优克那非氧化物及其制备方法和用途与流程

文档序号:29949499发布日期:2022-05-07 17:36阅读:来源:国知局

技术特征:
1.如下式i所示的化合物或其药学上可接受的盐:2.一种药物组合物,其特征在于,所述药物组合物包含优克那非或其药学上可接受的盐,以及药学上可接受的辅料;优选地,所述药物组合物具有避光和/或密封的包装。3.权利要求1所述的式i所示的化合物或其药学上可接受的盐的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括将优克那非或其药学上可接受的盐氧化,得到所述式i所示的化合物或其药学上可接受的盐;优选地,所述氧化在氧化剂存在下进行;例如,所述氧化剂为过氧化氢、c
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的过氧脂肪酸、过氧苯甲酸、卤代过氧苯甲酸、过硫酸铵、过氧化氢异丙苯和过氧化氢二异丙苯中的至少一种;优选地,所述氧化剂与优克那非或其药学上可接受的盐的质量比为0.3:1~1:1;优选地,氧化反应的温度为20~100℃;优选地,所述氧化在溶剂中进行;例如,所述溶剂选自所述氧化反应的温度下为液体的有机酸,优选为c
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的有机酸。优选地,在加入所述氧化剂前对含有优克那非或其药学上可接受的盐的溶液进行降温处理;优选地,所述制备方法还包括后处理步骤;例如,所述后处理步骤包括向氧化体系中加入还原剂,淬灭反应;优选地,所述制备方法还包括纯化步骤;优选地,所述纯化步骤包括上述后处理完成后,对反应产物进行萃取、洗涤、干燥和重结晶的步骤。4.权利要求1所述的式i所示的化合物或其药学上可接受的盐作为标准品或对照品的用途,优选作为药品标准品或对照品的用途;优选地,所述式i所示的化合物或其药学上可接受的盐作为优克那非或其药学上可接受的盐的质量研究标准品或对照品的用途。5.根据权利要求2所述的药物组合物,其中所述药物组合物中,以式i所示的化合物计,式i所示的化合物或其药学上可接受的盐的重量百分比含量≤0.5%;优选地,所述药物组合物中,以式i所示的化合物计,式i所示的化合物或其药学上可接受的盐的重量百分比含量≥0;优选地,所述药物组合物中,以式i所示的化合物计,式i所示的化合物或其药学上可接受的盐的重量百分比含量≤0.2%,更优选≤0.15%,更优选≤0.1%。6.优克那非或其药学上可接受的盐在制备药物组合物中的用途,其中所述药物组合物
具有如权利要求2或5所述的定义。7.一种优克那非或其药学上可接受的盐的质量控制方法,其特征在于,所述质量控制方法包括将式i所示的化合物或其药学上可接受的盐作为标准品或对照品,优选作为药品标准品或对照品使用;或者,所述质量控制方法包括检测式i所示的化合物或其药学上可接受的盐;优选地,所述检测是定性检测或定量检测;或者,所述质量控制方法包括将优克那非或其药学上可接受的盐在不利于式i所示的化合物或其药学上可接受的盐形成的条件下保存或使用。8.权利要求2或5所述药物组合物的制备方法,其特征在于,包括将优克那非或其药学上可接受的盐与药学上可接受的辅料混合,其中所述制备方法在不利于式i所示的化合物或其药学上可接受的盐形成的条件下进行。9.一种优克那非或其药学上可接受的盐的保存或使用方法,其特征在于,所述保存或使用方法在不利于式i所示的化合物或其药学上可接受的盐形成的条件下进行;优选地,所述“不利于式i所示的化合物或其药学上可接受的盐形成的条件”包括但不限于选自避光和密封条件中的至少一种;更优选选自避光且密封的条件;优选地,所述优克那非或其药学上可接受的盐的保存或使用方法可以在避光和密封,并且在温度低于60℃(优选低于50℃)和/或相对湿度低于rh75%(优选低于65%)的条件下进行。10.权利要求1所述式i所示的化合物或药学上可接受的盐的检测方法,其特征在于,所述检测方法包括采用高效液相色谱法检测供试品溶液中式i所示的化合物或药学上可接受的盐;优选地,高效液相色谱法所用的色谱柱为以十八烷基键合硅胶为填充剂的色谱柱;优选地,所述检测的波长为220~230nm;优选地,色谱柱的柱温为20~30℃;优选地,流速为0.5~1.5ml/min;优选地,所述高效液相色谱法以枸橼酸缓冲液-乙腈作为流动相;优选地,所述枸橼酸缓冲液的ph为5.3~5.5;优选地,所述枸橼酸缓冲液为枸橼酸-三乙胺缓冲液;优选地,所述流动相中枸橼酸缓冲液与乙腈的体积比为(45-55):(55-45);优选地,所述供试品溶液由所述流动相配制,所述供试品溶液中以盐酸优克那非计的浓度为0.5-1.5mg/ml;优选地,所述检测方法所用的对照品为式i所示的化合物或药学上可接受的盐,所述供试品为含有优克那非或其药学上可接受的盐的药物组合物。

技术总结
本发明公开了一种式Ⅰ所示的优克那非氧化物或其药学上可接受的盐,以及该化合物的制备方法和用途。该杂质为盐酸优克那非的降解杂质,可用作有关物质研究用对照品,用于盐酸优克那非方法学验证和质量控制,以更好地控制产品质量。品质量。品质量。品质量。


技术研发人员:刘旭 梁慧兴 曹兵 戴华山 尹利献 翟佳平
受保护的技术使用者:扬子江药业集团有限公司
技术研发日:2021.11.01
技术公布日:2022/5/6
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