本实用新型涉及一种粉碎室，具体涉及一种超细碳化硅气流粉碎室。
背景技术：
目前碳化硅粉体的超细粉碎技术成为制备超细碳化硅粉体的关键技术，在新型功能材料的制备中对碳化硅粉碎粒度有严格的要求，而气流粉碎技术是制备微米及亚微米超细粉体的重要手段，一般机械式粉碎机粉碎的产品，其粒径、粒度分布都存在很大缺陷，而气流粉碎技术具备粒度优异、产品纯度高、产品分散性能好、颗粒活性大的优点，本实用新型专利旨在研究一种利用气流粉碎、结构简单、粉碎效果好的一种超细碳化硅气流粉碎室。
技术实现要素：
本实用新型的目的是提供一种利用气流粉碎、结构简单、粉碎效果好的一种超细碳化硅气流粉碎室。
一种超细碳化硅气流粉碎室，包括主体；所述的主体下部设置有气源一连接管和气源二连接管；所述的主体左侧设置有喷嘴一；主体右侧设置有喷嘴二；所述的喷嘴一上部设置有进料口；所述的喷嘴二上部设置有出料口；所述的气源一连接管和气源二连接管在气源总管处汇合；所述的气源总管上设置有压力表；所述的喷嘴一正前方设置有稳流管一，所述的稳流管一前方设置有靶板一，所述的靶板一固定在托板一上；所述的托板一设置在主体上；所述的喷嘴二正前方设置有稳流管二，所述的稳流管二前方设置有靶板二，所述的靶板二固定在托板二上；所述的托板二设置在主体上。
所述的喷嘴一与喷嘴二结构相同；所述的喷嘴一包括入口稳定段、渐缩段、喉部段、扩张段和出口稳定段；所述的入口稳定段与气源一连接管连接，其直径要略小于气源一连接管的直径；所述的入口稳定段与渐缩段连接，所述的渐缩段的直径逐渐缩小；所述的渐缩段与喉部段连接，所述的喉部段的直径与渐缩段出口处直径相同；所述的喉部段与扩张段连接；所述的扩张段直径逐渐扩大；所述的扩张段与出口稳定段连接。
所述的喷嘴一与稳流管一之间的间隔距离为4-9mm；所述的稳流管一与靶板一的距离为3-8mm；所述的靶板一的直径为16mm、厚5mm的圆柱形硬质合金，所述的托板一为圆柱形；所述的托板一上开有12个直径为2.6mm的小孔。
从喷嘴一喷出的高速气流携带待粉碎颗粒，经稳流管后撞击在靶板上后经小孔流出；稳流管一与靶板一之间距离设置为使粉体撞击后更好的进行粉碎；喷嘴一与稳流管一之间的距离设置为使粉碎室内产生负压，让粉体更多进入稳流管内部，随高速气流吹出撞击靶板一。
本实用新型专利通过对喷嘴的改进，使得喷嘴喷出的气流速度更快，经稳流管后的气流更加稳定，分布均匀，使得粉碎效果更加。
附图说明
图1：本实用新型专利结构图；
图2：本实用新型专利喷嘴一结构图。
具体实施方式
下面结合说明书附图对本实用新型的具体实施方式做详细描述。显然所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获取的其它实施例，都属于本实用新型的保护范围。
一种超细碳化硅气流粉碎室，包括主体（1）；所述的主体（1）下部设置有气源一连接管（2）和气源二连接管（3）；所述的主体（1）左侧设置有喷嘴一（4）；主体（1）右侧设置有喷嘴二（5）；所述的喷嘴一（4）上部设置有进料口（6）；所述的喷嘴二（5）上部设置有出料口（7）；所述的气源一连接管（2）和气源二连接管（3）在气源总管（8）处汇合；所述的气源总管（8）上设置有压力表（9）；所述的喷嘴一（4）正前方设置有稳流管一（10），所述的稳流管一（10）前方设置有靶板一（11），所述的靶板一（11）固定在托板一（12）上；所述的托板一（12）设置在主体（1）上；所述的喷嘴二（5）正前方设置有稳流管二（13），所述的稳流管二（13）前方设置有靶板二（14），所述的靶板二（14）固定在托板二（15）上；所述的托板二（15）设置在主体（1）上。
所述的喷嘴一（4）与喷嘴二（5）结构相同；所述的喷嘴一（4）包括入口稳定段（16）、渐缩段（17）、喉部段（18）、扩张段（19）和出口稳定段（20）；所述的入口稳定段（16）与气源一连接管（2）连接，其直径要略小于气源一连接管（2）的直径；所述的入口稳定段（16）与渐缩段（17）连接，所述的渐缩段（17）的直径逐渐缩小；所述的渐缩段（17）与喉部段（18）连接，所述的喉部段（18）的直径与渐缩段（17）出口处直径相同；所述的喉部段（18）与扩张段（19）连接；所述的扩张段（19）直径逐渐扩大；所述的扩张段（19）与出口稳定段（20）连接。
所述的喷嘴一（4）与稳流管一（10）之间的间隔距离为4-9mm；所述的稳流管一（10）与靶板一（11）的距离为3-8mm；所述的靶板一（11）的直径为16mm、厚5mm的圆柱形硬质合金，所述的托板一为圆柱形；所述的托板一（12）上开有12个直径为2.6mm的小孔。
从喷嘴一（4）喷出的高速气流携带待粉碎颗粒，经稳流管后撞击在靶板上后经小孔流出；稳流管一（10）与靶板一（11）之间距离设置为使粉体撞击后更好的进行粉碎；喷嘴一（4）与稳流管一（10）之间的距离设置为使粉碎室内产生负压，让粉体更多进入稳流管内部，随高速气流吹出撞击靶板一。
本实用新型专利通过对喷嘴的改进，使得喷嘴喷出的气流速度更快，经稳流管后的气流更加稳定，分布均匀，使得粉碎效果更加。
以上，仅为本实用新型的较佳实施例，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围的内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求所界定的保护范围为准。