技术特征：
技术总结
本发明涉及一种在至少一个基底上电解沉积铬或铬合金层的方法，该方法包括以下步骤：（a）提供pH在4.1至7.0的范围内的含水沉积浴，‑包含三价铬离子，‑基于沉积浴的总体积，包含0 mg/L至200 mg/L的六价铬，和‑不包含含硼化合物，（b）提供至少一个基底和至少一个阳极，（c）将所述至少一个基底浸入所述含水沉积浴中并施加直流电，使得所述铬或铬合金层沉积在所述至少一个基底上，其中所述至少一个基底形成具有总阴极电流密度的阴极，并且所述至少一个阳极具有总阳极电流密度，附带条件是‑总阳极电流密度为6 A/dm2或更高，‑总阴极电流密度为18 A/dm2或更高，‑所述至少一个基底和所述至少一个阳极存在于所述沉积浴中，使得所述三价铬离子与所述至少一个阳极接触。
技术研发人员：A.瓦尔特;O.耶夫图申科;F.保利希
受保护的技术使用者：安美特德国有限公司
技术研发日：2018.04.04
技术公布日：2019.11.12