弯折性优异的表面保护薄膜用基材。拉伸速度的下限例如可以为1.2％/秒。若拉伸速度过小，则有生产率变不实用的情况。需要说明的是，采用双轴拉伸(例如，逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸)的情况下，第1方向(例如，长度方向)的拉伸速度和第2方向(例如，宽度方向)的拉伸速度优选其差尽可能小，更优选实质上相等。为这样的构成时，能够进一步减小面内相位差re(550)、并且使挠性或耐弯折性更优异。c.表面保护薄膜上述a项及b项中记载的表面保护薄膜用基材可以适当地用于表面保护薄膜。因此，本发明的实施方式也包含表面保护薄膜。本发明的实施方式的表面保护薄膜包含上述a项及b项中记载的表面保护薄膜用基材和粘合剂层。作为形成粘合剂层的粘合剂，可以采用任意适当的粘合剂。作为粘合剂的基础树脂，例如，可列举出丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂、有机硅系树脂、氨基甲酸酯系树脂、橡胶系树脂。这样的基础树脂例如记载于日本特开2015-120337号公报或日本特开2011-201983号公报中。这些公报的记载作为参考而被援引至本说明书中。从耐化学药品性、用于防止浸渍时的处理液的浸入的密合性、对被粘物的自由度等的观点出发，优选丙烯酸系树脂。作为粘合剂中可包含的交联剂，例如，可列举出异氰酸酯化合物、环氧化合物、氮丙啶化合物。粘合剂例如可以包含硅烷偶联剂。粘合剂的配混处方可以根据目的及期望的特性来适当地设定。粘合剂层的储能模量优选为1.0×104pa～1.0×107pa、更优选为2.0×104pa～5.0×106pa。粘合剂层的储能模量为这样的范围时，能够抑制卷形成时的粘连。需要说明的是，储能模量例如可以根据温度23℃及角速度0.1rad/s下的动态粘弹性测定来求出。粘合剂层的厚度优选为1μm～60μm、更优选为3μm～30μm。若厚度过薄，则有时粘合性变不充分，在粘合界面混入气泡等。若厚度过厚，则容易产生粘合剂渗出等不良情况。实用上，表面保护薄膜在实际使用(即，贴合于光学薄膜或图像显示装置)之前，以可剥离的方式在粘合剂层表面临时粘贴隔离体。通过设置隔离体，从而能保护粘合剂层、并且将表面保护薄膜卷取成卷状。作为隔离体，例如，可列举出利用有机硅系剥离剂、氟系剥离剂、丙烯酸长链烷基酯系剥离剂等剥离剂进行了表面涂布的塑料(例如，聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚乙烯、聚丙烯)薄膜、无纺布或纸等。对于隔离体的厚度，可以根据目的来采用任意适当的厚度。隔离体的厚度例如为10μm～100μm。d.带表面保护薄膜的光学薄膜上述c项中记载的表面保护薄膜用于在实际使用光学薄膜(最终为图像显示装置)之前保护该光学薄膜。因此，本发明的实施方式也包含带表面保护薄膜的光学薄膜。本发明的实施方式的带表面保护薄膜的光学薄膜包含：光学薄膜、以可剥离的方式贴合于该光学薄膜的上述c项中记载的表面保护薄膜。光学薄膜可以为单一薄膜，也可以为层叠体。作为光学薄膜的具体例，可列举出偏光件、相位差薄膜、偏光板(代表性的为偏光件与保护薄膜的层叠体)、触摸面板用导电性薄膜、表面处理薄膜、以及根据目的将它们适当地层叠而得到的层叠体(例如，防反射用圆偏光板、触摸面板用带导电层偏光板、带相位差层偏光板、棱镜片一体型偏光板)。[实施例]以下，通过实施例具体地对本发明进行说明，但本发明不受这些实施例限定。实施例中的各特性的测定方法如下。需要说明的是，只要没有特别说明，则实施例中的“份”及“％”为重量基准。(1)面内相位差re(550)及厚度方向相位差rth(550)将实施例及比较例中得到的表面保护薄膜用基材(双轴拉伸薄膜)切成长度4cm及宽度4cm，作为测定试样。对该测定试样使用axometrics公司制、制品名“axoscan”测定面内相位差及厚度方向相位差。测定波长为550nm、测定温度为23℃。(2)雾度对与上述(1)同样的测定试样，使用雾度计(村上色彩技术研究所制、hm-150型)测定雾度。测定温度为23℃。(3)mit试验mit试验依据jisp8115来进行。具体而言，将实施例及比较例中得到的表面保护薄膜用基材(双轴拉伸薄膜)切成长度15cm及宽度1.5cm，作为测定试样。将测定试样安装于mit耐折疲劳试验机be-202型(testersangyoco,.ltd.制)(载荷1.0kgf、夹具的r：0.38mm)，以试验速度90cpm及弯折角度90°并以2000次为上限重复进行弯折，将测定试样断裂时的弯折次数作为试验值。(4)彩虹状不均匀将实施例及比较例中得到的表面保护薄膜用基材(双轴拉伸薄膜)配置在交叉棱镜状态的2张偏光板间。此时，以表面保护薄膜用基材的长度方向与一个偏光板的透过轴方向平行的方式配置表面保护薄膜用基材。在该状态下从下侧偏光板的下侧照射荧光灯的光，通过目视观察彩虹状不均匀的有无。按照以下的基准进行评价。○：未观察到彩虹状不均匀△：稍微观察到彩虹状不均匀×：显著观察到彩虹状不均匀(5)挠性或耐弯折性对表面保护薄膜用基材(双轴拉伸薄膜)重复100次180°弯折试验，确认断裂的有无。按照以下的基准进行评价。○：未观察到断裂×：观察到断裂<实施例1>1-1.聚合物合金的制备作为原料，使用下述物质。fdpm：9,9-双(2-甲氧基羰基乙基)芴[9,9-双(2-羧基乙基)芴(或芴-9,9-二丙酸)的二甲基酯]，是将日本特开2005-89422号公报的实施例1记载的丙烯酸叔丁酯变更为丙烯酸甲酯[37.9g(0.44摩尔)]，除此以外同样地进行合成而得到的bpef：9,9-双[4-(2-羟基乙氧基)苯基]芴、osakagaschemicalsco.,ltd.制eg：乙二醇pc：双酚a型聚碳酸酯树脂、mitsubishiengineering-plasticscorporation制“iupilonh-4000”在fdpm1.00摩尔、bpef0.80摩尔、eg2.20摩尔中加入作为酯交换催化剂的乙酸锰·四水合物2×10-4摩尔及乙酸钙·一水合物8×10-4摩尔，边搅拌边缓慢加热熔融。升温至230℃后，加入磷酸三甲酯14×10-4摩尔、氧化锗20×10-4摩尔，缓慢进行升温至达到270℃、0.13kpa以下，边进行减压边去除eg。到达规定的搅拌扭矩后，将内容物从反应器中取出，制备含芴环聚酯的粒料。通过1h-nmr对所得粒料进行分析，结果导入至含芴环聚酯的二羧酸成分的100摩尔％源自fdpm，所导入的二醇成分的80摩尔％源自bpef、20摩尔％源自eg。所得含芴环聚酯的玻璃化转变温度tg为126℃、重均分子量mw为43600。将所得含芴环聚酯和pc以20/80(重量比)用双螺杆混炼机进行混炼，制作聚合物合金的粒料。1-2.聚合物合金薄膜的制作将所得聚合物合金在80℃下进行5小时真空干燥后，使用具备单螺杆挤出机(isuzuchemicalindustries制、螺杆直径25mm、料筒设定温度：255℃)、t模(宽度200mm、设定温度：255℃)、冷却辊(设定温度：120～130℃)及卷取机的薄膜制膜装置，制作厚度160μm的聚合物合金薄膜。1-3.表面保护薄膜用基材的制作将上述中得到的聚合物合金薄膜沿长度方向及宽度方向分别同时进行双轴拉伸至2倍。拉伸温度为[tg+20℃](即146℃)，拉伸速度在长度方向及宽度方向均为1.4％/秒。如此得到表面保护薄膜用基材(厚度40μm)。所得表面保护薄膜用基材的re(550)为8nm、rth(550)为80nm、雾度为0.3％、mit试验值超过作为上限的2000次。将所得表面保护薄膜用基材供于上述(4)及(5)的评价。将结果示于表1。<实施例2>将拉伸速度在长度方向及宽度方向均设为3.1％/秒，除此以外，与实施例1同样地操作，得到表面保护薄膜用基材。所得表面保护薄膜用基材的re(550)为10nm、rth(550)为81nm、雾度为0.2％、mit试验值超过作为上限的2000次。将所得表面保护薄膜用基材供于上述(4)及(5)的评价。将结果示于表1。<实施例3>将拉伸速度在长度方向及宽度方向均设为6.5％/秒，除此以外，与实施例1同样地操作，得到表面保护薄膜用基材。所得表面保护薄膜用基材的re(550)为20nm、rth(550)为85nm、雾度为0.3％、mit试验值超过作为上限的2000次。将所得表面保护薄膜用基材供于上述(4)及(5)的评价。将结果示于表1。<实施例4>将拉伸速度在长度方向及宽度方向均设为10％/秒，除此以外，与实施例1同样地操作，得到表面保护薄膜用基材。所得表面保护薄膜用基材的re(550)为30nm、rth(550)为91nm、雾度为0.2％、mit试验值超过作为上限的2000次。将所得表面保护薄膜用基材供于上述(4)及(5)的评价。将结果示于表1。<比较例1>代替聚合物合金薄膜，使用市售的降冰片烯系树脂薄膜(zeoncorporation制、商品名“zeonor”、tg：150℃)，除此以外，与实施例1同样地操作，得到表面保护薄膜用基材。所得表面保护薄膜用基材的re(550)为2nm、rth(550)为8nm、雾度为0.1％、mit试验值为150次。将所得表面保护薄膜用基材供于上述(4)及(5)的评价。将结果示于表1。＜比较例2＞代替聚合物合金薄膜，使用超高相位差聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(mitsubishichemicalcorporation制、商品名“diafoil”、tg：81℃)，除此以外，与实施例1同样地操作，得到表面保护薄膜用基材。所得表面保护薄膜用基材的re(550)为4500nm、rth(550)为6000nm、雾度为1.3％、mit试验值超过作为上限的2000次。将所得表面保护薄膜用基材供于上述(4)及(5)的评价。将结果示于表1。[表1]实施例1实施例2实施例3实施例4比较例1比较例2构成材料聚合物合金聚合物合金聚合物合金聚合物合金降冰片烯pet拉伸速度(％/秒)1.43.16.510.11.41.4拉伸温度(℃)tg+20tg+20tg+20tg+20tg+20tg+20拉伸倍率(长度/宽度)2/22/22/22/22/22/2re(550)(nm)810203024500rth(550)(nm)8081859186000雾度(％)0.30.20.30.20.11.3mit试验(次数)>2000>2000>2000>2000150＞2000彩虹状不均匀○○○△○×耐弯折性○○○○×○＜评价＞根据表1明确可知，本发明的实施例的表面保护薄膜用基材能防止彩虹状不均匀，并且具有优异的耐弯折性(或挠性)。推测这可以通过以规定值以下的拉伸速度对包含特定的聚合物合金的薄膜进行拉伸来实现。进而，比较实施例1～4时明确可知，越减小拉伸速度，越能得到优异的特性(小的面内相位差)。需要说明的是，关于漏光及着色，确认了也得到与彩虹状不均匀同样的结果。产业上的可利用性本发明的表面保护薄膜用基材适合用于表面保护薄膜。本发明的表面保护薄膜用于在实际使用光学薄膜(最终为图像显示装置)之前保护该光学薄膜。通过使用本发明的表面保护薄膜用基材及表面保护薄膜，能够显著地提高图像显示装置的光学检查的精度。当前第1页1 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