本实用新型涉及一种电渗析装置，特别涉及一种提高电渗析效率的聚电场膜电渗析装置，属于渗析装置领域。
背景技术：
化工生产过程中，原水要经过除盐等初级处理才能进入各装置车间作为工艺水使用，电渗析是一种常用的水处理方式，电渗析是利用离子交换膜和直流电场的作用，从水溶液中分离带电离子组分的一种电化学分离过程。电渗析装置的组装是用“级”和“段”来表示的。一对电极之间的膜堆称为一级，具有同一水流方向的并联膜堆称为一段。目前水处理过程所用的电渗析装置使用的是三级三段处理模式，出水的水质状况不好，含盐量高，造成工艺水再生酸、碱用量过大，引起工艺水的成本居高不下。而且现有的电渗析装置普遍存在的问题就是电渗析效率偏低，所以提高电渗析装置的电渗析效率具有重要的意义。
技术实现要素：
本实用新型要解决的技术问题是克服现有的电渗析装置效率低的缺陷，提供一种提高电渗析效率的聚电场膜电渗析装置。
为了解决上述技术问题，本实用新型提供了如下的技术方案：
本实用新型提供了一种提高电渗析效率的聚电场膜电渗析装置，包括中心电极，所述中心电极外侧设有圆桶形膜，所述圆桶形膜顶部一侧连接导管，所述导管顶部设有加热室，所述加热室顶部一侧设有进水口，所述圆桶形膜下方一侧设有水力清洗器，所述圆桶形膜底部连接排污管，所述排污管底部连接污渍收纳箱，所述圆桶形膜一侧设有圆筒形电极，所述圆筒形电极一侧设有储液池，所述储液池顶部一侧设有出水口，所述出水口一侧设有检测仪，所述检测仪连接显示屏。
作为本实用新型的一种优选技术方案，所述导管上设有流量控制阀。
作为本实用新型的一种优选技术方案，所述加热室的进水口设有过滤网，且加热室一侧设有温度监测仪。
作为本实用新型的一种优选技术方案，所述圆筒形电极的表面积与膜桶表面积的比值大于等于10。
作为本实用新型的一种优选技术方案，所述中心电极处在中心位置，圆筒形电极与膜套装成共轴圆桶。
本实用新型所达到的有益效果是：该聚电场膜电渗析装置的进水口设置有过滤网，而且还设有加热室，这一设计不仅可以保证进入装置的溶液不会带入杂质损坏装置，而且加热室可以对溶液进行预加热，降低水的电阻，提高装置的效率。该渗析装置设有水力清洗器，可以及时有效的清楚装置内的污垢，使装置保持高效运行状态。在装置通过改变传统的设计，使用中心电极和圆筒形电极的特定设计增大了膜处的电场，提高了电渗析效率。
附图说明
附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：
图1是本实用新型的主体结构示意图。
图中：1、中心电极；2、圆桶形膜；3、导管；4、加热室；5、进水口；6、水力清洗器；7、排污管；8、污渍收纳箱；9、圆筒形电极；10、储液池；11、出水口；12、检测仪；13、显示屏；14、流量控制阀；15、过滤网；16、温度监测仪。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
实施例1
如图1所示，本实用新型提供了一种提高电渗析效率的聚电场膜电渗析装置，包括中心电极1，中心电极1外侧设有圆桶形膜2，圆桶形膜2顶部一侧连接导管3，导管3顶部设有加热室4，加热室4顶部一侧设有进水口5，圆桶形膜2下方一侧设有水力清洗器6，圆桶形膜2底部连接排污管7，所述排污管7底部连接污渍收纳箱8，污渍收纳箱可以集中收集污渍，有效的避免了污渍对环境的污染，圆桶形膜2一侧设有圆筒形电极9，圆筒形电极9一侧设有储液池10，储液池10顶部一侧设有出水口11，出水口11一侧设有检测仪12，检测仪可以实时监测排出水中的离子浓度，以免离子超标，检测仪12连接显示屏13。
导管3上设有流量控制阀14，流量阀可以准确的控制进入到装置中的溶液量，有利于装置的正常运行。加热室4的进水口5设有过滤网15，且加热室一侧设有温度监测仪16，过滤网15能够有效防止杂质进入装置。圆筒形电极9的表面积与膜桶表面积的比值大于等于10，这一设计有利于装置的高效运行。中心电极1处在中心位置，圆筒形电极9与膜套装成共轴圆桶，这一设计能够提高膜处的电场，加速离子向膜的迁移速度，有利于提高装置的效率。
具体工作原理：该装置工作时，待处理溶液由进水口5进入加热室4预热后通过导管3进入到圆筒形膜内，然后给装置通电，中心电极接1电源正极，圆筒形电极9接电源负极，这样装置内便形成电场，离子定向扩散，水透过膜进入到储液池10，然后从出水口11排出。溶液中的离子逐渐在装置膜内富集，然后沉淀到底部，通过水力清洗器6辅助清理产生的污垢，然后从排污管7排出到污渍收纳箱8中。
最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。