一种蓝宝石清洗剂的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及清洗剂技术领域，特别地，涉及一种蓝宝石清洗剂。
【背景技术】
[0002] 刚玉是三氧化二铝的一种结晶形式。蓝宝石是刚玉宝石中除红宝石外，其它颜色 刚玉宝石的通称。蓝宝石具有硬度高、熔点高、透光性好，化学性能稳定，其硬度达到莫氏 9. 2~9. 4级，因此被广泛应用于机械、光学、信息等高技术领域，使用蓝宝石作为手机触摸 屏具有抗划伤、抗碎裂等优点。
[0003] 在手机蓝宝石触摸面板的加工工艺中，研磨工艺会使用钻石液，抛光工艺会使用 抛光液，所以经外形加工及表面抛光后的蓝宝石触摸屏表面和凹槽内会残留重油污钻石 液，主要成分为植物油和矿物油，目前市场上出售的碱性清洗剂主要存在以下缺点：
[0004] (1)清洗效果不明显，无法一次性去除凹槽内的顽固污渍，需返洗造成机器人工成 本增加；
[0005] (2)强碱性会导致蓝宝石加工过程中保护油墨脱落；
[0006] (3)清洗剂重复使用次数低导致使用成本高。
【发明内容】
[0007] 针对上述问题，本发明提供了一种去污效率高、循环使用时间长的弱碱性蓝宝石 清洗剂，以解决技术问题。
[0008] 因此，本发明提供一种蓝宝石清洗剂，所述清洗剂按重量分数计包括碳酸钠 1-3 %，无水偏硅酸钠1-5 %，EDTA四钠0? 1-0. 5 %，二乙二醇单丁醚10-15 %，渗透剂3-5 %， 壬基酚聚氧乙烯醚TX-10 5-10%，非离子表面活性剂1-3%，余量为纯水。
[0009] 在一种具体实施例中，所述蓝宝石清洗剂用于清洗蓝宝石触摸面板经外形加工及 表面抛光后残留在表面和凹槽内的重油污钻石液，且所述重油污钻石液的主要成分为植物 油和矿物油。
[0010] 在一种具体实施例中，所述非离子表面活性剂为烷基糖苷和十二烷基苯磺酸钠的 复配组合。
[0011] 在一种具体实施例中，所述烷基糖苷与十二烷基苯磺酸钠的重量比例为1 :1-4， 更优选比例为1 :2-3。
[0012] 氢氧化钠一直被广泛应用于清洗剂的生产中，具有清洗效果好的优点，但氢氧化 钠是一种强碱性物质，在清洗过程中易导致蓝宝石加工过程中保护油墨脱落，在本配方中， 采用碳酸钠代替氢氧化钠，并通过添加无水偏硅酸钠增加"游离碱"的量，保持良好清洗 效果的同时使清洗液维持弱碱性，将所述蓝宝石清洗剂稀释至10-15倍配制成清洗液，在 65°C时测得其pH值为12-12.8。在实施例中，碳酸钠和无水偏硅酸钠的比例无特殊要求。 此两个物质是为了调节PH值控制清洗过程中"游离碱"的含量，一般两者的总含量控制在 5% -10%〇
[0013] 在本发明中，所述蓝宝石清洗剂的制备步骤如下：
[0014] (1)将EDTA四钠加入水中搅拌至完全溶解，再依次分别加入碳酸钠、无水偏硅酸 钠充分搅拌溶解至透明溶液，最后添加渗透剂得A液；
[0015] (2)将二乙二醇单丁醚加入壬基酚聚氧乙烯醚TX-10中，搅拌至澄清透明得B液；
[0016] (3)将B液快速倒入A液并搅拌至液体呈微浑浊状态，再添加非离子表面活性剂， 搅拌至完全澄清。
[0017] 上述制备步骤均无需加热，在常温下即可操作，制备工艺简单，操作方便。
[0018] 本发明所述蓝宝石清洗剂的使用方法如下：将所述蓝宝石清洗剂稀释10-15倍配 制成清洗液，将多块蓝宝石触摸屏和清洗剂均置入超声波清洗机中，将超声波清洗机的温 度设置为60-65°C，时间设定为90S，清洗完成后，将蓝宝石触摸屏用清水冲洗即达到有效 去油的目的。本发明的清洗剂可循环使用，使用时间为36小时。
[0019] 在某种具体实施例中，按照以上所述蓝宝石清洗剂的使用方法对蓝宝石触摸屏进 行除油，一次性合格率大于99 %。
[0020] 超声波清洗剂使用超声波清洗的原理对物件进行清洗，可以达到全面洁净的清洗 效果，特别对深孔、盲孔、凹凸槽清洗是最理想的设备，不影响任何物件的材质及精度。超 声波清洗剂在使用过程中，清洗剂的最高温度不应超过70°C，一般来说，随着温度升高，清 洗剂的清洗效果会更好，本发明为了取得最佳清洗效果，通过将配方中壬基酚聚氧乙烯醚 TX-10与非离子表面活性剂的复配比例控制在2-3倍，从而使清洗温度在65°C时使清洗剂 达到最好的清洗效果。
[0021] 本发明的有益效果是：
[0022] ⑴本发明，提供一种弱碱性蓝宝石清洗剂，经清洗后表面无油污，能够有效清除凹 槽内顽固污渍。
[0023] ⑵本发明配方通过添加无水偏硅酸钠增加"游离碱"的量，达到保持良好清洗效果 的同时减少活性剂的用量，且在清洗过程保持清洗液弱碱性（65°C时的pH值为12-12. 8)， 对加工过程保护油墨无影响。
[0024] ⑶本发明配方中将壬基酚聚氧乙烯醚TX-10与非离子表面活性剂的复配比例控 制在2-3倍，可控制清洗温度在65°C时有最好的清洗效果。
[0025] ⑷本发明配方中壬基酚聚氧乙烯醚TX-10与渗透剂同时使用，能够使油污乳化后 达到很好的分散，避免再沉积。
[0026] (5)本发明的清洗剂稀释10-15倍后使用，循环使用时间达到36小时，清洗剂用量 少，使用时间长，使用成本低，且不含有任何卤化素成份，不含有破坏臭氧层的成份，无气 味，各组分能完全降解，对环境无污染。
[0027] (6)本发明清洗剂的使用方法操作简单，可一并将蓝宝石触摸屏和清洗剂均置入超 声波清洗机中，设定好相关参数，启动电源开关即可，清洗完成后用清水冲洗即可达到去油 目的，表面无残留且除油合格率高达99%以上。
【具体实施方式】
[0028] 以下对本发明的实施例进行详细说明，但是本发明可以根据权利要求限定和覆盖 的多种不同方式实施。
[0029] 实施例1
[0030] -种蓝宝石清洗剂，按以下重量百分比选取原料：由碳酸钠1份，无水偏硅酸钠3 份，EDTA四钠0. 3份，二乙二醇单丁醚10份，渗透剂4. 5份，壬基酚聚氧乙烯醚TX-105份， 烷基糖苷〇. 6份，十二烷基苯磺酸钠1. 2份，非离子表面活性剂1. 8份，余量为纯水。
[0031] 碳酸钠：无水偏硅酸钠（天津市科密欧化学试剂）（含量> 99% )
[0032] 无水偏硅酸钠：天津博迪化工试剂（含量>99 %)
[0033] EDTA_4Na:天津博迪化工试剂（含量> "% )
[0034] 二乙二醇丁醚：陶氏化工（含量> 99% )
[0035] 渗透剂：墨西哥喜赫（浓度>70%)
[0036] Tx-10:德国汉姆（含量>80%)
[0037] APG:科宁（含量 >80%)
[0038] 十二烷基苯磺酸钠：天津博迪化学试剂（含量>99 %)
[0039] 制备方法如下：
[0040] (1)称取3KgEDTA四钠加入744Kg纯水中搅拌至完全溶解，再依次分别加入10Kg 碳酸钠、30Kg无水偏硅酸钠充分搅拌溶解至透明溶液，最后添加45Kg渗透剂得A液；
[0041] (2)将lOOKg二乙二醇单丁醚的量加入至50Kg的壬基酚聚氧乙烯醚TX-10中，搅 拌至澄清透明得B液；
[0042] (3)将B液快速倒入A液搅拌1小时至微浑浊液体，再添加6Kg烷基糖苷和12Kg 十二烷基苯磺酸钠，搅拌至完全澄清即可。
[0043] 其余实施例的制备方法同实施例1，配方中纯水的量为余量，其他组分比例具体详 见下表。
[0044]
【主权项】
1. 一种蓝宝石清洗剂，其特征在于：由以下重量百分比的原料组成： 碳酸钠1-3% 无水偏娃酸钠1-5% EDTA四钠 0.1-0.5% 二乙二醇单丁醚10-15% 渗透剂3-5% 壬基酚聚氧乙烯醚TX-10 5-10% 非离子表面活性剂1-3% 余量为纯水。
2. 根据权利要求1所述的一种蓝宝石清洗剂，其特征在于，所述壬基酚聚氧乙烯醚 TX-10与非离子表面活性剂的重量比例为2-3:1。
3. 根据权利要求1所述的一种蓝宝石清洗剂，其特征在于，所述非离子表面活性剂为 烷基糖苷和十二烷基苯磺酸钠的复配组分。
4. 根据权利要求3所述的一种蓝宝石清洗剂，其特征在于，所述烷基糖苷与十二烷基 苯磺酸钠的重量比例为1 :1-4。
5. 根据权利要求1所述的一种蓝宝石清洗剂，其特征在于，所述蓝宝石清洗剂稀释至 10-15 倍时 65°C下的pH值为 12-12.8。
6. 根据权利要求1-5任一项所述的一种蓝宝石清洗剂的制备方法，其特征在于，包括 步骤： A、 将EDTA四钠加入水中搅拌至完全溶解，再依次分别加入所述重量分数的碳酸钠、无 水偏硅酸钠充分搅拌溶解至透明溶液，最后添加所述重量分数的渗透剂得A液； B、 将所述重量分数的二乙二醇单丁醚的量加入壬基酚聚氧乙烯醚TX-10中，搅拌至澄 清透明得B液； C、 将B液快速倒入A液搅拌至微浑浊液体，再添加所述重量分数的非离子表面活性剂， 搅拌至完全澄清即可。
【专利摘要】本发明提供一种蓝宝石清洗剂，由以下重量百分比的原料组成：碳酸钠1-3％，无水偏硅酸钠1-5％，EDTA四钠0.1-0.5％，二乙二醇单丁醚10-15％，渗透剂3-5％，壬基酚聚氧乙烯醚TX-105-10％，非离子表面活性剂1-3％，余量为水，可一次性去除经外形加工及表面抛光后残留在蓝宝石触摸屏表面和凹槽内的顽固污渍，同时保护油墨不脱落，具有清洗效果好，清洗合格率高(99％以上)，循环使用寿命长，易漂洗，对环境友好等优点。同时本发明产品还可用于光学玻璃，汽车玻璃，金属，塑料等硬表面材质重油污清洗(针对脏污为植物油，矿物油，蜡，灰尘等)。
【IPC分类】C11D1-831, C11D3-60, C11D3-33, C11D3-10
【公开号】CN104818142
【申请号】CN201510148308
【发明人】周群飞, 饶桥兵, 曾巧
【申请人】蓝思科技（长沙）有限公司
【公开日】2015年8月5日
【申请日】2015年3月31日