浮选池和浮选线的制作方法

文档序号:21416868发布日期:2020-07-10 15:41阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种浮选池,用于处理悬浮于浆料中的颗粒以及用于将所述浆料分离成底流(400)和溢流(500),所述浮选池包括:

浮选槽(10),其包括中心(11)、周边(12)、大致水平的平坦的底部(13)、以及侧壁(14);

围绕所述浮选槽(10)的周边(12)的流槽(2)以及流槽缘(21);以及

底部结构(7),其布置于所述底部(13)上,并且具有这样的形状:该形状容许悬浮于浆料中的颗粒在所述底部结构之上的混合区域(a)中混合,以及在围绕所述底部结构的沉降区域(b)中沉降,

其特征在于,所述浮选槽进一步包括用于将浆料进料(100)引入至所述浮选槽中的喷射管(4),喷射管包括:

用于将浆料进料(100)进给至所述喷射管中的入口喷嘴(41);

用于加压气体的入口(42),所述浆料进料在它被从所述入口喷嘴排出时经受所述加压气体;

长形腔室(40),其被布置成在压力下接收所述浆料进料;

出口喷嘴(43),其被构造成限制浆料进料从所述出口喷嘴的流动,以及维持所述长形腔室中的浆料进料处于压力下;并且所述喷射管相对于所述底部结构设置于一定位置处,以便在所述混合区域处引起混合。

2.根据权利要求1所述的浮选池,其特征在于,所述出口喷嘴(43)被构造成在所述浆料进料(100)中产生超音速冲击波,所述超音速冲击波引起浮选气泡-颗粒集聚物的形成。

3.根据权利要求1或2所述的浮选池,其特征在于,所述浮选槽(10)的、作为从所述浮选槽的底部(13)至所述流槽缘(21)的距离测量的高度(h)在所述浮选槽的周边(12)处比在所述浮选槽的中心(11)处低至多20%。

4.根据权利要求1所述的浮选池,其特征在于,所述底部结构(7)的竖直剖面为功能三角形(700),所述功能三角形(700)包括背离所述浮选槽(10)的底部(13)的第一顶点(71),第二顶点(71a)以及第三顶点(71b);在所述第一顶点与所述第二顶点之间的第一侧边(a);在所述第一顶点与所述第三顶点之间的第二侧边(b);以及在所述浮选槽的底部(13)上的在所述第二顶点与所述第三顶点之间的底边(c);以及与所述浮选槽的中心(11)同中心的中心轴线(70)。

5.根据权利要求4所述的浮选池,其特征在于,相对于所述浮选槽(10)的底部(13),所述第一侧边(a)与所述底边(c)之间、或者所述第二侧边(b)与所述底边之间的底角(α)为20°至60°。

6.根据权利要求4或5所述的浮选池,其特征在于,所述第一侧边(a)与所述第二侧边(b)之间的夹角(β)为20°至100°。

7.根据权利要求4所述的浮选池,其特征在于,所述底部结构包括底座(73)以及罩(72),所述底座(73)在所述浮选槽(10)的底部上并且由所述功能三角形(700)的底边(c)限定,所述罩(72)至少由所述功能三角形的第一顶点(71)、第二顶点(71a)以及第三顶点(71b)限定。

8.根据权利要求7所述的浮选池,其特征在于,所述罩(72)至少部分地由所述功能三角形(700)的第一侧边(a)和第二侧边(b)限定。

9.根据权利要求1所述的浮选池,其特征在于,所述底部结构(7)的高度(h4)大于所述浮选槽(10)的高度(h)的1/5并小于所述浮选槽(10)的高度(h)的3/4,所述高度(h)被作为从所述底部(13)至所述流槽缘(21)的距离测量。

10.根据权利要求1所述的浮选池,其特征在于,所述浮选槽(10)进一步包括布置于距所述浮选槽的底部(13)的距离(h5)处的中心泡沫挤塞件(61)。

11.根据权利要求10所述的浮选池,其特征在于,所述底部结构(7)的高度(h4)为所述距离(h5)的1/3至3/4。

12.根据权利要求1所述的浮选池,其特征在于,所述浮选槽(10)进一步包括内部周边泡沫挤塞件(62),所述内部周边泡沫挤塞件的最低点(620)布置于距所述浮选槽的底部(13)的距离(h2)处。

13.根据权利要求12所述的浮选池,其特征在于,所述底部结构(7)的高度(h4)与所述距离(h2)的比为1.0或更低。

14.根据权利要求1所述的浮选池,其特征在于,所述底部结构(7)的底座(73)的直径(d3)为所述浮选槽(10)的底部(13)的直径(d1)的1/4至3/4。

15.根据权利要求1所述的浮选池,其特征在于,所述底部结构(7)的底座(73)的表面面积为所述浮选槽(10)的底部(13)的表面面积的25%至80%。

16.根据权利要求1所述的浮选池,其特征在于,所述浮选槽(10)的、作为从所述底部(13)至所述流槽缘(21)的距离测量的高度(h)与所述浮选槽的、在所述出口喷嘴(43)的距所述底部(13)的高度(h1)处测量的直径(d)的比(h/d)为0.5至1.5。

17.根据权利要求1所述的浮选池,其特征在于,所述浮选槽(10)的容积为至少20m3

18.根据权利要求1所述的浮选池,其特征在于,所述浮选池包括2-40个喷射管(4)。

19.根据权利要求1所述的浮选池,其特征在于,所述喷射管(4)在距所述浮选槽的中心(11)一定距离处与所述浮选槽(10)的周边(12)同中心地布置。

20.根据权利要求1所述的浮选池,其特征在于,所述喷射管(4)在距所述侧壁一定距离处平行于所述浮选槽(10)的侧壁(14)布置。

21.根据权利要求1所述的浮选池,其特征在于,喷射管进一步包括撞击器(44),其被构造成接触来自所述出口喷嘴(43)的浆料进料流以及从所述撞击器径向向外和向上引导浆料进料(100)流。

22.根据权利要求1所述的浮选池,其特征在于,所述浮选槽(10)的被所述底部结构(7)占用的容积为所述浮选槽的被所述混合区域(a)占用的容积的30%至70%。

23.根据权利要求1所述的浮选池,其特征在于,所述浮选池进一步包括调节回路(3)。

24.根据权利要求23所述的浮选池,其特征在于,所述调节回路包括与所述浮选槽(10)流体连通的泵槽(30),在所述泵槽中,新的浆料(200)进料以及经由出口(31)从所述浮选槽(10)取得的浆料部分(300)被布置成组合到浆料进料(100)中。

25.根据权利要求24所述的浮选池,其特征在于,所述出口(31)在距所述浮选槽(10)的底部(13)的出口距离(l4)处布置于所述浮选槽(10)的侧壁(14)处。

26.根据权利要求25所述的浮选池,其特征在于,所述出口距离(l4)为所述浮选槽(10)的、作为从所述底部(13)至所述流槽缘(21)的距离测量的高度(h)的0%至50%。

27.根据权利要求24至26中的任一项所述的浮选池,其特征在于,所述调节回路(3)进一步包括泵(32),所述泵(32)被布置成从所述浮选槽(10)吸入所述浆料部分(300)以及从所述泵槽(30)向前运送浆料进料(100)。

28.根据权利要求23至26中的任一项所述的浮选池,其特征在于,所述调节回路(3)进一步包括被布置成分配浆料进料(100)的分配单元。

29.根据权利要求1所述的浮选池,其特征在于,所述浮选槽(10)进一步包括用于移出底流(400)的尾矿出口(140)。

30.根据权利要求29所述的浮选池,其特征在于,所述尾矿出口(140)在距所述浮选槽的底部(13)的尾矿出口距离(l6)处布置于所述浮选槽(10)的侧壁(14)处。

31.根据权利要求30所述的浮选池,其特征在于,所述尾矿出口距离(l6)为所述浮选槽(10)的、作为从所述底部(13)至所述流槽缘(21)的距离测量的高度(h)的1%至15%。

32.根据权利要求6所述的浮选池,其特征在于,所述夹角(β)为20°至80°。

33.根据权利要求17所述的浮选池,其特征在于,所述浮选槽(10)的容积为20m3至1000m3

34.根据权利要求18所述的浮选池,其特征在于,所述浮选池包括4-24个喷射管(4)。

35.一种包括有多个流体地连接的任何类型的浮选池的浮选线,其特征在于,所述浮选池中的至少一个为新的浮选池(1),其为根据权利要求1至34中的任一项所述的浮选池。

36.根据权利要求35所述的浮选线,其特征在于,所述新的浮选池(1)之前是任何类型的浮选池(1a)。

37.根据权利要求35或36所述的浮选线,其特征在于,所述新的浮选池(1)之前是机械浮选池(1b)。

38.根据权利要求36所述的浮选线,其特征在于,所述浮选线包括:

带有任何类型的浮选池的粗选部分(81);

带有任何类型的浮选池的扫选部分(82),其被布置成从所述粗选部分接收底流(400);以及

带有任何类型的浮选池的扫选清选部分(820),其被布置成从所述扫选部分接收溢流(500),其中所述扫选部分和/或所述扫选清选部分的最后一个浮选池为根据权利要求1-30中的任一项所述的新的浮选池(1)。

39.根据权利要求38所述的浮选线,其特征在于,所述新的浮选池(1)之前是机械浮选池(1b)。


技术总结
公开一种浮选池,用于处理悬浮于浆料中的颗粒以及用于将所述浆料分离成底流和溢流。所述浮选池包括:浮选槽,所述浮选槽具有中心、周边、大致水平的平坦的底部、以及侧壁;围绕所述槽的周边的流槽以及流槽缘;以及底部结构,其布置于所述底部上,并且具有这样的形状:该形状容许悬浮于浆料中的颗粒在所述底部结构之上的混合区域中混合,以及在围绕所述底部结构的沉降区域中沉降。所述浮选槽进一步包括用于将浆料进料引入至所述槽中的喷射管。另外,公开一种浮选线。通过使用根据本实用新型的浮选装置,可以有效地增加对如此少量的有价值矿物(例如铜)的回收,并且甚至可以经济有效地利用贫矿床。

技术研发人员:P·伯克;S·施密特;A·林内;J·托米嫩;V·瓦尔纳;A·佩尔托拉
受保护的技术使用者:奥图泰(芬兰)公司
技术研发日:2019.08.01
技术公布日:2020.07.10
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