一种电解槽阳极板的分散循环结构的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及化学设备【技术领域】，具体地说是一种电解槽阳极板的液体分散循环结构，包括阳极金属板，阳极金属板的截面呈U形，阳极金属板的后表面均布有凹槽，阳极金属板的左侧底部设有循环嘴，阳极金属板的前表面与后表面之间设有横梁，横梁上均布有分散孔。本实用新型同现有技术相比，设计了阳极金属板结构，在阳极金属板上增设了分散孔和循环嘴，使电解水溶液均匀地分散在阳极金属板表面，从而使电解水溶液能够均匀地进行氧化反应；而为未完全反应的电解水溶液可以通过循环嘴进行循环，不仅节省了生产成本，也做到物尽其用，符合环境保护的要求。
【专利说明】 一种电解槽阳极板的分散循环结构
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及化学设备【技术领域】，具体地说是一种电解槽阳极板的液体分散循环结构。
【背景技术】
[0002]电解槽由槽体、阳极和阴极组成。当直流电通过电解槽时，在阳极板与电解水溶液界面处发生氧化反应。目前，现有的电解槽阳极板的结构导致阳极部分的电解水溶液只能采用槽体外循环。槽体外循环存在电解水溶液反应不均匀的缺点，电解水溶液反应不均匀会导致部分电解水溶液未得到充分利用，在未完全反应的情况下就被排出电解槽，不仅增加了生产成本，也浪费了资源、不利于环保。
[0003]因此，需要设计一种能够使电解水溶液均匀反应的电解槽阳极板的液体分散循环结构。
【发明内容】
[0004]本实用新型的目的是克服现有技术的不足，提供了一种能够使电解水溶液均匀反应的电解槽阳极板的液体分散循环结构。
[0005]为了达到上述目的，本实用新型设计了一种电解槽阳极板的液体分散循环结构，包括阳极金属板，其特征在于:阳极金属板的截面呈U形，阳极金属板的后表面均布有凹槽，阳极金属板的左侧底部设有循环嘴，阳极金属板的前表面与后表面之间设有横梁，横梁上均布有分散孔。
[0006]所述的阳极金属板的后表面高于前表面。
[0007]所述的阳极金属板的前表面下侧均布有圆孔。
[0008]所述的阳极金属板的后表面下侧均布有圆孔。
[0009]本实用新型同现有技术相比，设计了阳极金属板结构，在阳极金属板上增设了分散孔和循环嘴，使电解水溶液均匀地分散在阳极金属板表面，从而使电解水溶液能够均匀地进行氧化反应；而为未完全反应的电解水溶液可以通过循环嘴进行循环，不仅节省了生产成本，也做到物尽其用，符合环境保护的要求。
【专利附图】
【附图说明】
[0010]图1为本实用新型的结构示意图。
[0011]图2为本实用新型的俯视图。
[0012]图3为本实用新型的图1的A-A剖视图。
[0013]参见图1、图2和图3,1为阳极金属板；2为凹槽；3为圆孔；4为循环嘴；5为分散孔；6为横梁。
【具体实施方式】[0014]现结合附图对本实用新型做进一步描述。
[0015]参见图1、图2和图3，本实用新型包括阳极金属板。阳极金属板I的截面呈U形，阳极金属板I的后表面均布有凹槽2，阳极金属板I的左侧底部设有循环嘴4，阳极金属板I的前表面与后表面之间设有横梁6，横梁6上均布有分散孔5。
[0016]本实用新型中，阳极金属板I的后表面高于前表面，阳极金属板I的前表面下侧均布有圆孔3，阳极金属板I的后表面下侧均布有圆孔3，圆孔3的作用是将食盐水均匀的导流进入电解槽内部。
[0017]本实用新型在工作时，电解水溶液从凹槽2进入阳极金属板I内，通过分散孔5均匀地分散到阳极金属板I的表面并进行氧化反应，完全反应的电解水溶液排出电解槽，未完全反应的电解水溶液通过循环嘴4返回到阳极金属板I内进行循环使用。
[0018]本实用新型设计了阳极金属板结构，在阳极金属板I上增设了分散孔5和循环嘴4,使电解水溶液均匀地分散在阳极金属板I表面,从而使电解水溶液能够均匀地进行氧化反应；而为未完全反应的电解水溶液可以通过循环嘴4进行循环，不仅节省了生产成本，也做到物尽其用，符合环境保护的要求。
【权利要求】
1.一种电解槽阳极板的液体分散循环结构，包括阳极金属板，其特征在于:阳极金属板(I)的截面呈U形，阳极金属板(I)的后表面均布有凹槽(2)，阳极金属板(I)的左侧底部设有循环嘴(4),阳极金属板(I)的前表面与后表面之间设有横梁(6),横梁(6)上均布有分散孔(5)。
2.根据权利要求1所述的一种电解槽阳极板的液体分散循环结构，其特征在于:所述的阳极金属板(I)的后表面高于前表面。
3.根据权利要求1所述的一种电解槽阳极板的液体分散循环结构，其特征在于:所述的阳极金属板(I)的前表面下侧均布有圆孔(3)。
4.根据权利要求1所述的一种电解槽阳极板的液体分散循环结构，其特征在于:所述的阳极金属板(I)的后表面下侧均布有圆孔(3)。
【文档编号】C25B11/03GK203498489SQ201320484863
【公开日】2014年3月26日 申请日期:2013年8月8日 优先权日:2013年8月8日
【发明者】鈴木稔, 児玉義之, 黄鄭侃 申请人:苛氯工程设备技术（上海）有限公司