专利名称：硅垢去除剂的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种水垢抑制剂。
背景技术：
现有的水垢抑制剂，效果不理想，生产成本高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种使用效果好的硅垢去除剂。
本发明的技术解决方案是
一种硅垢去除剂，其特征是由下列重量份的成分组成
氟化铵5 10份
过氧化氢1 3份
胼1 3份
非离子表面活性剂1 5份。
所述的硅垢去除剂，由下列重量份的成分组成
氟化铵7份
过氧化氢2份
胼1份
非离子表面活性剂4份。
本发明配方合理，使用效果好，生产成本低。
下面结合实施例对本发明作进一步说明。
具体实施例方式
实施例1
一种硅垢去除剂，由下列3
氟化铵7份
过氧化氢2份
胼1份
非离子表面活性剂4份。
实施例2
一种硅垢去除剂，由下列3
氟化铵8份
过氧化氢3份
胼2份
非离子表面活性剂1份。
权利要求
1.一种硅垢去除剂，其特征是由下列重量份的成分组成 氟化铵5 10份过氧化氢1 3份胼1 3份非离子表面活性剂1 5份。
2.根据权利要求1所述的硅垢去除剂，其特征是由下列重量份的成分组成 氟化铵7份过氧化氢2份胼1份非离子表面活性剂4份。
全文摘要
本发明公开了一种硅垢去除剂，由氟化铵、过氧化氢、肼、非离子表面活性剂组成。本发明配方合理，使用效果好，生产成本低。
文档编号C02F5/08GK102398993SQ20101028306
公开日2012年4月4日 申请日期2010年9月14日 优先权日2010年9月14日
发明者曹建兵 申请人:曹建兵