本发明属于环保设备技术领域，具体涉及一种空气净化设备外壳自清洁涂层的制备方法。
背景技术：
空气净化设备是指能够滤除或杀灭空气污染物、有效提高空气清洁度的产品，目前以清除室内空气污染的家用和商用空气净化设备为主。空气净化设备所具有的除臭、防霉、抗菌、持久净化空气的特性，可净化空气、清除异味、防止病菌传染，能有效的解决室内空气污染，消除因室内空气污染而影响人们情绪的不良反应。空气净化设备在使用的过程中，虽然其能将空气中的污染物含量降低，但是这些污染物极易吸附在空气净化设备的外表面，导致其外壳需要经常清洗，并且易成为污染源对净化后的空气造成污染。
技术实现要素：
为了解决上述技术问题，本发明提供一种空气净化设备外壳自清洁涂层的制备方法。
本发明是通过以下技术方案实现的。
一种空气净化设备外壳自清洁涂层的制备方法，包括以下操作步骤：
（1）将硅粉和铋粉按照质量比为18-25:1的比例混合后，加入至烘箱中，烘烤处理2-3小时，制得复合载体；
（2）按重量份计，将9-11份二水合钨酸钠、5-6份硝酸镓加入至60-70份去离子水中，混合均匀后，将混合物的温度升至75-80℃后，搅拌处理10-15min，然后向其中加入4-8份步骤（1）制得的复合载体和0.1-0.3份的磷钨杂多酸，继续保温搅拌20-30min后，将混合物加入至密闭的反应釜中，将其温度升至190-200℃，保温处理4-5小时后，进行离心、洗涤、干燥后制得自清洁添加剂；
（3）按重量份计，将55-60份纯丙乳液、15-20份云母粉、11-14份滑石粉、3-6份固化剂、1-3份偶联剂、4-7份自清洁添加剂混合搅拌均匀后，制得自清洁涂料；
（4）将空气净化设备外壳清洗干净后，将步骤（3）制得的自清洁涂料涂刷在其表面，室温干燥后，制得成品。
具体地，上述步骤（1）中，硅粉为单晶硅，纯度为99.99%，平均粒径大小为300-500目。
具体地，上述步骤（1）中，铋粉的纯度为99.99%，平均粒径大小为600-700目。
具体地，上述步骤（1）中，烘干的温度120-150℃。
具体地，上述步骤（2）中，洗涤的具体操作为：采用去离子水洗涤3次后，采用质量分数为75%的乙醇溶液清洗5次，再采用去离子水清洗2次后，清洗完成。
具体地，，上述步骤（2）中，干燥的温度为55-60℃，烘干的时间为3-4小时。
具体地，上述步骤（3）中，云母粉和滑石粉的平均粒径大小均为1000-1200目。
具体地，上述步骤（3）中，固化剂为二丙烯三胺、二乙胺基丙胺、间苯二甲胺中的任意一种，偶联剂为铝酸酯偶联剂、钛酸酯偶联剂中的任意一种。
由以上的技术方案可知，本发明的有益效果是：
本发明提供的一种空气净化设备外壳自清洁涂层的制备方法，操作简单，工艺稳定，得到的空气净化设备的外壳，表面粗糙度低，色泽均匀，具有优异的耐腐蚀、耐氧化性能，尤其是具有优异的自清洁性能，可在光照的条件下，具有极其优异的杀菌性能和降解污染物的性能。其中，步骤（1）中，本发明在硅粉中加入少量的铋粉，制得的复合载体，可有效的防止反应体系中，团聚现象的发生，同时利用复合载体中单晶硅的空间结构，还能与制得的钨酸镓产生协同作用，进而有效的提升了钨酸镓光催化的活性；磷钨杂多酸的添加，可有效的提升钨酸钠和硝酸镓反应的速率，提升反应的得率和产品的纯度，另一方面，磷钨杂多酸可有效的提升自清洁添加剂在纯丙乳液中的分散性能；本发明制得的自清洁添加剂，在干燥后形成的膜层中，不易发生析出的现象，同时具有优异的光催化降解活性和抑菌活性，可有效的提升空气净化设备表面的清洁性能。
具体实施方式
下面通过具体的实施例对本发明进行详细说明，但这些举例性实施方式的用途和目的仅用来例举本发明，并非对本发明的实际保护范围构成任何形式的任何限定，更非将本发明的保护范围局限于此。
实施例1
一种空气净化设备外壳自清洁涂层的制备方法，包括以下操作步骤：
（1）将硅粉和铋粉按照质量比为18:1的比例混合后，加入至烘箱中，烘烤处理2小时，制得复合载体；
（2）按重量份计，将9份二水合钨酸钠、5份硝酸镓加入至60份去离子水中，混合均匀后，将混合物的温度升至75℃后，搅拌处理10min，然后向其中加入4份步骤（1）制得的复合载体和0.1份的磷钨杂多酸，继续保温搅拌20min后，将混合物加入至密闭的反应釜中，将其温度升至190℃，保温处理4小时后，进行离心、洗涤、干燥后制得自清洁添加剂；
（3）按重量份计，将55份纯丙乳液、15份云母粉、11份滑石粉、3份固化剂、1份偶联剂、4份自清洁添加剂混合搅拌均匀后，制得自清洁涂料；
（4）将空气净化设备外壳清洗干净后，将步骤（3）制得的自清洁涂料涂刷在其表面，室温干燥后，制得成品。
具体地，上述步骤（1）中，硅粉为单晶硅，纯度为99.99%，平均粒径大小为300目。
具体地，上述步骤（1）中，铋粉的纯度为99.99%，平均粒径大小为600目。
具体地，上述步骤（1）中，烘干的温度120℃。
具体地，上述步骤（2）中，洗涤的具体操作为：采用去离子水洗涤3次后，采用质量分数为75%的乙醇溶液清洗5次，再采用去离子水清洗2次后，清洗完成。
具体地，，上述步骤（2）中，干燥的温度为55℃，烘干的时间为3小时。
具体地，上述步骤（3）中，云母粉和滑石粉的平均粒径大小均为1000目。
具体地，上述步骤（3）中，固化剂为二丙烯三胺，偶联剂为铝酸酯偶联剂。
实施例2
一种空气净化设备外壳自清洁涂层的制备方法，包括以下操作步骤：
（1）将硅粉和铋粉按照质量比为22:1的比例混合后，加入至烘箱中，烘烤处理2.5小时，制得复合载体；
（2）按重量份计，将10份二水合钨酸钠、5份硝酸镓加入至65份去离子水中，混合均匀后，将混合物的温度升至78℃后，搅拌处理13min，然后向其中加入6份步骤（1）制得的复合载体和0.2份的磷钨杂多酸，继续保温搅拌25min后，将混合物加入至密闭的反应釜中，将其温度升至195℃，保温处理4.5小时后，进行离心、洗涤、干燥后制得自清洁添加剂；
（3）按重量份计，将58份纯丙乳液、18份云母粉、12份滑石粉、5份固化剂、2份偶联剂、5份自清洁添加剂混合搅拌均匀后，制得自清洁涂料；
（4）将空气净化设备外壳清洗干净后，将步骤（3）制得的自清洁涂料涂刷在其表面，室温干燥后，制得成品。
具体地，上述步骤（1）中，硅粉为单晶硅，纯度为99.99%，平均粒径大小为400目。
具体地，上述步骤（1）中，铋粉的纯度为99.99%，平均粒径大小为650目。
具体地，上述步骤（1）中，烘干的温度130℃。
具体地，上述步骤（2）中，洗涤的具体操作为：采用去离子水洗涤3次后，采用质量分数为75%的乙醇溶液清洗5次，再采用去离子水清洗2次后，清洗完成。
具体地，，上述步骤（2）中，干燥的温度为58℃，烘干的时间为3.5小时。
具体地，上述步骤（3）中，云母粉和滑石粉的平均粒径大小均为1100目。
具体地，上述步骤（3）中，固化剂为二乙胺基丙胺，偶联剂为钛酸酯偶联剂。
实施例3
一种空气净化设备外壳自清洁涂层的制备方法，包括以下操作步骤：
（1）将硅粉和铋粉按照质量比为25:1的比例混合后，加入至烘箱中，烘烤处理3小时，制得复合载体；
（2）按重量份计，将11份二水合钨酸钠、6份硝酸镓加入至70份去离子水中，混合均匀后，将混合物的温度升至80℃后，搅拌处理15min，然后向其中加入8份步骤（1）制得的复合载体和0.3份的磷钨杂多酸，继续保温搅拌30min后，将混合物加入至密闭的反应釜中，将其温度升至200℃，保温处理5小时后，进行离心、洗涤、干燥后制得自清洁添加剂；
（3）按重量份计，将60份纯丙乳液、20份云母粉、14份滑石粉、6份固化剂、3份偶联剂、7份自清洁添加剂混合搅拌均匀后，制得自清洁涂料；
（4）将空气净化设备外壳清洗干净后，将步骤（3）制得的自清洁涂料涂刷在其表面，室温干燥后，制得成品。
具体地，上述步骤（1）中，硅粉为单晶硅，纯度为99.99%，平均粒径大小为500目。
具体地，上述步骤（1）中，铋粉的纯度为99.99%，平均粒径大小为700目。
具体地，上述步骤（1）中，烘干的温度150℃。
具体地，上述步骤（2）中，洗涤的具体操作为：采用去离子水洗涤3次后，采用质量分数为75%的乙醇溶液清洗5次，再采用去离子水清洗2次后，清洗完成。
具体地，，上述步骤（2）中，干燥的温度为60℃，烘干的时间为4小时。
具体地，上述步骤（3）中，云母粉和滑石粉的平均粒径大小均为1200目。
具体地，上述步骤（3）中，固化剂为间苯二甲胺，偶联剂为钛酸酯偶联剂。
分别用各实施例的方法制得自清洁涂料，然后将其涂刷在10cm×10cm×2cm的不锈钢试样表面，制得膜层后，测试膜层的自清洁效果，其中对照组的涂料不含有自清洁添加剂，其余的操作方法与实施例1完全相同，测试方法如下：
实验过程为，将不锈钢试样放入到2l的待降解污染物溶液中，再将其移至可见光下照射，污染物的实时浓度通过分光光度计检测，在固定时间间隔，被测污染物的初始浓度均为1×10-5mol/l，测试将污染物完全降解所需时间，自清洁涂层的除污效果测试结果如下：实施例1对硝基苯酚需要114min,罗丹明b需要97min,亚甲基蓝染料需要90min；实施例2对硝基苯酚需要111min,罗丹明b需要95min,亚甲基蓝染料需要88min；实施例3对硝基苯酚需要110min,罗丹明b需要94min,亚甲基蓝染料需要87min；对照组对硝基苯酚污染物浓度不变,罗丹明b污染物浓度不变,亚甲基蓝染料污染物浓度不变；本发明制得的空气净化设备外壳自清洁涂层，对污染物的降解效果显著。
最后说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的宗旨和范围，其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。