一种乳化生产线雾化式乳化设备的制作方法

文档序号:11030081阅读:490来源:国知局
一种乳化生产线雾化式乳化设备的制造方法与工艺

本实用新型涉及化妆品生产领域,具体涉及一种乳化生产线雾化式乳化设备。



背景技术:

在化妆品生产领域,乳化机是对不相溶的液体进行乳化的常用设备。该设备一般包括搅拌筒、设置在搅拌筒上方的输出轴朝下的电机、设置在电机输出轴上与电机同轴高速旋转的搅拌轴,搅拌轴深入到搅拌筒的底部,搅拌轴底端套设有转子,搅拌筒底部设置有定子,湿性介质在转子和定子之间剪切力的作用下得到细微化、均匀化和乳化,制得所需要的粒子精细、液体均匀的成品。这种的乳化机乳化效果较好,但是其局限在于无法连续进行乳化液制备,必须要间歇进行,其乳化液制备效率较低;此外,现有设备在乳化过程中,常常会使空气混杂在乳化液中,使易被氧化的成分遭到破坏。



技术实现要素:

为了解决乳化生产线无法连续进行乳化液制备、乳化效率低、乳化液中的成分易被氧化等技术问题,本实用新型提供了一种乳化生产线雾化式乳化设备,包括第一储液罐1、第一配比罐2、第一雾化器3、第二储液罐4、第二配比罐5、第二雾化器6、配料罐7、压力调节泵8、压力传感器9、电磁调温器10、温度传感器11;所述第一储液罐1、第一配比罐2、第一雾化装置3和配料罐7通过输液管道12依次连接,所述第二储液罐4、第二配比罐5、第二雾化装置6和配料罐7通过输液管道12依次连接;所述第一配比罐2、第二配比罐5的进液端分别设置有电磁阀13;所述第一雾化器3和第二雾化器6分别设置在第一配比罐2和第二配比罐5的内部;所述第一配比罐2和第二配比罐5与配料罐7的连接处均设置有喷嘴14,所述两个喷嘴14相对设置在配料罐7的内部;所述压力调节泵8和压力传感器9设置在所述配料罐7的顶部,压力调节泵8和压力传感器9电连接;所述电磁调温器11和温度传感器12设置在所述储料罐10的侧面,电磁调温器11和温度传感器12电连接。

作为优选,所述第一配比罐2和第二配比罐3内均设置有液位传感器15。

作为优选,所述配料罐7的上部宽度小于下部宽度,所述喷嘴14相对设置在所述配料罐7的上部。

作为优选,所述第一雾化装置器3和第二雾化装置6均为超声波雾化器。

作为优选,所述压力调节泵8连接储气箱16,所述储气箱16内填充有去除了氧气的气体。

本实用新型的乳化生产线,存在如下优点:通过雾化方式乳化,可以连续进行乳化液制备;通过电磁阀对配比装置内的液体量严格控制,保证了雾化后的乳化效率;通过压力泵和电磁调温器调节配料罐内的压力和温度,使雾化后的乳化液保持稳定状态;乳化过程在不含氧气的气体中进行,避免了乳化液中的部分有效成分被大量氧化。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。

如图1所示,本实施例的一种乳化生产线雾化式乳化设备,包括第一储液罐1、第一配比罐2、第一雾化器3、第二储液罐4、第二配比罐5、第二雾化器6、配料罐7、压力调节泵8、压力传感器9、电磁调温器10、温度传感器11;所述第一储液罐1、第一配比罐2、第一雾化装置3和配料罐7通过输液管道12依次连接,所述第二储液罐4、第二配比罐5、第二雾化装置6和配料罐7通过输液管道12依次连接;通过雾化方式乳化,可以连续进行乳化液制备。

第一配比罐2、第二配比罐5的进液端分别设置有电磁阀13;所述第一配比罐2和第二配比罐3内均设置有液位传感器15,用于精确控制配比罐内的液体量,严格按照预先设定好的液体比例进行混合,以达到最佳乳化效果。

第一雾化器3和第二雾化器6分别设置在第一配比罐2和第二配比罐5的内部;第一配比罐2和第二配比罐5与配料罐7的连接处均设置有喷嘴14,两个喷嘴14相对设置在配料罐7的内部;配料罐7的上部宽度小于下部宽度,喷嘴14相对设置在所述配料罐7的上部,缩短了两喷嘴14之间的距离,使两种液体雾化后混合更加均匀。

压力调节泵8和压力传感器9设置在所述配料罐7的顶部,压力调节泵8和压力传感器9电连接;电磁调温器11和温度传感器12设置在所述储料罐10的侧面,电磁调温器11和温度传感器12电连接,通过压力泵和电磁调温器调节配料罐内的压力和温度,使雾化后的乳化液保持稳定状态。

第一雾化装置器3和第二雾化装置6均为超声波雾化器,工作频率达到兆赫级,雾化后的液粒达到微米级,雾化效果好,混合更加均匀。

压力调节泵8连接储气箱16,储气箱16内填充有去除了氧气的气体,乳化过程在不含氧气的气体中进行,避免了乳化液中的部分有效成分被大量氧化。

对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型,对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的。

应当理解的是,本申请旨在涵盖本实用新型的任何变型、用途或者适应性变化,这些变型、用途或者适应性变化遵循本实用新型的一般性原理并包括本实用新型未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。

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