一种立轴行星搅拌机的高压清洗装置的制作方法

本发明涉及立轴行星搅拌机清洗技术领域，具体涉及一种立轴行星搅拌机的高压清洗装置。

背景技术：

立轴行星搅拌机是常用的搅拌设备，工作后较长时间停机时，需对搅拌筒内壁及搅拌装置进行清理清洗。因为如不及时清理清洗，残留混凝土砂浆就会粘到筒壁及搅拌装置上，时间一长很难往下清理。

现在国内多是靠人工喷水清洗，人工进入筒体内进行清理。人工喷水清洗一般洗不干净，人工进入搅拌机清理，拌筒内工作环境恶劣，清理非常费力，危险性也较大，浪费很大人工。

目前，现有技术中也有利用一种高压清洗喷头组件进行清理，清洗喷头的出水管没有连接驱动装置，无法自行进行转动，清洗过程中，需要人工手持出水管对筒内侧壁进行清洗，清洗效率低，筒内侧壁的边角位置往往清洗不到。

技术实现要素：

为了克服上述现有技术中存在的，本发明提供一种立轴行星搅拌机的高压清洗装置，能够达到清洗无死角，清理彻底干净经济实用的有益效果。

为达此目的，本发明提供一种立轴行星搅拌机的高压清洗装置，包括回转驱动装置、进水管、回转密封组件、回转装置、回转竖管、支架、下端固定装置和回转横管；回转驱动装置与回转装置相连，回转装置与回转竖管相连，回转竖管的上端设有进水管，进水管的底端插入到回转竖管上部的接头中，回转竖管相对进水管转动；进水管与支架的上端固定连接，支架的下端与搅拌机上盖相连；回转竖管穿过搅拌机上盖，回转竖管的下端插入到搅拌筒内；回转横管设置在回转竖管的底部，并与回转竖管相垂直；回转横管上设有高压清洗喷头组件，回转驱动装置驱动回转竖管和回转横管在搅拌筒内转动。

进一步的，所述高压清洗喷头组件包括水平喷头、竖直喷头和倾斜喷头，水平喷头的喷水方向与回转横管的长度延伸方向平行，竖直喷头的喷水方向与回转横管的长度延伸方向垂直，倾斜喷头的喷水方向与回转横管的长度延伸方向成夹角设置。

进一步的，所述回转横管包括第一回转横管和第二回转横管，第一回转横管和第二回转横管分别设置在回转竖管的两侧。

进一步的，所述回转驱动装置采用电机，回转装置采用减速机，回转竖管高出搅拌机上盖的一端伸入到减速机的输出孔内，回转竖管通过平键与减速机相连。

进一步的，所述进水管的外侧壁上固定的设有固定法兰，固定法兰上设有第一安装孔，支架的上端设有与第一安装孔相适应的第一定位孔，还包括第一锁紧螺栓，第一锁紧螺栓插入到第一安装孔及第一定位孔中，将进水管与支架的上端固定连接。

进一步的，所述回转装置的底部设有地脚，地脚设有第二安装孔，搅拌机上盖上设有与第二安装孔相适应的第二定位孔，还包括第二锁紧螺栓，第二锁紧螺栓插入到第二安装孔及第二定位孔中将回转装置固定在搅拌机上盖上。

进一步的，所述回转密封组件设置在回转竖管和进水管之间，回转密封组件包括内密封圈、外密封圈和盘根，内密封圈设置在回转竖管接头的下端与进水管之间，外密封圈设置在回转竖管接头的上端与进水管之间，盘根设置在内密封圈和外密封圈之间。

进一步的，所述回转竖管的下部设有下端固定装置，下端固定装置包括连接法兰和压紧法兰；连接法兰通过锁紧螺栓与搅拌机上盖固定连接，压紧法兰通过第三锁紧螺栓与连接法兰固定连接，回转竖管分别穿过连接法兰和压紧法兰中间的通孔。

进一步的，所述回转竖管与压紧法兰之间设密封圈。

本发明的有益效果在于：

本发明提供的立轴行星搅拌机的高压清洗装置，包括回转装置、回转竖管和回转横管，回转竖管设置在立式搅拌机上盖中心，回转竖管由回转装置驱动在搅拌筒内进行旋转，回转横管固定设置在回转竖管的底部，回转横管上设有高压清洗喷头组件，所述高压清洗喷头组件包括水平喷头、竖直喷头和倾斜喷头，高压清洗喷头组件喷出的高压水流的覆盖搅拌筒侧壁及底板各面，回转多圈后把拌筒清理干净，该立轴行星搅拌机的高压清洗装置能够达到清洗无死角，无需人工进筒进行清理，具有清理彻底干净经济实用的有益效果。

此外，本发明设计原理可靠，结构简单，具有非常广泛的应用前景。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明立轴行星式搅拌机高压清洗装置的剖视结构示意图

图2是图1中z的放大结构示意图。

图3是图1中y的放大结构示意图。

图中，1、回转驱动装置，2、进水管，3、回转密封组件，4、回转装置，5、回转竖管，6、支架，7、下端固定装置8、回转横管，9、高压清洗喷头组件，10、外密封圈，11、盘根，12、内密封圈，13、密封圈，14、连接法兰，15、压紧法兰。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本发明中的技术方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。

下面对本发明中出现的关键术语进行解释。

本发明提供的立轴行星搅拌机的高压清洗装置包括回转驱动装置1、回转装置4、回转竖管5、支架6和回转横管8。

图1是本发明立轴行星式搅拌机高压清洗装置的剖视结构示意图，如图1所示，回转驱动装置1与回转装置4相连。本实施例中，所述回转驱动装置1采用电机，回转装置4采用减速机，电机与减速机相连组成总的驱动装置。

回转装置4与回转竖管5相连，回转竖管5高出搅拌机上盖的一端伸入到减速机的输出孔内，回转竖管5通过平键与减速机相连。

回转竖管5的上端设有进水管2，进水管2的底端插入到回转竖管5接头中，进水管2与回转竖管5连通，清洗水从进水管2的上端口流入后，经过进水管2进入到回转竖管5中，回转竖管5相对进水管2转动。

进水管2与支架6的上端固定连接，支架6的下端通过螺栓与搅拌机上盖相连，支架6用于将进水管2固定在搅拌机上。

搅拌机上盖的中心设有通孔，回转竖管5穿过搅拌机上盖上的通孔，回转竖管5的下端插入到搅拌筒内，回转横管8设置在回转竖管5的底部，回转横管8与回转竖管5之间通过转换接头进行连接。

本实施例中，所述回转横管8包括第一回转横管和第二回转横管，第一回转横管和第二回转横管分别设置在回转竖管5的两侧。

回转竖管5和回转横管8相垂直，回转横管8上设有高压清洗喷头组件9。所述高压清洗喷头组件9包括水平喷头、竖直喷头和倾斜喷头，水平喷头的喷水方向与回转横管8的长度延伸方向平行，竖直喷头的喷水方向与回转横管8的长度延伸方向垂直，倾斜喷头的喷水方向与回转横管8的长度延伸方向成夹角设置。

为了提高清洁效率，本实施例中，所述倾斜喷头与回转横管8的长度延伸方向的夹角为45度。

实际工作过程中，回转驱动装置1驱动回转竖管5和回转横管8在搅拌筒内转动，由于回转竖管5相对进水管2转动，为了防止水的泄露，回转竖管5和进水管2之间设有回转密封组件3。

图2是图1中z的放大结构示意图。如图2所示，回转密封组件包括内密封圈12、外密封圈10和盘根11，内密封圈12设置在回转竖管5接头的下端与进水管2之间，外密封圈10设置在回转竖管5接头的上端与进水管2之间，盘根11设置在内密封圈12和外密封圈10之间。

为了进一步将进水管2进行固定，上述进水管2的外侧壁上固定的设有连接法兰14，本实施例中，连接法兰14焊接在进水管2的外侧壁上。连接法兰14上设有第一安装孔，支架6的上端设有与第一安装孔相适应的第一定位孔，还包括第一锁紧螺栓，第一锁紧螺栓插入到第一安装孔及第一定位孔中，将进水管2与支架6的上端固定连接。

为了便于将回转装置4进行固定，所述回转装置4的底部设有地脚，地脚设有第二安装孔，搅拌机上盖上设有与第二安装孔相适应的第二定位孔，还包括第二锁紧螺栓，第二锁紧螺栓插入到第二安装孔及第二定位孔中将回转装置4固定在搅拌机上盖上。

实际工作过程中，由于回转竖管5的长度较长，回转竖管5在转动过程中会产生径向晃动，为了减小回转竖管5的径向晃动，所述回转竖管5的下部设有下端固定装置7。

图3是图1中y的放大结构示意图，如图3所示，下端固定装置7包括连接法兰14和压紧法兰15，连接法兰14通过螺栓与搅拌机上盖固定连接，压紧法兰15通过第三锁紧螺栓与连接法兰14固定连接，回转竖管5穿过两个法兰的孔。所述回转竖管5与压紧法兰15之间设密封圈13，密封圈13能够用于限制回转竖管5的径向晃动。

本发明的具体实施方式为：

首先启动回转驱动装置1和回转装置4，回转装置4布置在立式搅拌机上盖中心处，回转驱动装置1和回转装置4驱动回转竖管5转动，回转竖管5的上端设有进水管2，进水管2的上端设有进水口，清洗用水从进水口进入到进水管2中，进水管2与回转竖管5连通，清洁水通过进水管2进入到回转竖管5中，由于回转横管8与回转竖管5相连，清洁水通过回转竖管5进入到回转横管8中，回转横管8上设有高压清洗喷头组件9，所述高压清洗喷头组件9包括水平喷头、竖直喷头和倾斜喷头，回转横管8的端部装3-4喷头，一个喷头水平布置，一个喷头水平45°布置，另一个喷头竖直布置。回转驱动装置1和回转装置4驱动回转竖管5和回转横管8在搅拌筒内转动，高压喷头喷出的高压水流覆盖搅拌筒侧壁及底板各面，回转多圈后把搅拌筒清理干净，该立轴行星搅拌机的高压清洗装置能够达到清洗无死角，无需人工进筒进行清理，具有清理彻底干净，经济实用的有益效果。

尽管通过参考附图并结合优选实施例的方式对本发明进行了详细描述，但本发明并不限于此。在不脱离本发明的精神和实质的前提下，本领域普通技术人员可以对本发明的实施例进行各种等效的修改或替换，而这些修改或替换都应在本发明的涵盖范围内/任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。