一种用于污水处理的潜水推流器的制作方法

文档序号:11475215阅读:353来源:国知局

本实用新型涉及污水处理技术领域,尤其涉及一种用于污水处理的潜水推流器。



背景技术:

伴随我国城市化快速发展,城市生活污水排放量呈快速增长。国家高度重视污水处理与排放。自1998年起城市生活污水排放量超过工业废水排放量起,城市污水处理事业迅速发展,截止2015年第三季度底,我国已建污水处理厂4078座,污水处理总能力达1.66亿吨/天,实际处理能力约为1.2亿吨/天。污水处理搅拌机作为主要的污水处理设备,在污水处理厂内广泛应用,对其的研究是污水处理厂节能减排的关键。

在中国专利申请号:201510760633.7中公开了一种用于污水搅拌的潜水推流器,其特征在于:包括支撑柱、第一电机、支杆,该支杆与支撑柱转动连接,该第一电机与支杆传动连接,该支杆上设有N个推流单元,该推流单元包括第二电机、第一叶片,该第二电机与第一叶片传动连接;该推流单元还包括滑杆、气缸,该滑杆的一端与支杆连接,另一端向外延伸,该第二电机与滑杆滑动连接,该气缸驱动第二电机沿滑杆延伸方向位移。在污水的处理过程中,需要添加试剂以促进污水反应,处理后的污水才能够排放,上述技术方案没有进行试剂添加,污水处理效果不好,有待进一步改进。



技术实现要素:

为了解决背景技术中存在的技术问题,本实用新型提出了一种用于污水处理的潜水推流器,效果好。

一种用于污水处理的潜水推流器,用于对沉淀池内的污水进行处理,包括导轨、支架、滚轮、驱动单元、料斗、压板、连杆、搅拌机构、多个储液机构;

导轨沿沉淀池的长度方向铺设在沉淀池上;

支架通过滚轮可移动安装在导轨上;

驱动单元用于驱动支架沿导轨的长度方向移动;

料斗安装在支架上,料斗开口向上布置,料斗的出口向沉淀池方向布置;压板通过连杆安装在支架上,压板和支架之间预设有间距;

搅拌机构安装在支架上;

多个储液机构沿沉淀池的长度方向依次分布,储液机构包括安装架、储液箱、堵头、支杆、连接杆、第一连接件、第二连接件、横杆、弹簧;安装架安装在沉淀池上;储液箱安装在安装架上,储液箱位于料斗的上方,储液箱上设有出液孔,出液孔在水平面内的投影位于料斗的移动轨迹在水平面内的投影的内侧;堵头用于封闭或打开出液孔;支杆安装在安装架上;连接杆的中部与支杆铰接;第一连接件的第一端与连接杆连接,第一连接件的第二端与堵头连接;第二连接件置于支杆远离第一连接件的一侧,第二连接件的第一端与连接杆连接,第二连接件的第二端与横杆铰接;横杆与安装架铰接,横杆位于压板的移动路径上,当压板沿上述移动路径移动并与横杆接触时,压板挤压横杆并致使堵头将出液孔打开;弹簧置于支杆远离第二连接件的一侧,弹簧的第一端与连接杆连接,弹簧的第二端与安装架连接,弹簧两端的间距大于其自然长度。

优选的,压板为“V”型。

优选的,还包括第一齿条,第一齿条安装在沉淀池上并沿沉淀池的长度方向布置;搅拌机构包括第一搅拌单元,第一搅拌单元包括第一搅拌轴、第一齿轮、第一叶片,第一搅拌轴沿竖直方向转动安装在支架上;第一齿轮、第一叶片均安装在第一搅拌轴上,第一齿轮与第一齿条啮合。

优选的,第一叶片与水平面之间的夹角为6-15度。

优选的,第一叶片的上表面设有多个沟槽,沟槽的长度方向沿第一搅拌轴的转动方向布置。

优选的,还包括第二齿条,第二齿条安装在沉淀池上并沿沉淀池的长度方向布置;搅拌机构包括第二搅拌单元,第二搅拌单元包括第二搅拌轴、第二齿轮、第二叶片,第二搅拌轴沿竖直方向转动安装在支架上;第二齿轮、第二叶片均安装在第二搅拌轴上,第二齿轮与第二齿条啮合。

优选的,还包括两个限位开关、控制器,两个限位开关分别安装在沉淀池的两端,两个限位开关、驱动单元均与控制器连接。

本实用新型中,利用驱动单元带动支架沿沉淀池P的长度方向移动,利用搅拌机构对污水进行搅拌处理,在污水处理时,需要向污水中通入反应试剂以促进污水发生化学反应。需要沿着沉淀池的长度方向均匀的喷洒试剂,以促进污水、污泥有效排放,因此,通过设置多个储液机构,通过在储液箱内放置反应试剂。

当支架移动至一个储液机构下方时,压板与横杆接触并挤压横杆致使横杆下降,横杆、第二连接件带动连接杆转动,连接杆带动第一连接件、堵头移动,堵头和出液孔分离,致使出液孔打开,储液箱内的试剂进入料斗内,进而进入沉淀池内与污水反应。当压板与横杆分离后,弹簧拉动连接杆反向转动,让堵头将出液孔封闭。

通过上述结构的设计,不需要将试剂放置在支架上,降低支架压力,这样方便支架移动,降低磨损;通过设置多个储液机构,便于分布向料斗内添加试剂,不需要将所有试剂一起移动,降低运行成本,也可以在不同的储液机构内放置不同试剂,能够有效促进污水方向,提供污水、污泥处理效果。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互的结合;下面参考附图并结合实施例对本实用新型做详细说明。

参照图1:

本实用新型提出的一种用于污水处理的潜水推流器,用于对沉淀池内的污水进行处理,包括导轨1、支架2、滚轮3、驱动单元、料斗4、压板5、连杆6、搅拌机构、多个储液机构。

导轨1沿沉淀池的长度方向铺设在沉淀池上;支架2通过滚轮3可移动安装在导轨1上;驱动单元用于驱动支架2沿导轨1的长度方向移动。

料斗4安装在支架2上,料斗4开口向上布置,料斗4的出口向沉淀池方向布置;压板5通过连杆6安装在支架2上,压板5和支架2之间预设有间距;搅拌机构安装在支架2上。

多个储液机构沿沉淀池的长度方向依次分布,储液机构包括安装架7、储液箱8、堵头9、支杆10、连接杆11、第一连接件12、第二连接件13、横杆14、弹簧15;安装架7安装在沉淀池上;储液箱8安装在安装架7上,储液箱8位于料斗4的上方,储液箱8上设有出液孔,出液孔在水平面内的投影位于料斗4的移动轨迹在水平面内的投影的内侧;堵头9用于封闭或打开出液孔;支杆10安装在安装架7上;连接杆11的中部与支杆10铰接;第一连接件12的第一端与连接杆11连接,第一连接件12的第二端与堵头9连接;第二连接件13置于支杆10远离第一连接件12的一侧,第二连接件13的第一端与连接杆11连接,第二连接件13的第二端与横杆14铰接;横杆14与安装架7铰接,横杆14位于压板5的移动路径上,当压板5沿上述移动路径移动并与横杆14接触时,压板5挤压横杆14并致使堵头9将出液孔打开;弹簧15置于支杆10远离第二连接件13的一侧,弹簧15的第一端与连接杆11连接,弹簧15的第二端与安装架7连接,弹簧15两端的间距大于其自然长度。

本实施例中,压板5为“V”型;在支架2沿沉淀池P来回移动时,便于利用压板5挤压横杆14,便于横杆14转动。

本实施例还包括第一齿条16,第一齿条16安装在沉淀池上并沿沉淀池的长度方向布置;搅拌机构包括第一搅拌单元,第一搅拌单元包括第一搅拌轴17、第一齿轮18、第一叶片19,第一搅拌轴17沿竖直方向转动安装在支架2上;第一齿轮18、第一叶片19均安装在第一搅拌轴17上,第一齿轮18与第一齿条16啮合;支架2在移动过程中,第一齿轮18与第一齿条16啮合,因此,第一搅拌轴17转动,利用第一叶片19搅拌污水,让料斗4内排出试剂能够均匀的与污水进行混合,提高污水处理效果。

本实施例中,第一叶片19与水平面之间的夹角为6-15度;夹角越大搅拌效果越好,但是,受到的流体阻力也相应增大,对第一叶片19强度等性能要求更高,因而会导致制造难度变大,成本变高;因此,经过多次试验后,夹角为6-15度时,经济性最好、效果最好;第一叶片19各成分及重量百分比为:C:1.9%、Cr:17%、Mn:0.65%、S i:0.9%、Ni:0.1%、V:0.06%;余量为Fe及不可避免的杂质;C其它元素相互配合,提高耐磨性;S i强化组织,提高强度,Ni、V等细化晶粒,提高耐磨性;通过上述组分得到的第一叶片耐磨性好,强度高,使用寿命长。

本实施例中,第一叶片19的上表面设有多个沟槽,沟槽的长度方向沿第一搅拌轴17的转动方向布置;污水经过第一叶片19表面时沿沟槽移动,污泥不会在第一叶片上沉积,提高搅拌效果。

本实施例还包括第二齿条20,第二齿条20安装在沉淀池上并沿沉淀池的长度方向布置;搅拌机构包括第二搅拌单元,第二搅拌单元包括第二搅拌轴21、第二齿轮22、第二叶片23,第二搅拌轴21沿竖直方向转动安装在支架2上;第二齿轮22、第二叶片23均安装在第二搅拌轴21上,第二齿轮22与第二齿条20啮合;支架2在移动过程中,第二齿轮22与第二齿条20啮合,因此,第二搅拌轴21转动,利用第二叶片23搅拌污水,让料斗4内排出试剂能够均匀的与污水进行混合,提高污水处理效果。

本实施例还包括两个限位开关、控制器,两个限位开关分别安装在沉淀池的两端,两个限位开关、驱动单元均与控制器连接;能够灵活的控制支架2移动,让支架2沿沉淀池来回移动,提高污水处理效果。

利用驱动单元带动支架沿沉淀池P的长度方向移动,利用搅拌机构对污水进行搅拌处理,在污水处理时,需要向污水中通入反应试剂以促进污水发生化学反应。需要沿着沉淀池的长度方向均匀的喷洒试剂,以促进污水、污泥有效排放,因此,通过设置多个储液机构,通过在储液箱内放置反应试剂。

当支架移动至一个储液机构下方时,压板与横杆接触并挤压横杆致使横杆下降,横杆、第二连接件带动连接杆转动,连接杆带动第一连接件、堵头移动,堵头和出液孔分离,致使出液孔打开,储液箱内的试剂进入料斗内,进而进入沉淀池内与污水反应。当压板与横杆分离后,弹簧拉动连接杆反向转动,让堵头将出液孔封闭。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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