覆膜设备的制作方法

1.本实用新型涉及电子类产品生产制造技术领域，尤其是一种覆膜设备。


背景技术：

2.在聚合物锂电池行业，目前随着消费电子日益兴起，tws行业的蓬勃发展，其带动着消费类电池行业快速崛起。在产品生产过程中，需要对极片类产品进行覆膜，由于每次覆膜产品数量限制，设备效率低。


技术实现要素：

3.本实用新型的主要目的是提出一种覆膜设备，旨在解决现有技术中覆膜设备的效率低的问题。
4.为实现上述目的，本实用新型提出一种覆膜设备，用以对产品进行覆膜，所述覆膜设备具有封装工位，所述覆膜设备包括：
5.第一上膜放料轮、第一下膜放料轮以及第一收料轮，所述第一上膜放料轮和所述第一收料轮之间形成有第一上膜路径，所述第一下膜放料轮和所述第一收料轮之间形成有第一下膜路径，在达到所述封装工位的位置处，所述第一上膜路径和所述第一下膜路径汇合形成第一公共路径；
6.第二上膜放料轮、第二下膜放料轮以及第二收料轮，所述第二上膜放料轮和所述第二收料轮之间形成有第二上膜路径，所述第二下膜放料轮和所述第二收料轮之间形成有第二下膜路径，在达到所述封装工位的位置处，所述第二上膜路径和所述第二下膜路径汇合形成第二公共路径，所述第二公共路径和所述第一公共路径沿着膜宽方向并排设置，且经过所述封装工位；以及，
7.封装装置，用以将处在所述封装工位上的第一下膜、产品和所述第一上膜进行封装结合、以及将处在所述封装工位上的第二下膜、产品和第二上膜进行封装结合。
8.可选地，所述覆膜设备还包括：
9.上膜检测装置，用以检测所述第一上膜和/或所述第二上膜是否发生偏位；以及，
10.上膜纠偏装置，用以对所述第一上膜和/或所述第二上膜进行纠偏。
11.可选地，所述上膜检测装置包括ccd相机；和/或，
12.所述上膜纠偏装置用以对所述第一上膜和所述第二上膜进行纠偏，所述上膜纠偏装置包括吸附件和压紧件，所述吸附件沿着所述膜宽方向可活动设置，且所述吸附件用以分别吸附所述第一上膜和所述第二上膜，所述压紧件设置在所述第一上膜路径和所述第二上膜路径的上侧，且可上下活动设置，所述压紧件用以在所述第一上膜或所述第二上膜完成纠偏后对其进行固定限位。
13.可选地，所述上膜检测装置用以检测处在所述封装工位处的所述第一上膜和第二上膜是否发生偏位；
14.所述上膜纠偏装置用以对处在所述封装工位处的所述第一上膜和所述第二上膜
进行纠偏。
15.可选地，所述覆膜设备还包括：
16.下膜检测装置，用以检测所述第一下膜和/或所述第二下膜是否发生偏位；以及，
17.下膜纠偏装置，用以对所述第一下膜和/或所述第二下膜进行纠偏。
18.可选地，所述下膜检测装置包括ccd相机；和/或，
19.所述下膜纠偏装置用以对所述第一下膜和所述第二下膜进行纠偏，所述下膜纠偏装置包括粘接件，所述粘接件上下向可活动设置，以能够活动至与所述第一下膜或者所述第二下膜粘接，所述粘接件沿着所述膜宽方向可活动设置。
20.可选地，所述下膜检测装置用以检测处在所述封装工位处的所述第一下膜和第二下膜是否发生偏位；
21.所述下膜纠偏装置用以对处在所述封装工位处的所述第一下膜和所述第二下膜进行纠偏。
22.可选地，所述覆膜设备还包括：
23.封装平台，所述封装平台设置在所述封装工位处，用以支撑所述第一下膜和设于所述第一下膜上的产品、以及所述第二下膜和设于所述第二下膜上的产品；
24.上膜拉扯机构，设于所述封装平台的上方且位于所述封装平台的一侧，所述上膜拉扯机构可向靠近和远离所述封装平台的方向可移动设置，且所述上膜拉扯机构用以带动所述第一上膜和所述第二上膜对应覆盖所述第一下膜和所述第二下膜的上侧。
25.可选地，所述覆膜设备还包括冲切工位和冲切装置，所述冲切工位位于所述第二公共路径和所述第一公共路径上，且位于所述封装工位与所述第一收料轮或者所述第二收料轮之间，所述冲切装置用以将处在所述冲切工位上且相互结合后的第一上膜和所述第一下膜中的产品冲切出、以及用以将处在所述冲切工位上且相互结合后的第二上膜和所述第二下膜中的产品冲切出；和/或，
26.所述覆膜设备用以对电池的极片进行覆膜。
27.可选地，所述覆膜设备还包括：
28.裁切平台，设置在所述冲切工位处，用以支撑结合后的第一下膜和第一上膜、以及结合后的第二下膜和第二上膜；
29.第一拉料机构和第二拉料机构，设置在所述封装工位和所述冲切工位之间，且处在所述第一公共路径和所述第二公共路径上；
30.蓄料轮，设置在所述第一公共路径和所述第二公共路径上，且在所述第一公共路径和所述第二公共路径的轨迹上可弹性伸缩设置。
31.本实用新型的覆膜设备，可以通过第一下膜和第二上膜完成对多个产品进行覆膜，且同时通过第二下膜和第二上膜完成对多个产品进行覆膜，并且，该两个覆膜操作在一个封装工位上且通过封装装置完成，以使得所述覆膜设备的结构较为简化，如此通过简单的结构实现多排产品的覆膜，且可以提高所述覆膜设备的效率。
附图说明
32.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅
是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
33.图1为本实用新型提供的覆膜设备的一实施例的平面示意图；
34.图2为图1中包括上膜检测装置和上膜纠偏装置在内的部分结构的示意图；
35.图3为图1中的下膜纠偏装置的示意图。
36.本实用新型提供的实施例附图标号说明：
37.标号名称标号名称100覆膜设备522压紧件11第一上膜放料轮6封装平台12第一下膜放料轮7上膜拉扯机构13第一收料轮71行走辊轴21第二上膜放料轮72拉块22第二下膜放料轮81下膜检测装置23第二收料轮82下膜纠偏装置3封装装置821粘接件4冲切装置91裁切平台51上膜检测装置92第一拉料机构52上膜纠偏装置93第二拉料机构521吸附件94蓄料轮
38.本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
39.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
40.需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
41.另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，全文中出现的“和/或”的含义，包括三个并列的方案，以“a和/或b”为例，包括a方案、或b方案、或a 和b同时满足的方案。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。
42.电子产品的覆膜，以电池的极片的覆膜为例，本技术改进之前的技术方案时，在覆膜时，都是一个一个的覆膜，也有一排一排的覆膜，但仍然覆膜效率不高。
43.鉴于此，本实用新型提出一种覆膜设备，用以对产品进行覆膜，具体地，所述产品为电子产品，进一步地，在本实施例中，所述产品为电池的极片。图1至图3为本实用新型提供的覆膜设备的一实施例。
44.请参阅图1至图3，所述覆膜设备100具有封装工位，所述覆膜设备100 包括：
45.第一上膜放料轮11、第一下膜放料轮12以及第一收料轮13，所述第一上膜放料轮11和所述第一收料轮13之间形成有第一上膜路径，所述第一下膜放料轮12和所述第一收料轮13之间形成有第一下膜路径，在达到所述封装工位的位置处，所述第一上膜路径和所述第一下膜路径汇合形成第一公共路径；
46.第二上膜放料轮21、第二下膜放料轮22以及第二收料轮23，所述第二上膜放料轮21和所述第二收料轮23之间形成有第二上膜路径，所述第二下膜放料轮22和所述第二收料轮23之间形成有第二下膜路径，在达到所述封装工位的位置处，所述第二上膜路径和所述第二下膜路径汇合形成第二公共路径，所述第二公共路径和所述第一公共路径沿着膜宽方向并排设置，且经过所述封装工位；
47.封装装置3，用以将处在所述封装工位上的第一下膜、产品和所述第一上膜进行封装结合、以及将处在所述封装工位上的第二下膜、产品和第二上膜进行封装结合，具体地，在本实施例中，所述封装装置3为热封装置，显然本设计不限于此，也可以是冷封例如超声焊，此外，在本实施例中，所述封装装置3是偏离所述封装工位设置，具体图示为偏右设置，在工作时可以向所述封装工位移动设置。
48.本实用新型的覆膜设备100，可以通过第一下膜和第二上膜完成对多个产品进行覆膜，且同时通过第二下膜和第二上膜完成对多个产品进行覆膜，并且，该两个覆膜操作在一个封装工位上对应通过封装装置3完成，以使得所述覆膜设备100的结构较为简化，如此通过简单的结构实现多排产品的覆膜，且可以提高所述覆膜设备100的效率。
49.在本实施例中，在本实施例中，所述覆膜设备100还包括冲切工位和冲切装置4，所述冲切工位位于所述第二公共路径和所述第一公共路径上，且位于所述封装工位与所述第一收料轮13或者所述第二收料轮23之间，所述冲切装置4用以将处在所述冲切工位上且相互结合后的第一上膜和所述第一下膜中的产品冲切出、以及用以将处在所述冲切工位上且相互结合后的第二上膜和所述第二下膜中的产品冲切出，具体地，在本实施例中，所述封装装置3 为热切装置，显然本设计不限于此，也可以是冷切，此外，在本实施例中，所述冲切装置4是偏离所述冲切工位设置，具体图示为偏右设置，在工作时可以向所述冲切工位移动设置。
50.显然，所述覆膜设备100也可以不必设置冲切工位和冲切装置4，而是由封装装置3完成之后，将膜带和产品移送到下一个设备完成。
51.上膜和下膜在覆合时需要确保准确对位，并且因为涉及多个上膜和下膜的覆合，为此，对于各个膜的位置要求更为严格，故而，在本实施例中，所述覆膜设备100还包括上膜检测装置51和上膜纠偏装置52，所述上膜检测装置51用以检测所述第一上膜和/或所述第二上膜是否发生偏位，也即，所述上膜检测装置51可以能够同时检测所述第一上膜和所述第二上膜，也可能只能检测其中之一，则此时需要设置两个所述上膜检测装置51，所述上膜纠偏装置52用以对所述第一上膜和/或所述第二上膜进行纠偏，也即，所述上膜纠偏装置52可以能够同时对所述第一上膜和所述第二上膜进行纠偏，也可能只能检测其中之一，则此
时需要设置两个所述上膜纠偏装置52。
52.所述上膜检测装置51具体构造不做限制，可以是红外检测，还可以是相机检测，在本实施例中，所述上膜检测装置51包括ccd相机。
53.在本实施例中，所述上膜纠偏装置52用以对所述第一上膜和所述第二上膜进行纠偏，具体地，所述上膜纠偏装置52包括吸附件521和压紧件522，所述吸附件521沿着所述膜宽方向可活动设置，且所述吸附件521用以分别吸附所述第一上膜和所述第二上膜，所述压紧件522设置在所述第一上膜路径和所述第二上膜路径的上侧，且可上下活动设置，所述压紧件522用以在所述第一上膜或所述第二上膜完成纠偏后对其进行固定限位，例如，当所述吸附件521对所述第一上膜纠偏完成之后，所述压紧件522就会压紧所述第一上膜，而后，所述吸附件521释放对所述第一上膜的吸附，而对所述第二上膜吸附纠偏。显然所述上膜纠偏装置52的结构和构造不限于此，可以是设置一个纠偏辊轴，该纠偏辊轴沿着轴向可调整设置。
54.在本实施例中，所述上膜检测装置51用以检测处在所述封装工位处的所述第一上膜和第二上膜是否发生偏位，相应地，所述上膜纠偏装置52用以对处在所述封装工位处的所述第一上膜和所述第二上膜进行纠偏，并且进一步地，在本实施例中，所述上膜纠偏装置52偏离所述封装工位设置，且所述上膜纠偏装置52设置为活动设置，在工作时可以向所述封装工位移动。
55.在本实施例中，所述覆膜设备100还包括封装平台6和上膜拉扯机构7，所述封装平台6设置在所述封装工位处，用以支撑所述第一下膜和设于所述第一下膜上的产品、以及所述第二下膜和设于所述第二下膜上的产品，所述上膜拉扯机构7设于所述封装平台6的上方且位于所述封装平台6的一侧，所述上膜拉扯机构7可向靠近和远离所述封装平台6的方向可移动设置，且所述上膜拉扯机构7用以带动所述第一上膜和所述第二上膜对应覆盖所述第一下膜和所述第二下膜的上侧，具体地，所述上膜拉扯机构7包括行走辊轴 71以及拉块72。显然，上膜与下膜的结合形式不限于上述，可以是，所述第一上膜和所述第二上膜不动，而所述封装平台6带动处在所述第一下膜和所述第二下膜上的产品移动至与对应的所述第一上膜和所述第二上膜结合。
56.上膜和下膜在覆合时需要确保准确对位，并且因为涉及多个上膜和下膜的覆合，为此，对于各个膜的位置要求更为严格，故而，所述覆膜设备100 还包括下膜检测装置81和下膜纠偏装置82，所述下膜检测装置81用以检测所述第一下膜和/或所述第二下膜是否发生偏位，也即，所述下膜检测装置81 可以能够同时检测所述第一下膜和所述第二下膜，也可能只能检测其中之一，则此时需要设置两个所述下膜检测装置81。所述下膜纠偏装置82用以对所述第一下膜和/或所述第二下膜进行纠偏，也即，所述下膜纠偏装置82可以能够同时对所述第一下膜和所述第二下膜进行纠偏，也可能只能检测其中之一，则此时需要设置两个所述下膜纠偏装置82。
57.所述下膜检测装置81具体构造不做限制，可以是红外检测，还可以是相机检测，在本实施例中，所述下膜检测装置81包括ccd相机
58.在本实施例中，所述下膜纠偏装置82用以对所述第一下膜和所述第二下膜进行纠偏，所述下膜纠偏装置82包括粘接件821，具体地为粘接轴，所述粘接件821上下向可活动设置，以能够活动至与所述第一下膜或者所述第二下膜粘接，所述粘接件821沿着所述膜宽方
向可活动设置。显然所述下膜纠偏装置82的结构和构造不限于此，可以是设置一个纠偏辊轴，该纠偏辊轴沿着轴向可调整设置。
59.在本实施例中，所述下膜检测装置82用以检测处在所述封装工位处的所述第一下膜和第二下膜是否发生偏位，所述下膜检测装置82用以对处在所述封装工位处的所述第一下膜和所述第二下膜进行纠偏。
60.在本实施例中，所述覆膜设备100还包括裁切平台91、第一拉料机构92、第二拉料机构93和蓄料轮94，所述裁切平台91设置在所述冲切工位处，用以支撑结合后的第一下膜和第一上膜、以及结合后的第二下膜和第二上膜，所述第一拉料机构92和第二拉料机构93，设置在所述封装工位和所述冲切工位之间，且处在所述第一公共路径和所述第二公共路径上，所述蓄料轮94设置在所述第一公共路径和所述第二公共路径上，且在所述第一公共路径和所述第二公共路径的轨迹上可弹性伸缩设置，如此，可以通过所述蓄料轮94在所述第一拉料机构92和所述第二拉料机构93之间蓄存一段已经结合的第一上膜和第一下膜、以及第二上膜和第二下膜，如此，可以使得所述封装装置3 和所述冲切装置4的工作可以不同步，两个可实现裁切数量与封装数量不用相同，两者独立。
61.以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的实用新型构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。