技术总结
本实用新型专利主要公开了一种超细碳化硅气流粉碎室，它包括主体；所述的主体下部设置有气源一连接管和气源二连接管；所述的主体左侧设置有喷嘴一；主体右侧设置有喷嘴二；所述的喷嘴一正前方设置有稳流管一，所述的稳流管一前方设置有靶板一，所述的靶板一固定在托板一上；所述的托板一设置在主体上；所述的喷嘴二正前方设置有稳流管二，所述的稳流管二前方设置有靶板二，所述的靶板二固定在托板二上；所述的喷嘴一包括入口稳定段、渐缩段、喉部段、扩张段和出口稳定段；本实用新型专利通过对喷嘴的改进，使得喷嘴喷出的气流速度更快，经稳流管后的气流更加稳定，分布均匀，使得粉碎效果更加。
技术研发人员：辛桂英;辛国栋
受保护的技术使用者：潍坊凯华碳化硅微粉有限公司
技术研发日：2018.02.09
技术公布日：2018.11.09