本实用新型涉及增光片生产技术领域，具体涉及一种增光片生产设备。
背景技术：
增光片为背光模组的重要组成部分，通过光的折射及反射来增加背光模组的最终亮度，其结构主要包括基材、光学微结构及上下保护膜，保护膜可以提高增光片防污、耐磨及耐腐蚀能力。现有增光片贴合设备将粘合剂通过热压合辊与保护膜压合后收卷成盘，贴合保护膜的增光片携带静电容易使增光片收卷不齐影响后续使用。另外，贴合后的增光片可能附带有残余粘合剂和灰尘，直接收卷成盘容易沾污增光片。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供一种增光片生产设备，其能使增光片贴合保护膜后干净、不携带静电，保证了增光片的生产质量。
为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：
一种增光片生产设备，包括基座、基材送料辊、保护膜送料装置、热压合辊组及收卷单元，所述基材送料辊设于所述基座右侧，所述保护膜送料装置包括上送料装置和下送料装置，所述上送料装置设于所述基座上方，所述下送料装置设于所述基座上，所述热压合辊组设于所述基座台面上，所述收卷单元包括靠近所述基座左侧依次设置的清洁组件和收卷盘，所述清洁组件包括散热辊、除尘装置及除静电装置，所述散热辊靠近所述基座设置，所述散热辊为中空结构且沿其壁厚方向设有若干个透气通孔，所述除尘装置设于所述散热辊后侧，所述除尘装置包括除尘滚筒和设于所述除尘滚筒上方的集尘纸筒，所述除静电装置设置于所述除尘装置两侧。
进一步地，所述上送料装置包括上放卷盘和上导辊组，所述下送料装置包括下放卷盘和下导辊组。
进一步地，所述除尘滚筒的数量为一个，所述集尘纸筒设于所述除尘滚筒的正上方。
进一步地，所述除尘滚筒的数量为两个，所述集尘纸筒设于与两个所述除尘滚筒的正上方。
进一步地，所述除尘装置包括两组，两组所述除尘装置分别设于所述基材的上表面和下表面。
进一步地，所述清洁组件还包括设于所述除尘装置后的导向辊，所述导向辊成组设置。
采用上述技术方案后，本实用新型与背景技术相比，具有如下优点：
本实用新型将贴合保护膜后的增光片经过除静电和除尘后再收卷成盘，既保证增光片不携带静电，能收卷整齐，又清除干净增光片上携带的残余粘合剂和灰尘，保证了增光片的生产质量。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为实施例一中清洁组件的结构示意图；
图3为散热辊的结构示意图；
图4为实施例二中清洁组件的结构示意图。
附图标记说明：
1.基座；
2.基材送料辊；
31.上送料装置，311.上放卷盘，312.上导辊组，32.下送料装置，321.下放卷盘，322.下导辊组；
4.热压合辊组；
51.清洁组件，511.散热辊，5111.透气通孔，512.除尘装置，5121.除尘滚筒，5122.集尘纸筒，513.除静电装置，514.导向辊，52.收卷盘。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
在本实用新型中需要说明的是，术语“上”“下”“左”“右”“竖直”“水平”“内”“外”等均为基于附图所示的方位或位置关系，仅仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示本实用新型的装置或元件必须具有特定的方位，因此不能理解为对本实用新型的限制。
实施例一
参考图1所示，本实用新型公开了一种增光片生产设备，包括基座1、基材送料辊2、保护膜送料装置、热压合辊组4及收卷单元。
基材送料辊2设于基座1右侧，保护膜送料装置包括上送料装置31和下送料装置32，上送料装置31设于基座1上方，上送料装置31包括上放卷盘311和上导辊组312，下送料装置32设于基座1上，下送料装置32包括下放卷盘321和下导辊组322，热压合辊组4设于基座1台面上。
配合图1至图3所示，收卷单元包括靠近基座1左侧依次设置的清洁组件51和收卷盘52，清洁组件51包括散热辊511、除尘装置512、除静电装置513及导向辊514。散热辊511靠近基座1设置，具体参考图3所示，散热辊511为中空结构且沿其壁厚方向设有若干个透气通孔5111，透气通孔5111使经过热压合保护膜的增光片更容易散热。除尘装置512设于散热辊511后侧，除尘装置512包括两组，两组除尘装置512分别设于基材的上表面和下表面，除尘装置512包括除尘滚筒5121和设于除尘滚筒5121上方的集尘纸筒5122，在本实施例中，除尘滚筒5121的数量为一个，集尘纸筒5122设于除尘滚筒5121的正上方。除静电装置513设置于除尘装置512两侧，导向辊514成组地设于除尘装置512后。
实施例二
参考图4所示，本实施例与实施例一的不同之处在于：除尘滚筒5121的数量为两个，集尘纸筒5122设于与两个除尘滚筒5121的正上方，设置两个除尘滚筒5121可以使增光片经过两次除尘，除尘效果更好。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。