一种钙剂干法烟气脱硫装置的制作方法

[0001]
本实用新型涉及烟气脱硫装置技术领域，具体为一种钙剂干法烟气脱硫装置。


背景技术：

[0002]
为彻底治理大气污染，国家环保要求焦化厂等化工行业排放烟气中的 so2、no
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进行治理达标。当前焦化厂普遍使用的治理办法是：湿法脱硫(氨法、减法、双减法等)、干法脱硫(纳剂干法、钙剂干法等)及scr脱硝。
[0003]
虽然湿法脱硫(氨法、减法、双减法等)、干法脱硫(纳剂干法、钙剂干法等)、scr脱硝，是当前国家环保部门认可的烟气脱硫脱硝治理办法，但以上办法在实际生产中存在两大不足，一是设备投资、运行成本高，二是所产生固废和工业废水量大且不容易处理。


技术实现要素：

[0004]
本实用新型的目的在于提供一种钙剂干法烟气脱硫装置，以解决现有技术不足。
[0005]
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：包括包括总烟道，总烟道的一侧设有吸附塔，吸附塔内的吸附层为钙剂吸附层，吸附塔前表面的下方固定安装进烟管，吸附塔前表面的上方固定安装出烟管，进烟管和出烟管均与吸附塔内部相通，进烟管与总烟道的下方通过第一连接管连通，吸附塔的一侧设有斗式提升机，斗式提升机的上端与吸附塔的上端连通，斗式提升机的下方设有上开口的箱体，斗式提升机的下端位于箱体内并与箱体内部相通，斗式提升机的一侧设有烟囱，烟囱与出烟管通过第二连接管连通，第一连接管的一端固定安装烟气风机。
[0006]
如上所述的一种钙剂干法烟气脱硫装置，所述的吸附塔的下方设置排液口，吸附塔上设置水蒸气清扫口和净烟气排放口。
[0007]
如上所述的一种钙剂干法烟气脱硫装置，所述的钙剂吸附层活动设置在吸附塔内。
[0008]
如上所述的一种钙剂干法烟气脱硫装置，所述的第一连接管和第二连接管上均设置阀门。
[0009]
本实用新型的优点在于：本实用新型结构设计合理，使用方便能够使用本装置脱除so2，在设备投资少、运行成本低、尾废再利用等方面优势更为明显，这样，就为焦化厂等化工行业进行烟气脱硫治理提供了另一种有效治理途径，烟气以错流形式穿过装置内的钙剂吸附剂层，烟气中的so2被钙剂吸附剂吸附转化为硫酸钙，随着装置进程，钙剂吸附剂吸附饱和部分从吸附装置中逐步卸出。
附图说明
[0010]
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获
得其他的附图。
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图1为本实用新型的整体结构示意图。
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附图标记：1-总烟道、2-吸附塔、3-第一连接管、4-斗式提升机、5-进烟管、6-出烟管、7-箱体、8-烟囱、9-第二连接管、10-烟气风机。
具体实施方式
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如图1所示，本实施例具体公开的一种钙剂干法烟气脱硫装置，包括包烟道1，总烟道1的一侧设有吸附塔2，吸附塔2内的吸附层为钙剂吸附层，吸附塔2前表面的下方固定安装进烟管5，吸附塔2前表面的上方固定安装出烟管6，进烟管5和出烟管6均与吸附塔2内部相通，进烟管5与总烟道1的下方通过第一连接管3连通，吸附塔2的一侧设有斗式提升机4，斗式提升机4的上端与吸附塔2的上端连通，斗式提升机4的下方设有上开口的箱体7，斗式提升机4的下端位于箱体7内并与箱体7内部相通，斗式提升机4的一侧设有烟囱8，烟囱8与出烟管6通过第二连接管9连通，第一连接管3的一端固定安装烟气风机10。本实用新型结构设计合理，使用方便能够使用本装置脱除so2，在设备投资少、运行成本低、尾废再利用等方面优势更为明显，这样，就为焦化厂等化工行业进行烟气脱硫治理提供了另一种有效治理途径，烟气以错流形式穿过装置内的钙剂吸附剂层，烟气中的so2被钙剂吸附剂吸附转化为硫酸钙，随着装置进程，钙剂吸附剂吸附饱和部分从吸附装置中逐步卸出。从总烟道1来的热烟气由风机10输入到错流式吸附塔2内中，并均匀穿过钙剂吸附剂层，烟气中的so2在钙剂吸附剂层中被吸收，烟气实现达标排放，随着吸附装置生产进程，吸附饱和后的吸附剂间歇性卸出，同时，钙剂吸附剂由进料口间歇性补入。
[0014]
具体而言，本实施例所述的吸附塔2的下方设置排液口，吸附塔2上设置水蒸气清扫口和净烟气排放口。当使用本装置时，通过排液口能够将吸附塔2内的液体排出，通过水蒸气清扫口能够便于对吸附塔2进行清洁，通过净烟气排放口能够便于排出吸附塔2内的气体。
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具体的，本实施例所述的钙剂吸附层活动设置在吸附塔2内。当使用本装置时，通过活性炭吸附层活动设置在吸附塔2内，能够便于对钙剂吸附层进行更换。
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进一步的，本实施例所述的第一连接管3和第二连接管9上均设置阀门。当使用本装置时，通过阀门能够便于烟气进入吸附塔2内和在吸附塔2内排出。
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以上结合附图对本实用新型的具体实施方式作了说明，但这些说明不能被理解为限制了本实用新型的范围，本实用新型未详尽描述的技术内容均为公知技术。