专利名称：物-化综合水处理系统的制作方法
技术领域：
本实用新型属水质处理技术领域，广泛涉及综合性水处理系统，具体地说涉及一
种物理处理和化学水处理、水质实时监测、运行动态管理等有机结合的物-化综合水处理系统。
背景技术：
我国水处理技术从国外引进到发展至今已经持续有几十年的历史了，长久以来水处理通常沿用了传统的理念和模式，采用单一物理处理方式、单一化学处理方式或简单过滤和化学处理结合的方式。往往只关注设备处理的效果和问题的解决，而忽略水系统的问题根源和系统水质控制、设备的配置、运行工况管理、系统水质变化运行监管等整个系统过程综合处理的根本性、重要性。造成水处理效果不显著、水质变化无法监控、后续水处理工艺负荷增大、环境污染等重大问题难以解决。
实用新型内容本实用新型的目的就是要提供一种物_化综合水处理系统，通过物理处理方式和化学处理方式、水质实时监测、运行动态管理等有机结合，解决目前单一物理处理方式的不足和化学处理方式大量药剂的排放对环境的污染，水质变化无法监控、后续水处理工艺负荷过大等问题。 本实用新型采用物理处理方式和化学处理方式有机结合，实现水质综合控制、水质处理和水质动态监测，其特征在于它由物理处理设备和化学处理设备构成，其中物理处理设备由电磁场发生器、内刷式复合过滤体和射频发生器构成，其内刷式复合过滤单元，采用楔形过滤网制成的圆筒形过滤体，筒形过滤体内设置内刷器，内刷器固定在传动中轴上；射频发射器从壳体外部插入设备腔体内直接与水接触，射频发射器外接导线与控制箱内电路模块连接；在设备壳体底部设置有大小两种管径的独立污堵排污口和水质控制排污口 ；其中化学处理设备由计量加药装置、专用化学药剂和加药控制装置构成，计量加药装置中的计量泵直接与设备出水口预留加药口连接。 本实用新型针对循环水系统水质进行全过程综合处理，以物理处理方式为主，辅助化学处理方式的水质调节、稳定控制，全方面控制系统水质，并可大大降低化学药剂投加量。应用两个独立的排污系统，污堵排污系统及水质控制排污系统，有效减少了水处理设备的排污用水量，节能减排，实现智能动态化管理，适用水质范围广。 与单纯化学处理方式相比较，可以节约大量药剂，减少运行管理费用，总体运行费用仅为化学加药处理方式的五分之一。从根本上解决了①物理处理方式在补水水质、循环水质、系统工况差等恶劣条件下，处理效果不显著的难题；②化学处理方式应用于敞开式循环系统排污水量大、补水水量大、环境污染及药剂和加药量与系统动态工况无法实时匹配的重大难题；③设备水质控制排污与过滤截污排污一体，排污用水量大，系统水量波动大，运行不稳定的难题。[0007] 系统可以对循环水水质实现就地显示及远程传输，彻底改变传统设备对于水质处理过程不能实现动态化管理及处理效果的数字化的量化显示，随时监测水质，实现智能化全自动运行。
图1为本实用新型方框图[0009] 图2为本实用新型物理处理部分结构剖示图[0010] 图3为本实用新型物理处理部分结构侧示图[0011] 图4为本实用新型药剂计量投加设备结构示意图
具体实施方式下面将结合附图对本实用新型作进一步详细说明 本实用新型应用本公司自己拥有的专利技术，将物理处理和化学处理方式有机结合，实现水质控制和水质动态监测，其物_化综合水处理系统包括物理处理部分由电磁场发生器、内刷式复合过滤单元和射频发生器实现；化学处理部分由计量加药装置、专用化学药剂和加药控制装置实现；控制及监测部分由水质在线监测仪、射频集成电路和微电脑控制器实现。 通过射频发生器产生电磁波作用于水，进行水质防垢、缓蚀、杀菌、灭藻处理；通过电磁场发生器产生电晕场吸附水质中铁质杂质；通过内刷式复合过滤单元，过滤截留水质中悬浮物杂质；通过计量加药装置投加专用化学药剂辅助物理处理功能；通过微电脑控制器、水质在线监测仪等综合动态监测水质变化、指导系统运行。 综合水物理处理，射频发生器由自己拥有的专利"水处理设备专用发射极"(专利号ZL200420009168. 0)实现、内刷式复合过滤单元由自己拥有的专利"液体过滤体"(专利号ZL200520103670. 2)和全程水处理器(专利号ZL200520023289. 5)实现，再配合电磁场发生器，共同组合在设备腔体内，通过控制箱控制实现射频物理场水质处理，水质控制排污，截流杂质排污和电晕场吸附。设备壳体外设有控制箱，通过电路模块对电磁场发生器和射频发射器进行控制。设备壳体内腔用上、下隔板将过滤体固定在设备腔体内，进水口、出水口设在设备壳体上，排污口设在设备壳体底部。射频发射器从壳体外部插入设备腔体内，
与水接触产生水处理作用，通过o型密封圈、压板、螺栓固定密封，防止腔体内水渗漏。射频
发射器外接导线与控制箱内电路模块连接。其内刷式复合过滤单元体，采用楔形过滤网制
成的圆筒形过滤体，筒形过滤体内置刷体，水从筒形过滤体内部向外流动，水质中悬浮物、
杂质截留在过滤体内部，通过内置刷体刷洗净化过滤体，杂质排出设备壳体。过滤体内设置
内刷器，内刷器固定在传动中轴上，设备壳体上设有减速电机，通过减速电机与传动中轴带
动内刷器，排污时对过滤体进行刷洗。物理处理部分内设两个独立的排污系统，污堵排污系
统及水质控制排污系统，通过设定时间和压差控制排出截留杂质；通过水质在线监测仪指
导排污、补水，控制水质及浓縮比。分别在设备壳体底部排污口设置有大小两种管径的排污
口，其中大口径排污口作为过滤体截留水体内悬浮物、杂质排污用，可通过时间、压差控制
其排污；小口径排污口作为水质控制排污用，通过水质在线检测系统，指导排污。 综合水化学处理，在药剂计量投加设备、化学药剂和药剂桶实现，药剂计量投加设备可通过调节其冲程和频率调节控制药剂投加量；药剂桶可根据要求配置液位仪、搅拌器，以满足药液量控制及防止产生沉淀的要求。根据系统、水质及运行工况要求，其化学药剂采用缓蚀阻垢剂、杀菌灭藻剂和缓蚀剂等不同类型及功能的药剂来进行水质化学处理，辅助物理处理功能，更有效控制、调节、稳定水质，增强水系统防垢除垢、防腐缓蚀、杀菌灭藻的处理效果和水质适应范围。 控制及监测部分，由微电脑控制器、水质在线监测仪和射频集成电路实现，可根据要求配置ra仪、电导率仪、TDS仪、0RP仪和相应传感器等通用仪器。通过微电脑控制器预编程序指导设备运行、水质控制、滤体清洗、排污全过程；通过多种通用水质检测仪器的集成，对水体进行连续不间断的监测，根据检测指标调节药剂计量投加设备的加药量，实现动态投加及智能化的水质监控。 如图所示，本物_化水处理系统包括设备壳体44、上封头14、下封头49、射频发射极17、减速电机50、中心传动轴8、内置刷体47、刷体支架48、水质检测仪51、过滤单元体26、计量泵43、药剂桶42、控制箱41。过滤单元体26通过螺栓9、 10固定在隔板52和下托板7之间，下封头49与设备壳体焊接，上封头14与设备壳体通过螺栓35、36与设备壳体固定，之间有法兰密封垫39密封，中心传动轴8通过轴承5、29固定在设备腔体中心，与减速电机50键连接，控制箱41通过螺栓固定在机架33上，水质检测仪器51插入固定在设备壳体44上。 其工作过程如下原水通过进水口 46进入设备腔体内过滤单元体26中，过滤截留原水中的悬浮物、杂质，射频发射极17对水体进行处理，通过出水口 45进入系统中。化学药剂通过计量泵43将药剂通过设备出水口预留加药口 53投加进系统与水体混合。水质检测仪51随时监测水质变化情况，并将检测结果传送至控制箱41内微电脑控制器，由微电脑控制器指导设备运行、滤体清洗、排污。当设备过滤体截留原水中悬浮物、杂质达到一定值时，通过排污口 1、2进行排污，同时减速电机50启动，带动中心传动轴8和内置刷体47转动，对过滤单元体26进行刷洗，刷洗下截留的悬浮物、杂质通过排污口 1、2排出设备腔体。水质检测仪51检测水质指标超出预设范围时，由微电脑控制器控制，通过排污口 3、4排污，同时系统进行补水。当水质指标恢复正常范围值，停止排污，设备恢复正常运行。
权利要求一种物-化综合水处理系统，通过水质在线监测仪、射频集成电路和微电脑控制器构成控制及监测部分，其特征在于它由物理处理设备和化学处理设备构成，其中物理处理设备由电磁场发生器、内刷式复合过滤体和射频发生器构成，其内刷式复合过滤单元，采用楔形过滤网制成的圆筒形过滤体，筒形过滤体内设置内刷器，内刷器固定在传动中轴上；射频发射器从壳体外部插入设备腔体内直接与水接触，射频发射器外接导线与控制箱内电路模块连接；在设备壳体底部设置有大小两种管径的独立污堵排污口和水质控制排污口；其中化学处理设备由计量加药装置、专用化学药剂和加药控制装置构成，计量加药装置中的计量泵直接与设备出水口预留加药口连接。
专利摘要本实用新型属水质处理技术领域，涉及综合水处理系统中的物-化综合水处理系统。本实用新型采用物理处理设备和化学处理设备，其中物理处理设备由电磁场发生器、内刷式复合过滤体和射频发生器构成；其中化学处理设备由计量加药装置、专用化学药剂和加药控制装置构成，通过水质在线监测仪、射频集成电路和微电脑控制器构成控制及监测部分，实现水质控制和水质动态监测。有效减少了水处理设备的排污用水量，节能减排，实现智能动态化管理，适用水质范围广。该设备可以对循环水水质实现就地显示及远程传输，彻底改变传统设备对于水质处理过程不能实现动态化管理及处理效果的数字化的量化显示，随时监测水质，实现智能化全自动运行。
文档编号C02F1/50GK201437521SQ20082023371
公开日2010年4月14日 申请日期2008年12月19日 优先权日2008年12月19日
发明者葛敬 申请人:北京科净源科技股份有限公司