一种镀篮用分散机构的制作方法

本实用新型涉及镀篮技术领域，尤其涉及一种镀篮用分散机构。

背景技术：

电镀(Electroplating)就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化(如锈蚀)，提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(硫酸铜等)及增进美观等作用。不少硬币的外层亦为电镀，传统片式器件如片式阻(R)、容(C)、感(L)基础元件在电镀时，传统电镀镀篮所使用的分散机构使用时片式器件流动不顺畅，从而导致电镀效果不好，为此我们提出一种镀篮用分散机构。

技术实现要素：

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种镀篮用分散机构。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

设计一种镀篮用分散机构，包括分散陀螺，所述分散陀螺的中部设有水流道，所述分散陀螺的上锥面等距离设有陀螺分散片，所述陀螺分散片的顶部设有陀螺支撑杆，所述陀螺支撑杆的上端连接有分散盖，所述分散盖通过支撑杆与镀篮盖连接，所述分散盖的纵向截面为T字形，所述分散盖的横向截面为圆形，所述分散盖的下端面中部留有导向槽，所述导向槽位于水流道顶端的上侧，所述导向槽为锥形槽，且锥形槽的下端横截面大于上端横截面，锥形槽的下端横截面直径大于水流道的上端横截面直径，所述水流道由圆柱孔道和圆台孔道组成，所述圆台孔道位于圆柱孔道的下侧，所述圆台孔道的下端横截面积大于上端横截面积。

一种镀篮用分散机构，包括分散陀螺，所述分散陀螺的中部设有水流道，所述分散陀螺的上锥面等距离设有陀螺支撑杆，所述陀螺支撑杆的上端与镀篮盖连接，所述分散锥的顶部为圆柱体，所述圆柱体的上端与镀篮盖螺接，所述分散锥的底部锥尖位于水流道顶端的上侧，所述水流道由圆柱孔道和圆台孔道组成，所述圆台孔道位于圆柱孔道的下侧，所述圆台孔道的下端横截面积大于上端横截面积。

优选的，所述陀螺分散片为梯形，且陀螺分散片的上侧支撑分散盖的下端。

优选的，所述分散陀螺的上锥面坡度大于分散陀螺下锥面坡度。

优选的，所述陀螺分散片的数量为3个。

优选的，所述陀螺支撑杆的数量均为3个。

本实用新型提出的一种镀篮用分散机构，有益效果在于：本实用新型提出的陀螺分散机构的水流道采用上大下小结构，使片式器件在流动的时候，速度更加均匀，采用导向槽和分散锥的结构，使片式器件在水流道喷射后起到分流导向作用，使片式器件规则的回到镀篮底部，实现循环电镀，提高电镀质量。

附图说明

图1为本实用新型提出的第一种镀篮用分散机构的主视结构示意图；

图2为本实用新型提出的第一种镀篮用分散机构的剖视结构示意图；

图3为本实用新型提出的第一种镀篮用分散机构的装配镀篮结构示意图；

图4为本实用新型提出的第二种镀篮用分散机构的主视结构示意图；

图5为本实用新型提出的第二种镀篮用分散机构的剖视结构示意图；

图6为本实用新型提出的第二种镀篮用分散机构的装配镀篮结构示意图。

图中：分散陀螺1、水流道2、圆柱孔道21、圆台孔道22、陀螺分散片3、陀螺支撑杆4、分散盖5、导向槽6、分散锥7、镀篮盖8。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1-3，一种镀篮用分散机构，包括分散陀螺1，所述分散陀螺1的中部设有水流道2，所述分散陀螺1的上锥面等距离设有陀螺分散片3，所述陀螺分散片3的顶部设有陀螺支撑杆4，所述陀螺支撑杆4的上端连接有分散盖5。

通过磁力泵的作用电镀液，电镀液具有向上的上冲力，电镀液带动内置于镀篮底部的片式器件通过水流道向上运动，通过水流道2后，片式器件，受到重力的作用相四周散开，分散盖5具有减缓电镀液上冲的冲力，使电镀液在分散盖3的作用下均匀向四周扩散，均匀下落至镀篮的圆锥形底部，受重力影响和镀篮底部的圆锥状，片式器件向镀篮的底部中心聚集，然后通过电镀液的冲力带动向上运动，从而完成循环运动的作用。

所述分散盖5的纵向截面为T字形，所述分散盖5的横向截面为圆形。所述分散盖5的下端面中部留有导向槽6，所述导向槽6位于水流道2顶端的上侧，所述导向槽6为锥形槽，且锥形槽的下端横截面大于上端横截面，锥形槽的下端横截面直径大于水流道的上端横截面直径。

上述的导向槽6采用所述导向槽6为锥形槽，且锥形槽的下端横截面大于上端横截面，锥形槽的下端横截面直径大于水流道的上端横截面直径的结构，使片式器件在水流道2喷射后，到达导向槽6的中部，锥形槽的下端横截面大于上端横截面，则被电镀液冲力带动的片式器件，在导向槽6的边缘坡度的带动下，向四周进行扩散，而起到分流导向作用，使片式器件规则的回到镀篮底部，实现循环电镀，提高电镀质量。

所述水流道2由圆柱孔道21和圆台孔道22组成，所述圆台孔道22位于圆柱孔道21的下侧，所述圆台孔道22的下端横截面积大于上端横截面积。

上述的水流道2由圆柱孔道21和圆台孔道22组成，使的水流道2为下大上小的结构，水流道2下侧孔径大，则有利于片式器件在电镀液的冲力作用带动下更容易进入水流道2内，水流道2的上端为圆柱孔道21，则调整片式器件的运动方向，从圆台孔道22的导向作用的下集中向中间运动改变成向上运动，使片式器件在脱离水流道2后，以面的形式向上运动，而不是以点的方式向上运动，避免出现片式器件挤压从而导致损坏的情况发生。

所述陀螺分散片3为梯形，且陀螺分散片3的上侧支撑分散盖的下端，所述陀螺分散片3的数量为3个。

上述的陀螺分散片3的数量为三个，能够使片式器件均匀的向四周进行分散，避免出现片式器件聚集的情况，使电镀更加均匀。

参照图4-6，本实用新型提供的另一种分散机构为：一种镀篮用分散机构，包括分散陀螺1，所述分散陀螺的中部设有水流道2，所述分散陀螺1的上锥面等距离设有陀螺支撑杆4。

所述陀螺支撑杆4的上端连接有分散锥7，所述分散锥7的底部锥尖位于水流道2顶端的上侧。

上述采用分散锥7的锥形结构，使片式器件在水流道喷射后接触分散锥7 表面，通过分散锥7表面的弧度相四周进行运动，起到分流导向作用，片式器件在斜向上运动的过程中，受重力影响，从而下落，使片式器件规则的回到镀篮底部，实现循环电镀，提高电镀质量。

所述水流道2由圆柱孔道21和圆台孔道22组成，所述圆台孔道22位于圆柱孔道21的下侧，所述圆台孔道22的下端横截面积大于上端横截面积，上述的水流道2由圆柱孔道21和圆台孔道22组成，使的水流道2为下大上小的结构，水流道2下侧孔径大，则有利于片式器件在电镀液的冲力作用带动下更容易进入水流道2内，水流道2的上端为圆柱孔道21，则调整片式器件的运动方向，从圆台孔道22的导向作用的下集中向中间运动改变成向上运动，使片式器件在脱离水流道2后，以面的形式向上运动，而不是以点的方式向上运动，避免出现片式器件挤压从而导致损坏的情况发生。

所述分散陀螺1的上锥面坡度大于分散陀螺1下锥面坡度。

上述分散陀螺1的上锥面的坡度大，有利于片式器件的滑落，避免出现片式器件聚集的情况发生，分散陀螺1的下锥面坡度小，使分散陀螺1的底部与镀篮的底部保持一定的距离，避免片式器件下落至镀篮底部出现挤压的情况。

所述陀螺支撑杆4的数量均为3个。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。