技术特征：
技术总结
本发明公开了一种硅片的超声波清洗装置，属于硅片清洗技术领域。该装置包括超声波清洗机、定位架、石英壶、放置架、进水管、排水管，所述定位架放置于超声波清洗机中，所述石英壶放置于定位架中，所述放置架放置于石英壶内，所述进水管设置于石英壶上方，所述超声波清洗机底部设置有排水管。本发明提供的超声波清洗装置可以及时清理从硅片表面脱离后悬浮于去离子水中的杂质，避免给已清洗的硅片造成二次污染，且清洗效果好，操作方便，清洗期间不用人员看守，省时省力。
技术研发人员：许小兵;谢静;刘俊;龙婉蓉;罗华丽;王晨熹
受保护的技术使用者：中国振华集团永光电子有限公司（国营第八七三厂）
技术研发日：2018.06.22
技术公布日：2018.09.25