一种污水净化系统的制作方法

本实用新型涉及污水处理领域，具体涉及一种污水净化系统。

背景技术：

随着社会不断的进步，人类在生产、生活中产生大量的污水。污水包括生活污水、工业污水和农业污水等。由于污水中含有大量的污染物，譬如病原体污染物、好氧污染物、化学有毒污染物、石油类污染物、放射性污染物等，故未经净化处理的污水，直接排放，会对环境、生态以及人类的健康带来巨大的威胁，造成严重的经济损失。

污水净化是为使污水达到排放标准或水质达到再次使用的要求对其进行净化的过程；污水净化被广泛应用于各个领域，污水净化系统的作用是对生产、生活污水进行处理，达到规定的排放标准，是保护环境的重要设施。然而污水净化系统多在空旷的污水处理厂中工作，突出于地面之上，极易在雷雨天气产生尖端效应而遭到雷击，或者其他设备漏电时极易发生电击穿，且污水净化系统为多个装置连接工作，电击现象会对整体污水净化系统造成损害，甚至对整个污水处理厂造成危害。

鉴于上述缺陷，本实用新型创作者经过长时间的研究和实践终于获得了本实用新型。

技术实现要素：

为解决上述技术缺陷，本实用新型采用的技术方案在于，提供一种污水净化系统，包括：污水槽、格栅、三级沉淀池、第一提升泵、加药装置、混凝装置、第二提升泵、过滤装置，所述污水净化系统还包括形变构件；

所述格栅为鼓式格栅，倾斜安装在所述污水槽内；

所述三级沉淀池设置在所述污水槽后端；

所述混凝装置设置在所述三级沉淀池后端，所述混凝装置与所述三级沉淀池通过所述第一提升泵连接；

所述加药装置设置在所述混凝装置的上端；

所述过滤装置设置在所述混凝装置后端，所述过滤装置和所述混凝装置通过所述第二提升泵连接；

所述加药装置的外壳为方形，所述外壳的每个平面外侧均安装有一个所述形变构件，所述形变构件通过连接杆安装到所述外壳的外侧；

所述形变构件包括：形变层、压电块、导电层，所述压电块内置于所述形变层内，所述形变层可被所述压电块挤压而向外侧鼓起，所述导电层铺设在所述形变层外侧，所述导电层连接所述形变层和所述压电块。

较佳的，所述形变层未发生变形时为圆盘形状，所述形变层未发生形变时为圆盘状，所述形变层由弹性材料制成。

较佳的，所述形变层和所述连接杆均由绝缘材料制成。

较佳的，所述压电块由压电材料制成。

较佳的，所述形变层未连接所述连接杆的一侧为外侧面，所述形变层的外侧面有多个凹槽，多个所述凹槽成圈排布在所述形变层的外侧面。

较佳的，所述凹槽为圆台型，所述凹槽的轴线与所述形变层表面相垂直，所述凹槽位于所述形变层外侧的直径大于所述凹槽位于所述形变层内侧的直径。

较佳的，所述压电块的形状与所述凹槽的形状相配合，所述压电块内置于所述凹槽内，所述压电块与所述凹槽表面固定连接。

较佳的，所述形变层中心处有一开口，所述开口内设置一锥尖，所述锥尖为圆锥体，所述锥尖的尖端朝向所述形变层的外侧，当所述形变层向外鼓起时，所述锥尖突出于所述形变层外侧面，所述锥尖尾端连接有导电装置。

较佳的，所述锥尖由金属材料制成。

较佳的，所述锥尖外侧从上至下依次套有三个压电环，所述三个压电环均与所述形变层固定连接，所述三个压电环均不与所述锥尖接触，所述三个压电环均不相互接触。

与现有技术比较本实用新型的有益效果在于：

1、本实用新型的一种污水净化系统，能够有效的防止在雷雨天气时受到雷击的危害，保证污水净化系统在使用时的安全性，防止雷电对污水净化系统甚至污水处理厂造成损害；

2、本实用新型的一种污水净化系统，能够防止装置漏电时发生电击穿现象，防止漏电装置对周围其他装置造成电击损害，提高了污水净化系统的安全；

3、本实用新型的一种污水净化系统，结构简单，安全性能高，能够保障设备不受电击损害，更能保证操作人员的人身安全。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型各实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。

图1是本实用新型的实施例一中污水净化系统配置图；

图2(a)和图2(b)分别是本实用新型的实施例一中形变构件非工作时和工作时的状态图；

图3是本实用新型的实施例一中形变构件示意图；

图4是本实用新型的实施例一中形变层和压电块连接示意图；

图5是本实用新型的实施例二中锥尖与压电环的剖视图；

图6是本实用新型的实施例二中锥尖与压电环的俯视图。

图中数字表示：

1-污水槽，2-格栅，3-三级沉淀池，4-第一提升泵，5-加药装置，6-混凝装置，7-第二提升泵，8-过滤装置，9-形变构件，91-形变层，92-凹槽，93-压电块，94-导电层，95-连接杆，96-锥尖，971-第一压电环，972-第二压电环，973-第三压电环，98-导电装置。

具体实施方式

以下结合附图，对本实用新型上述的和另外的技术特征和优点作更详细的说明。

实施例一

如图1所示，本实用新型的污水净化系统，包括：污水槽1、格栅2、三级沉淀池3、第一提升泵4、加药装置5、混凝装置6、第二提升泵7、过滤装置8、形变构件9。

格栅2为鼓式格栅，安置在污水槽1中，格栅2倾斜安装，可以将污水槽1中的大块固体垃圾过滤去除。

三级沉淀池3设置在污水槽1的尾端，三级沉淀池3中有两个竖立的隔板，将三级沉淀池3分隔成三部分，第二部分与第三部分之间的隔板下端有一流通孔；三级沉淀池3将污水中的大颗粒通过沉降进行固液分离，大颗粒通过重力作用沉降，脱离大颗粒的污水溢流至第三部分中，并通过第一提升泵4输送至混凝装置6中。

混凝装置6为圆柱形的搅拌桶，混凝装置6中设有搅拌装置，混凝装置6的上端设有加药装置5，加药装置5向混凝装置6中输送药剂，对混凝装置6中的污水进行净化，混凝装置6的后端连接有第二提升泵7，第二提升泵7将混凝装置6处理后的污水输送到过滤装置8中进行过滤。

过滤装置8为一长方体水箱，过滤装置8中设有多层滤布，按照进水到出水的过程，滤布孔径逐渐减小，依次滤除污水中的絮凝物。

加药装置5的外壳为一正方体，加药装置5的外壳外侧装有形变构件9。

如图2(a)所示，形变构件9通过连接杆95安装在加药装置5外壳的外侧，连接杆95由绝缘材料制备，在正常情况下，形变构件9呈现出平面状态，加药装置5的外壳为方形，相比于其他装置，加药装置5的外壳可视为尖端结构；如图2(b)所示，当雷击或电击穿发生之前，形变构件9感应出电荷并发生弯曲，将加药装置5的外壳形状趋近于“球形”，使得尖端放电的情况得到消除，减小了被电击中的危险。

如图3和图4所示，形变构件9包括：形变层91、凹槽92、压电块93、导电层94，形变层91在为发生变形时为圆盘形状，形变层91在未有电荷聚集时呈现平面状，形变层91具有弹性，能够被压电块93挤压并发生弯曲，形变层91未连接连接杆95的一面为外侧面，形变层95由绝缘材料制成；多个凹槽92以成圈的方式均匀分布在形变层91外侧面内，凹槽92为圆台形状，凹槽92位于形变层91外侧面的直径大于凹槽92位于形变层91内侧面的直径，凹槽92内安装有与凹槽92的形状完全匹配的压电块93，凹槽92与压电块93固定连接；形变层91的外侧面表面铺设有一层导电层94，形变层91聚集的电荷可以通过导电层94传送到压电块93。压电块93嵌入到形变层91中的结构，能够保证压电块93的形变能带动形变层91发生弯曲，结构简单，结构模块更换方便，便于维修和替换。

压电块93采用压电材料制成，能够发生逆压电效应，在发生雷击之前，大量的电荷聚集在形变层91表面，聚集的电荷通过导电层94传送到压电块93中，当压电块93的两个平面电荷量增大时，压电块93发生压缩，变扁的压电块93向两侧挤压形变层91，由于压电块93为外侧直径大于内侧直径的圆台型，使得形变层91向外发生弯曲，导致形变构件9向外侧鼓起，多个平面的形变构件9均向外侧鼓起，在整体上将加药装置5的形状趋近于“球形”，消除了尖端放电现象，减小了被雷击中或被电击中的几率，提高了设备的安全性。

实施例二

如图5和图6所示，在实施例一的污水净化系统的基础上，形变层91的中心内部安置有一锥尖96，锥尖96的侧边与形变层91有一定缝隙，当形变层91由于压电块93的挤压而向外侧鼓起时，锥尖96周围的形变层91被拉开，形变层91在锥尖96处出现一圆形裂口，此时锥尖96突出于形变层91的表面，相当于在指定位置设置尖端，用来引导发生尖端效应，锥尖96的底端设置有导电装置98，锥尖96能够聚集形变层91表面的电荷，并将电荷通过导电装置98传送出设备，保证设备不会受到雷击和电击的危害。

锥尖96采用金属等导电性材料制成，能够承受较高的电压。

在锥尖96的外侧对应的形变层91的侧壁上，设置第一压电环971、第二压电环972、第三压电环973，三个压电环均为环状，三个压电环均环套在锥尖96上，三个压电环均不与锥尖96接触，三个压电环之间均不互相接触，三个压电环均固定在形变层91上。

在有雷击和电击风险的时候，形变层91发生弯曲，露出锥尖96，由于第一压电环971与锥尖96处于相同的电荷层，且第一压电环971与形变层91的表面距离较近，第一压电环971会感应出与锥尖96相同的电荷；第二压电环972与第三压电环973由于距离外界电荷源，第二压电环972与第三压电环973由于锥尖96上聚集的电荷而感应出与锥尖96上相反的电荷，此时，第一压电环971与第二压电环972、第三压电环973的形变方向相反，第二压电环972与第三压电环973的形变程度不同，第一压电环971与第二压电环972、第三压电环973产生静电力，静电力将使得形变层91在锥尖96的裂开处进行拉伸，让形变层91的侧边产生扭曲，从而保证形变层91的裂开处为平滑的曲面，不会出现新的尖角，防止尖端效应的发生。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，对本实用新型而言仅仅是说明性的，而非限制性的。本专业技术人员理解，在本实用新型权利要求所限定的精神和范围内可对其进行许多改变，修改，甚至等效，但都将落入本实用新型的保护范围内。