1.一种处理废气用uv光触设备，包括设置有进气端（110）和排气端（120）的净化箱体（100），所述净化箱体（100）的进气端（110）通过进气管道（210）与喷淋塔（200）连接,所述净化箱体（100）的排气端（120）与排气塔（300）通过排气管道（310）连接，所述净化箱体（100）靠近进气端（110）的一侧设置有紫外线发射器（130），所述净化箱体（100）靠近排气端（120）的一侧设置有催化剂，其特征在于，所述进气端（110）与紫外线发射器（130）之间设置有水汽捕捉组件（400）；
所述水汽捕捉组件（400）包括与所述净化箱体（100）内径相适配的安装框架（410），所述安装框架（410）内均匀设置有呈波纹状设置捕捉板（420），且所述净化箱体（100）底部靠近进气端（110）的一端设置有漏液孔（140），所述漏液孔（140）通过收集管道（142）外接有收集箱（141），所述收集箱（141）通过循环管道（143）与所述进气管道（210）连接。
2.根据权利要求1所述的一种处理废气用uv光触设备，其特征在于，所述净化箱体（100）内的底壁倾斜设置，且位于进气端（110）的一端低于位于排气端（120）的一端，位于净化箱体（100）前侧的一侧低于位于净化箱体（100）后侧的一侧，所述漏液孔（140）靠近净化箱体（100）前侧设置。
3.根据权利要求2所述的一种处理废气用uv光触设备，其特征在于，所述水汽捕捉组件（400）至少设置有两个，且相邻两水汽捕捉组件（400）上的捕捉板（420）交错设置。
4.根据权利要求2所述的一种处理废气用uv光触设备，其特征在于，所述净化箱体（100）顶部内壁上沿其长度方向均匀设置有上阻挡板（150），所述净化箱体（100）底部内壁上设置有下阻挡板（160），所述上阻挡板（150）和下阻挡板（160）设置在紫外线发射器（130）和催化剂之间并交错设置，且上阻挡板（150）远离箱体内壁的一端的投影位于下阻挡板（160）上。
5.根据权利要求4所述的一种处理废气用uv光触设备，其特征在于，所述上阻挡板（150）和下阻挡板（160）皆倾斜设置，且远离箱体内壁的一端皆靠近排气端（120）设置。
6.根据权利要求5所述的一种处理废气用uv光触设备，其特征在于，所述净化箱体（100）靠近排气端（120）的一侧设置有均流组件（600），所述均流组件（600）包括与所述净化箱体（100）内径相适配的均流框架（610），所述均流框架（610）内均匀设置有呈波纹状设置均流板（620），所述下阻挡板（160）与净化箱体（100）底壁的连接处设置有排液孔（170），所述排液孔（170）与所述漏液孔（140）平行设置，且所述排液孔（170）处设置有支管（171）与所述收集管道（142）连接。
7.根据权利要求6所述的一种处理废气用uv光触设备，其特征在于，所述上阻挡板（150）和下阻挡板（160）皆呈弧形设置，且上阻挡板（150）朝向进气端（110）呈凹陷设置，下阻挡板（160）朝向。
8.根据权利要求6所述的一种处理废气用uv光触设备，其特征在于，所述均流组件（600）至少设置有两个，且相邻两均流组件（600）上的均流板（620）交错设置。
9.根据权利要求8所述的一种处理废气用uv光触设备，其特征在于，靠近排气端（120）设置的均流组件（600）的均流板（620）上涂覆有催化剂。