料盘缓存结构的制作方法

文档序号:19198718发布日期:2019-11-25 22:09阅读:394来源:国知局
料盘缓存结构的制作方法

本实用新型涉及物料转运的技术领域,具体为料盘缓存结构。



背景技术:

现有的玻璃或金属制品工件在制作后需要通过料盘放置物料,然后将工件输送到下一个工位进行对应的加工,现有的料盘均为单个料盘上满工件后,再人工上下一个料盘,若干个工件和单个料盘必须保持同步速度,其使得生产环节的效率相对较慢。



技术实现要素:

针对上述问题,本实用新型提供了料盘缓存结构,其使得料盘可以集中放置在料盘输送线上,然后通过控制料盘缓存结构单个进给到料盘输送线上即可,其使得生产环节的效率提高。

料盘缓存结构,其特征在于:其包括缓存平板,所述缓存平板的四周设置有立式支脚,所述缓存平板的中心区域设置有料板通过孔,所述料板通过孔的两侧对应于所述缓存平板的侧部分别设置有推动气缸,所述推动气缸的输出端固接有连接杆,所述连接杆的两端分别固接有插杆,所述插杆朝向所述料板通过孔布置,所述料板通过孔的底部正下方设置有一组垂直向移动的料盘顶块组件,所述料盘顶块组件连接有对应的垂直向气缸。

其进一步特征在于:

所述缓存平板的上周边上还设置有光电传感器,所述光电传感器感应处于同一高度的料盘的是否下降到位;

所述插杆的中部位置内嵌于所述导向块的对应直线导向槽内,所述导向块固装于所述缓存平板的侧部上端面的对应区域;

所述料板通过孔的四角位置设置有垂直向上布置的料盘限位块,确保料盘的位置区域稳固可靠;

一组所述料盘顶块组件包括分列于所述料盘的两侧布置的两对所述料盘顶块,每对所述料盘顶块包括有三块顶块,具体为两侧顶块、中间顶块,两所述侧顶块的底部分别固接有小行程气缸的上部活塞杆,所述中间顶块的底部固接有大行程气缸的上部活塞杆,所述小行程气缸、大行程气缸的缸座分别固接于竖直向气缸固定板,大行程气缸用于在缓存平板没有料盘时放置料盘时起到顶升作用,确保料盘不会急剧下降,从而破坏料盘,小行程气缸用于单次下落料盘到下方的料盘输送线上。

采用本实用新型后,当需要输送料盘时,两侧的推动气缸同步驱动插杆远离料盘移动,垂直向气缸同步动作单次放下一个料盘高度,之后推动气缸驱动插杆复位,垂直向气缸下降使得料盘下落到料盘输送线,料盘被料盘输送线输送后,垂直向气缸复位,其使得料盘可以集中放置在料盘输送线上,然后通过控制料盘缓存结构单个进给到料盘输送线上即可,其使得生产环节的效率提高。

附图说明

图1为本实用新型的立体图结构示意图;

图2为图1的主视图结构示意图;

图3为图1侧视图结构示意图;

图中序号所对应的名称如下:

缓存平板1、立式支脚2、料板通过孔3、推动气缸4、连接杆5、插杆6、光电传感器7、导向块8、料盘限位块9、侧顶块10、中间顶块11、小行程气缸12、大行程气缸13、竖直向气缸固定板14、料盘15。

具体实施方式

料盘缓存结构,见图1-图3:其包括缓存平板1,缓存平板1的四周设置有立式支脚2,缓存平板1的中心区域设置有料板通过孔3,料板通过孔3的两侧对应于缓存平板1的侧部分别设置有推动气缸4,推动气缸4的输出端固接有连接杆5,连接杆5的两端分别固接有插杆6,插杆6朝向料板通过孔3布置,料板通过孔3的底部正下方设置有一组垂直向移动的料盘顶块组件,料盘顶块组件连接有对应的垂直向气缸。

缓存平板1的上周边上还设置有光电传感器7,光电传感器7感应处于同一高度的料盘的是否下降到位;

插杆6的中部位置内嵌于导向块8的对应直线导向槽内,导向块8固装于缓存平板1的侧部上端面的对应区域;

料板通过孔3的四角位置设置有垂直向上布置的料盘限位块9,确保料盘的位置区域稳固可靠;

一组料盘顶块组件包括分列于料盘的两侧布置的两对料盘顶块,每对料盘顶块包括有三块顶块,具体为两侧顶块10、中间顶块11,两侧顶块10的底部分别固接有小行程气缸12的上部活塞杆,中间顶块11的底部固接有大行程气缸13的上部活塞杆,小行程气缸12、大行程气缸13的缸座分别固接于竖直向气缸固定板14,大行程气缸13用于在缓存平板没有料盘15时放置料盘时起到顶升作用,确保料盘15不会急剧下降,从而破坏料盘,小行程气缸12用于单次下落料盘15到下方的料盘输送线上。

若干个料盘放置在料盘限位块组成的区域内,通过插杆底部限位,当需要输送料盘时,两侧的推动气缸同步驱动插杆远离料盘移动,小行程气缸同步动作单次放下一个料盘高度,之后推动气缸驱动插杆复位,小行程气缸和大行程气缸同步下降使得料盘下落到料盘输送线,料盘被料盘输送线输送后,小行程气缸、大行程其敢不敢复位,其使得料盘可以集中放置在料盘输送线上,然后通过控制料盘缓存结构单个进给到料盘输送线上即可,其使得生产环节的效率提高。

以上对本实用新型的具体实施例进行了详细说明,但内容仅为本实用新型创造的较佳实施例,不能被认为用于限定本实用新型创造的实施范围。凡依本实用新型创造申请范围所作的均等变化与改进等,均应仍归属于本专利涵盖范围之内。

当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1