真空计冷却器的制作方法

本发明涉及冷却装置技术领域，尤其是一种真空计冷却器。

背景技术：

目前，高真空设备测量的仪表一般利用zdz系列电阻真空计。电阻真空计采用定温技术，以及高性能微处理器对规管探头的非线性进行线性化处理技术。使得该系列真空计具有使用方便，操作简单，测量一致性好。但是电阻真空计有一定的环境使用要求，一般要求周围温度在0～40℃之间，超出这个范围，真空计规管探头向主机发出的电流信号会有一定幅度的失真偏差。

现有技术中，没有良好的方案来降低真空计周围的温度，不能保证真空计正常、准确的工作状态。

技术实现要素：

本技术人针对上述现有生产技术中的缺点，提供一种结构合理的真空计冷却器，从而降低真空计周围的温度，保证真空计正常、准确的工作状态。

本发明所采用的技术方案如下：

一种真空计冷却器，包括空心圆柱体结构的罐体，所述罐体的顶面和底面分别安装有上端板和下端板，所述上端板和下端板上的中部均开有圆孔，所述罐体的内部安装冷却盘管，所述冷却盘管的两头分别穿出上端板和下端板的圆孔；所述罐体的一侧壁上部设置有出水口，另一侧壁的下部设置有进水口。

作为上述技术方案的进一步改进：

所述冷却盘管的中部呈螺旋状，两头分别延伸上管口和下管口；上管口穿过上端板的圆孔，下管口穿过下端板的圆孔。

所述上端板的中部安装有连接上管口的真空计接口，真空计接口的管径大于圆孔和上管口的外径。

所述下端板的中部安装有连接下管口的真空管座，真空管座的管径大于圆孔和下管口的外径。

本发明的有益效果如下：

本发明结构紧凑、合理，操作方便，通过冷却管盘来降低真空计周围的温度，使真空计能够正常，准确地进行工作。

本发明所述的进水口和出水口连接在真空干燥炉中的真空泵冷却器上，与其共用冷却液，安装时简单方便。

本发明所述的罐体、冷却管盘、上盖板以及下盖板均采用304不锈钢材质制成，具有超长的使用寿命，避免因生锈而污染真空计规管探头。

本发明所述的冷却盘管采用向上螺旋走向，能够避免冷却盘管中空气冷却凝露的淤积，保证盘管的畅通。

本发明所述的真空计接口和真空计规管探头的连接采用kf16真空快接法兰，能够方便更换真空计。

本发明所述的进水口和出水口采用4分管口，口径大，能够避免长期使用后管口的堵塞。

本发明所述的真空计冷却器采用氩弧焊焊接，与其它零部件的密封采用氟橡胶o型密封圈，能够满足高真空密封的技术要求。

附图说明

图1为本发明的主视图(全剖视图)。

图2为本发明在工作状态时的示意图。

其中：1、罐体；101、进水口；102、出水口；2、冷却盘管；201、上管口；202、下管口；3、上端板；301、真空计接口；4、下端板；401、真空管座；5、真空干燥炉；6、真空计。

具体实施方式

下面结合附图，说明本发明的具体实施方式。

如图1所示，本实施例的真空计冷却器，包括空心圆柱体结构的罐体1，罐体1的顶面和底面分别安装有上端板3和下端板4，上端板3和下端板4上的中部均开有圆孔，罐体1的内部安装冷却盘管2，冷却盘管2的两头分别穿出上端板3和下端板4的圆孔；罐体1的一侧壁上部设置有出水口102，另一侧壁的下部设置有进水口101。

如图1所示，冷却盘管2的中部呈螺旋状，两头分别延伸上管口201和下管口202；上管口201穿过上端板3的圆孔，下管口202穿过下端板4的圆孔。

如图1所示，上端板3的中部安装有连接上管口201的真空计接口301，真空计接口301的管径大于圆孔和上管口201的外径。

如图1所示，下端板4的中部安装有连接下管口202的真空管座401，真空管座401的管径大于圆孔和下管口202的外径。

实际安装过程中，如图1所示，首先对真空计冷却器进行组装。将冷却盘管2安装在罐体1中，罐体1上端面焊接上端板3，并且将上管口201伸入至真空计接口301内，罐体1下端面焊接下端板4，并且将下管口202伸入至真空管座401内。即完成了对真空计冷却器的组装。

实际操作过程中，如图2所示，将真空管座401连接在真空干燥炉5的上方，真空计6插入真空计接口301内部，进水口101和出水口102连接在真空干燥炉5中的真空泵冷却器上，与其共用冷却液。真空计6在工作时，能够将环境的温度控制在0～40℃之间，能够保证真空计6正常、准确的工作状态。

以上描述是对本发明的解释，不是对发明的限定，本发明所限定的范围参见权利要求，在本发明的保护范围之内，可以作任何形式的修改。

技术特征：

技术总结
一种真空计冷却器，包括空心圆柱体结构的罐体，所述罐体的顶面和底面分别安装有上端板和下端板，所述上端板和下端板上的中部均开有圆孔，所述罐体的内部安装冷却盘管，所述冷却盘管的两头分别穿出上端板和下端板的圆孔；所述罐体的一侧壁上部设置有出水口，另一侧壁的下部设置有进水口。本发明结构紧凑、合理，操作方便，通过冷却管盘来降低真空计周围的温度，使真空计能够正常，准确地进行工作。

技术研发人员：冯晓宏
受保护的技术使用者：无锡锡源真空设备有限公司
技术研发日：2018.12.13
技术公布日：2019.03.08