图3，脑电脑冲洗装置100还可以包括水枪118以及水栗119。
[0036]具体地，水枪118可以用于向脑电帽喷水，水枪118可以设在箱体117内，且水枪118的喷射方向可以朝向支架111，水栗119的出水端可以与水枪118相连。由此，可以利用脑电脑冲洗装置100对脑电实验后的脑电帽上的脑电膏进行清洗，方便脑电帽的下次使用。
[0037]参照图1并结合图4，箱体117内可以设有带有凹槽的支持架120，支持架120可以用于定位与支持脑电帽支撑组件110，转轴113可在支持架120的凹槽上转动。
[0038]支架111可以与转轴113相连，转轴113可以放在箱体117的两根横梁的凹槽上，支架111可以以转轴113为中心进行转动。转轴113可以是中空的可分开两部分的柱体，转轴113的内部可以容纳导联线，且脑电帽的导联线与放大器的接口盒可以放置在与转轴113固定在一起的接口盛放盒114内。由此，可以确保脑电帽支撑组件110与脑电帽系统同步转动，从而可以在一定程度上保证脑电帽清洗效果。
[0039]如图1和图3所示，箱体117内可以设有滤网121，且滤网121可以在箱体117内限定出冲洗空间122和盛水空间123，支架111可以位于冲洗空间122内，水栗119的进水端可以与盛水空间123的底部相连。由此，不仅可以实现对脑电帽的清洗，还可以实现水的循环利用，节约资源。
[0040]箱体117可以用于盛放冲洗脑电实验后的脑电帽上的脑电膏的水并可以实现水的过滤，箱体117内可以利用滤网121 (例如铁丝网等)隔成两个空间，即冲洗空间122和盛水空间123。
[0041]其中，冲洗空间122可以用来盛放直接冲洗脑电帽的水，盛水空间123可以用于盛放冲洗空间122内经滤网121过滤后的水，过滤后的水可以通过水栗119形成较高压的水继续用来冲洗脑电帽，由此可以实现水的循环利用，节约能源。
[0042]具体而言，参照图1并结合图3，箱体117内可以设有滤网121，且滤网121可以在箱体117内限定出冲洗空间122 (例如，图1中箱体117内滤网121的前方空间)和盛水空间123 (例如，图1中箱体117内滤网121的后方空间)，支架111可以位于冲洗空间122内，支架111可以支撑脑电实验后的脑电帽，由此，支架111可以在水流冲击力的作用下带动脑电帽旋转，并且可以对脑电帽上的脑电膏进行清洗。清洗掉的脑电膏可以通过箱体117内的滤网121进行过滤，同时，过滤后的水可以存放在盛水空间123内。水栗119的进水端可以与盛水空间123的底部相连，这样不仅可以满足对脑电实验后的脑电帽上的脑电膏进行清洗，而且可以实现水的循环利用，节约资源。
[0043]如图1和图3所示，水枪118可以设在箱体117的侧壁上，且水枪118喷出的水在支架111上的位置可以略高于支架111的旋转中心轴，用于驱动脑电帽支撑组件110旋转和冲洗。
[0044]具体而言，水枪118喷出的水流作用在支架111上的位置可以略高于支架111的旋转中心轴，由此，由水枪118喷出的水流作用在脑电帽上，相当于对支架111上的脑电帽以及脑电帽支撑组件110施加了一定的转矩，在水枪118喷出的水流冲击力的持续作用下使得脑电帽可以随脑电帽支撑组件110旋转，从而可以实现对脑电实验后的脑电帽上的脑电膏的高效清洗。
[0045]在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底” “内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
[0046]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
[0047]在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
[0048]在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0049]在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
[0050]尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
【主权项】
1.一种脑电帽冲洗装置，用于清洗脑电帽，其特征在于，包括脑电帽支撑组件和箱体，所述脑电帽支撑组件由所述箱体支撑并可旋转，所述脑电帽支撑组件包括: 用于支撑脑电帽的支架，所述支架上设有与脑电帽上的电极对应的过水孔； 转轴，所述转轴的第一端与所述支架固定连接且所述转轴中空以适于脑电帽的导联线置入。2.根据权利要求1所述的脑电帽冲洗装置，其特征在于，所述转轴的第二端连接有接口盛放盒，且所述转轴的第二端与所述接口盛放盒连通。3.根据权利要求2所述的脑电帽冲洗装置，其特征在于，所述转轴包括转轴主体和盖板，所述转轴主体呈侧壁形成有第一缺口的中空轴状，所述盖板可拆卸地设在所述转轴主体上的所述第一缺口，与转轴主体形成转轴和导联线穿孔。4.根据权利要求3所述的脑电帽冲洗装置，其特征在于，所述接口盛放盒上形成有沿所述转轴的轴线方向延伸的第二缺口，所述第二缺口和所述第一缺口沿所述转轴的轴线方向对齐，所述第二缺口由所述盖板封闭或打开，所述盖板的一端与所述接口盛放盒的远离所述转轴本体的一端平齐，且所述第一缺口的两侧面上形成有内凹的半圆形滑槽，所述盖板的两侧边形成有外凸的圆弧形凸起，所述圆弧形凸起配合在所述半圆形滑槽内。5.根据权利要求1所述的脑电帽冲洗装置，其特征在于，所述支架呈连接所述转轴的一侧敞开的半球形壳体形状。6.根据权利要求5所述的脑电帽冲洗装置，其特征在于，所述支架的开口中部设有环形连接部，所述环形连接部的内侧呈非圆形状，所述环形连接部与所述支架相连，所述转轴的第一端的形状和大小与所述环形连接部内侧的形状和大小适配，且所述转轴的第一端固定在所述环形连接部内。7.根据权利要求1-6中任一项所述的脑电帽冲洗装置，其特征在于，所述脑电脑冲洗装置还包括: 用于朝脑电帽喷水的水枪，所述水枪设在所述箱体内，且所述水枪的喷射方向朝向所述支架； 水栗，所述水栗的出水端与所述水枪相连。8.根据权利要求7所述的脑电帽冲洗装置，其特征在于，所述箱体内设有带有凹槽的支持架，所述转轴可在所述支持架凹槽上转动。9.根据权利要求7所述的脑电帽冲洗装置，其特征在于，所述箱体内设有滤网，且所述滤网在所述箱体内限定出冲洗空间和盛水空间，所述支架位于所述冲洗空间内，所述水栗的进水端与所述盛水空间的底部相连。10.根据权利要求7所述的脑电帽冲洗装置，其特征在于，所述水枪设在所述箱体的侧壁上，且所述水枪喷出的水在所述支架上的位置略高于所述支架的旋转中心轴，用于驱动所述脑电帽支撑组件旋转和冲洗。
【专利摘要】本发明公开了一种脑电帽冲洗装置，所述脑电帽冲洗装置用于清洗脑电帽，包括脑电帽支撑组件和箱体，所述脑电帽支撑组件由所述箱体支撑并可旋转，所述脑电帽支撑组件包括用于支撑脑电帽的支架和转轴，所述支架上设有与脑电帽上的电极对应的过水孔，所述转轴的第一端与所述支架固定连接且所述转轴中空以适于脑电帽的导联线穿入。所述箱体用于支持脑电帽支撑组件，并支持脑电帽支撑组件转动，提供清洗空间、盛水空间以及固定水泵。本发明的脑电帽冲洗装置，可以实现对脑电采集后附有脑电膏的脑电帽进行清洗，脑电帽冲洗装置可以保护导联线和接口盒，提高清洗效率，同时可以实现水的循环利用，节约资源。
【IPC分类】B08B13/00, B08B3/02
【公开号】CN105414082
【申请号】CN201510885838
【发明人】蔡刿, 肖毅, 韩东旭, 肖志军, 孙晨卉, 展文豪
【申请人】中国航天员科研训练中心, 蔡刿
【公开日】2016年3月23日
【申请日】2015年12月4日