光阻储液罐和光阻涂布机的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及光阻涂布技术领域，尤其涉及一种光阻储液罐及一种具有所述光阻储液罐的光阻涂布机。
【背景技术】
[0002]根据实际生产情况，光阻涂布机需要在基板上涂布不同的光阻。在涂布过程中，光阻涂布机中的光阻储液罐随着喷嘴移动，光阻储液罐内的光阻液面将发生激荡，从而导致部分光阻沉积、残留在光阻储液罐的内壁上。现有技术中的光阻储液罐，在光阻涂布机完成上一批次的光阻涂布后，需要经过多次清洗剂清洗和基板传片测试过程来清除光阻储液罐内壁上残留的光阻。之后，光阻涂布机才可以进行下一批次的光阻涂布。
【发明内容】
[0003]有鉴于此，本发明提供了一种光阻储液罐及一种具有所述光阻储液罐的光阻涂布机，仅通过清洗剂清洗过程就能够清除光阻储液罐内壁上残留的光阻。
[0004]—种光阻储液罐，包括:储液罐主体、储液管、侦测管、第一液位计和第二液位计，所述储液罐主体具有顶盖和底部;所述储液管设置在所述顶盖上并贯穿所述顶盖，所述储液管包括相对设置的第一端和第二端，所述第一端与所述储液罐主体贯通;所述侦测管的一端与所述底部相连且与所述储液罐主体贯通，所述侦测管的另一端与所述储液管贯通；所述第一液位计设置在所述侦测管上靠近所述底部的一端;所述第二液位计设置在所述侦测管上位于所述底部与所述顶盖之间的位置。
[0005]其中，所述光阻储液罐还包括第三液位计，所述第三液位计设置在所述侦测管上位于所述顶盖与所述第二端之间的位置。
[0006]其中，所述光阻储液罐还包括空气导管和阀门，所述空气导管的一端与所述储液管的所述第二端连通，所述阀门设置在所述空气导管上。
[0007]其中，所述光阻储液罐还包括导液管，所述导液管设置在所述储液罐主体的所述底部，并与所述储液罐主体连通。
[0008]—种光阻涂布机，包括光阻储液罐，所述光阻储液罐包括:储液罐主体、储液管、侦测管、第一液位计和第二液位计，所述储液罐主体具有顶盖和底部;所述储液管设置在所述顶盖上并贯穿所述顶盖，所述储液管包括相对设置的第一端和第二端，所述第一端与所述储液罐主体贯通;所述侦测管的一端与所述底部相连且与所述储液罐主体贯通，所述侦测管的另一端与所述储液管贯通;所述第一液位计设置在所述侦测管上靠近所述底部的一端;所述第二液位计设置在所述侦测管上位于所述底部与所述顶盖之间的位置。
[0009]其中，所述光阻储液罐还包括第三液位计，所述第三液位计设置在所述侦测管上位于所述顶盖与所述第二端之间的位置。
[0010]其中，所述光阻储液罐还包括空气导管和阀门，所述空气导管的一端与所述储液管的所述第二端相连，所述阀门设置在所述空气导管上。
[0011]其中，所述光阻储液罐还包括导液管，所述导液管设置在所述储液罐主体的所述底部，并与所述储液罐主体连通;所述光阻涂布机还包括喷嘴，所述喷嘴与所述导液管上远离所述底部的一端相连。
[0012]因此，本发明的光阻储液罐及光阻涂布机，通过设置储液管、侦测管，以及安装在所述侦测管上的液位计，在清洁所述光阻储液罐的过程中，所述光阻储液罐主体及所述储液管均中盛装有清洗液，清洗液能够完全覆盖光阻储液罐内壁上光阻溅射的区域。由此仅需清洗液清洗过程就可以完全清除光阻储液罐内壁上残留的光阻而省去了基板传片测试工序，从而简化了工艺，提升了生产效率;减少了光阻消耗，降低了生产成本;同时也提升了涂布质量。
【附图说明】
[0013]为更清楚地阐述本发明的构造特征和功效，下面结合附图与具体实施例来对其进行详细说明。
[0014]图1是现有的一种光阻储液罐的结构示意图。
[0015]图2是本发明实施例的光阻储液罐的结构示意图。
具体实施例
[0016]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都应属于本发明保护的范围。
[0017]图1示出了现有技术中的一种光阻储液罐10，光阻储液罐10安装在机台(图未示)上。如图1所示，光阻储液罐10包括储液罐主体11和侦测管13。储液罐主体11是一个圆柱状的罐体，用来盛装光阻。储液罐主体11的底部设置有导液管(图未示)，所述导液管与储液罐主体11连通。储液罐主体11的顶盖上还连接有空气导管(图未示)，以及设置在所述空气导管上的电磁阀(图未示)。所述空气导管中充有空气，所述空气导管中的空气挤压储液罐主体11中的光阻，使得光阻从所述导液管中流出。所述电磁阀控制所述空气导管中的空气量。侦测管13的两端分别连接在储液罐主体11的顶盖附近和底部附近，且侦测管13与储液罐主体11连通。侦测管13的两端分别设置有第一液位计12和第二液位计14，液位计用来监测侦测管13中光阻的液位，第一液位计12的位置和第二液位计14的位置分别对应侦测管13中光阻的下极限液位和上极限液位。当侦测管13中的光阻达到所述下极限液位，第一液位计12向所述机台发送报警信号，所述机台则向储液罐主体11中添加光阻，侦测管13中光阻的液位也同步上升；当侦测管13中光阻的液位达到所述上极限液位时，第二液位计14向所述机台发送报警信号，所述机台则停止向储液罐主体11中添加光阻。
[0018]在涂布光阻时，光阻储液罐10发生移动，储液罐主体11内的光阻液面将产生激荡，使光阻溅射在储液罐主体11的内壁上。为避免光阻溅射入所述空气导管、进一步进入所述电磁阀中而损坏设备，储液罐主体11内的光阻液位不能高于第二液位计14的位置。为保证下一批次基板的涂布质量，在完成上一批次的光阻涂布后，储液罐主体11需要先使用清洗液进行清洗。在清洗时，光储液Si主体11几乎保持平稳状态;但是清洗液的粘度小，还是存在溅入所述空气导管和所述电磁阀的极大风险。因此储液罐主体11中清洗液的液位也不能超过第二液位计14的位置。由此清洗液将不能清除掉储液罐主体11内壁上高于第二液位计14的区域中的残留光阻，所以还需要使用基板传片测试工序来对上述区域中的残留光阻进行进一步的清除。基板传片测试工序的具体操作如下:在光阻储液罐10中盛装下一批次待正常涂布的光阻，然后在测试基板上按照正常涂布的方式进行光阻涂布。在基板传片测试的涂布过程中，上一批次的光阻残留将逐渐被本批次中激荡的光阻溶解而涂布到所述测试基板上，由此