件的多个致动器和传感器； j. 能够检测第二流体槽中流体的物理和化学性质变化的多个传感器；和 k. 可选的对第二流体槽中流体进行混合的混合器。2. 如权利要求1所述的装置，其特征在于，处理单元包括施加磁场的永磁体装置、施加 静电场的静电装置、或施加电磁场的电磁装置。3. 如权利要求1所述的装置，其特征在于，检测第二流体槽中流体的物理和化学性质 的变化的多个传感器被置于其能够对流体在处理单元之前和处理单元之后的物理和化学 性质的变化进行检测的位置。4. 如权利要求1所述的装置，其特征在于，检测第二流体槽中流体的物理和化学性质 的变化的多个传感器设在第二流体槽的内部。5. 如权利要求1所述的装置，其特征在于，控制第二流体槽中流体运行条件的多个致 动器和传感器与第二流体槽和循环管道直接相连。6. 如权利要求1所述的装置，其特征在于，第二流体槽中的全部流体能够不经任何旁 路管道地流过处理单元。7. 如权利要求1所述的装置，其特征在于，第二槽中流体的一部分能够流过处理单元 而其余部分能够流过旁路管道。8. -种通过使第一种正常的未电离流体与第二种经过直接电离的流体混合的混合步 骤来对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的装置，包括： a. 容纳第一种正常的未电离流体的第一流体槽； b. 容纳第二种经过直接电离的流体的第二流体槽； c. 容纳第三种经过间接电离的流体的第三流体槽，其中第三种经过间接电离的流体是 通过混合第二种经过直接电离的流体与第一种正常的未电离流体而生产的； d. 控制第一种正常的未电离流体的流速的第一比例阀； e. 控制第二种经过直接电离的流体的流速的第二比例阀； f. 控制第三流体槽中第三种经过间接电离的流体的混合条件的多个致动器和传感 器； g. 连接第一流体槽与第三流体槽的第一管道；和 h. 连接第二流体槽与第三流体槽的第二管道。9. 如权利要求8所述的装置，其特征在于，使用该装置以使第二种经过直接电离的流 体与第一种正常的未电离流体在第三流体槽中混合。10. 如权利要求8所述的装置，其特征在于，使用该装置以使第二种经过直接电离的流 体与第一种正常的未电离流体在连接第一、第二流体槽与第三流体槽的管道中混合。11. 一种通过使第一种正常的未电离流体与第二种经过直接电离的流体混合来对流体 进行间接的磁/静电/电磁处理的装置，包括： a. 容纳第一种正常的未电离流体的第一流体槽； b. 容纳第二种经过直接电离的流体的第二流体槽； c. 容纳第三种经过间接电离的流体的第三流体槽，其中第三种经过间接电离的流体是 通过混合第二种经过直接电离的流体与第一种正常的未电离流体而生产的； d. 连接第一流体槽与第二流体槽的第一管道； e. 连接第二流体槽与第三流体槽的第二管道； f. 控制第一种正常的未电离流体的流速的比例阀；和 g. 控制第三流体槽中第三种经过间接电离的流体的混合条件的多个致动器和传感器。12. 如权利要求11所述的装置，其特征在于，使用该装置以使第二种经过直接电离的 流体与第一种正常的未电离流体在第二流体槽中混合。13. 如权利要求11所述的装置，其特征在于，使用该装置以使第二种经过直接电离的 流体与第一种正常的未电离流体在多个串联的槽中混合。14. 如权利要求11所述的装置，其特征在于，使用该装置以使第二种经过直接电离的 流体与第一种正常的未电离流体在多个槽中混合。15. -种对流体进行直接的磁/静电/电磁处理的方法，包括： a. 向第二流体槽提供一定体积的第一种正常的未电离流体； b. 向第一种正常的未电离流体施加直接的磁/静电/电磁场； c. 使第二流体槽中正常的未电离流体进行流过处理单元的循环而生产第二种经过直 接电离的流体，该处理单元以受控时间和/或受控流速并以可选的间歇循环周期使其排出 的流体流回第二流体槽； d. 利用至少一个传感器来测量第二流体槽中第二种经过直接电离的流体的性质以获 得至少一个测量结果； e. 基于所获得的测量结果对第二流体槽中第二种经过直接电离的流体的运行条件进 行调整；和 f. 可选地，按照受控的混合占空比利用混合器或混合栗在第二流体槽中实施第二种经 过直接电离的流体的混合过程。16. 如权利要求15所述的对流体进行直接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 第二流体槽中的全部流体不经任何旁路管道地流过处理单元。17. 如权利要求15所述的对流体进行直接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 第二流体槽中流体的一部分流过处理单元而其余部分流过旁路管道。18. 如权利要求15所述的对流体进行直接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 处理单元内向经过直接电离的流体施加磁/静电/电磁场的过程是在流体处于受控的循环 环境下进行的。19. 如权利要求15所述的对流体进行直接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 配置至少一个传感器来控制第二槽中流体的温度、压力、流速、循环占空比、混合占空比、液 位和/或体积。20. 如权利要求15所述的对流体进行直接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 第二种经过直接电离的流体的流速和循环占空比取决于流体和应用。21. 如权利要求15所述的对流体进行直接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 受控变量是根据特定的期望值来调整和控制的，该期望值可能具有基于至少一个传感器反 馈的恒定或可变的时间分布。22. 如权利要求15所述的对流体进行直接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 如果第二种经过直接电离的流体被储存，则储存后的第二种经过直接电离的流体的品质、 性质和特征得以保存。23. -种对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的方法，包括根据预定的混合比混合第 二种经过直接电离的流体与第一种正常的未电离流体以生成第三种经过间接电离的流体 的步骤，其中该第三种经过间接电离的流体是由第二种经过直接电离的流体间接电离得到 的。24. 如权利要求23所述的对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 将第二种经过直接电离的流体用作电离第一种正常的未电离流体的催离素或电离剂。25. 如权利要求23所述的对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 不对第三种经过间接电离的流体进行任何直接的磁/静电/电磁处理。26. 如权利要求23所述的对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 第二种经过直接电离的流体与第一种正常的未电离流体的混合比取决于应用和流体。27. 如权利要求23所述的对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的方法，包括： a. 使第二种经过直接电离的流体沉在混合容器底部的第一步骤；和 b. 将第一种正常的未电离流体沉在第二种经过直接电离的流体顶部的第二步骤；和 c. 重复上述第一和第二步骤一次或多次。28. 如权利要求23所述的对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的方法，包括： a. 将第一种正常的未电离流体沉在混合容器底部的第一步骤；和 b. 使第二种经过直接电离的流体沉在第一种正常的未电离流体顶部的第二步骤；和 c. 重复上述第一和第二步骤一次或多次。29. 如权利要求23所述的对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的方法，包括： a. 提供接收第一种正常的未电离流体的第一容器； b. 提供接收第二种经过直接电离的流体的第二容器；和 c. 提供接收第三种经过间接电离的流体的第三容器，该第三容器与第一和第二容器流 体连通以同时接收第一种正常的未电离流体的第一受控流和第二种经过直接电离的流体 的第二受控流。30. 如权利要求23所述的对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的方法，包括： a. 提供接收第一种正常的未电离流体的第一容器； b. 提供接收第二种经过直接电离的流体的第二较小容器；和 c. 提供接收第三种经过间接电离的流体的第三容器，其中第二较小容器从第一容器接 收第一种正常的未电离流体的受控流，并向包含第一种正常的未电离流体和第二种经过直 接电离的流体的第三容器排出第三种经过间接电离的流体流。31. 如权利要求23所述的对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的方法，包括： a. 提供接收第一种正常的未电离流体的第一容器； b. 提供接收第二种经过直接电离的流体的多个串联的较小容器；和 c. 提供接收第三种经过间接电离的流体的第三容器，其中第一个较小容器从第一容器 接收第一种正常的未电离流体的受控流，且多个较小容器向第三流体容器排出第三种经过 间接电离的流体流。32. 如权利要求23所述的对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 第一流体是不通过任何直接的磁/静电/电磁场的正常的未电离流体，第二流体是经过直 接的磁/静电/电磁处理的经过直接电离的流体，而由第一种正常的未电离流体和第二种 经过直接电离的流体的混合过程所生成的第三种经过间接电离的流体是由第二种经过直 接电离的流体间接电离或处理得到的，且第三种经过间接电离的流体被完全处理。33. 如权利要求23所述的对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 第二种经过直接电离的流体和第三种经过间接电离的流体能够被立即用于合适的应用中 或能够被储存供以后使用。34. 如权利要求23所述的对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 第二种经过直接电离的流体的生产在空间上和在时间上与第三种经过间接电离的流体的 生产分离。35. 如权利要求23所述的对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 处理装置与混合装置不在同一位置。36. 如权利要求23所述的对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 如果按照最佳混合比和混合过程经过合适的混合，则不论第三种经过间接电离的流体何时 用于应用中，其都具有比第二种经过直接电离的流体和第一种正常的未电离流体更好的特 性。37. 如权利要求23所述的对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 第三种经过间接电离的流体根据第一种正常的未电离流体与第二种经过直接电离的流体 的混合比和混合过程能够不止一次地用作第一种正常的未电离流体的催离素或电离剂。38. 如权利要求23所述的对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 如果第三种经过间接电离的流体被储存，则储存后的第三种经过间接电离的流体的品质、 性质和特征得以完全保存。39. 如权利要求23所述的对流体进行间接的磁/静电/电磁处理的方法，其特征在于， 混合过程中所使用的第二种经过直接电离的流体和第一种正常的未电离流体可以在化学 组成上相似或具有不同的化学组成。
【专利摘要】一种对流体进行磁/静电/电磁处理的方法，其包括三个在空间上和在时间上分离的独立阶段，其中，在第一阶段中，向处于循环中的工作流体施加磁/静电/电磁场以得到经过直接电离的流体。该由第一阶段生成的经过直接电离的流体可以被立即使用或在用于第二阶段之前被储存起来。在第二阶段中，将经过直接电离的流体用作对正常的未电离流体进行间接电离的催离素或电离剂，该间接电离是通过按照经过直接电离的流体和正常的未电离流体之间预定的混合比和混合方法对经过直接电离的流体和正常的未电离流体进行混合来进行的。在第三阶段中，所得到的经过混合或间接电离的流体直接用于合适的应用中或储存在贮槽中供以后使用。根据本发明的实施方式，所提出的方法中的三个阶段在空间上和时间上彼此完全分离，无需处理装置与混合装置位于同一位置(空间上分离)，也无需同时生产经过处理的流体和经过混合的流体(时间上分离)。本发明的可能的应用包括但不限于所有以往的对流体进行直接和立即的磁/静电/电磁处理的应用如水处理、烃类燃料处理。
【IPC分类】C02F1/48, C10G32/02, B01J19/08
【公开号】CN105263868
【申请号】CN201480031465
【发明人】Z·阿波－哈默尔
【申请人】环境和水质能源专业处理有限公司
【公开日】2016年1月20日
【申请日】2014年4月7日
【公告号】CA2909201A1, EP2984045A1, US20160046875, WO2014173672A1