专利名称:扫描设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种扫描设备，尤其涉及一种超音波扫描式显微镜。
技术背景
参照图1A，其显示公知的超音波扫描式显微镜l(C-Mode Scanning Acoustic Microscope)的扫描情形。公知的超音波扫描式显微镜1包括一轨道10、一探测头20以及介质液体30。待测物(晶片)40置于该介质液体30之中，该探测头20沿轨道10滑动，该探测头20朝该待测物(晶片)40发出一超音波信号2，该超音波信号2接触该待测物(晶片)40之后，由该待测物(晶片)40反射，并由该探测头20所接收。借此，以检测该待测物 (晶片)40的表面情况。
参照图1B，然而，当待测物(晶片)40表面的弯曲程度过大时，由该待测物(晶片)40所反射的超音波信号2将被散射，而无法充分的由探测头20接收，因此将导致检测失败。
发明内容
本发明即为了欲解决公知技术的问题而提供的一种扫描设备，用以对一待测物进行检测，包括一轨道、一探测头、一连接装置以及一转位单元。该连接装置连接该轨道以及该探测头，该连接装置包括一推送单元，该推送单元连接该轨道，使该连接装置及该探测头沿该轨道滑动。转位单元连接于该探测头以及该轨道，该转位单元通过磁力控制该探测头相对于该轨道而转动。
应用本发明的扫描设备，由于探测头可以通过磁力调制而相对于该轨道转动，因此可以调整超音波信号的射出方向。当待测物(晶片)表面的弯曲程度过大时，超音波信号的行进方向仍然可以大致垂直于该待测物(晶片)表面，因此由该待测物(晶片)所反射的超音波信号仍可充分的由探测头接收，避免检测失败的情况发生。
图IA显示公知的超音波扫描式显微镜
图IB显示当待测物(晶片)表面的弯曲程度过大时，公知的超音波扫描式显微镜的扫描情形；
图2显示本发明实施例的扫描设备；
图3显示图2中的沿X方向观察的剖面图；以及
图4A以及图4B显示本发明的扫描设备的扫描情形。
其中，附图标记说明如下
1 超音波扫描式显微镜；
2 超音波信号； 10 轨道；
20 探测头；30 介质液体；[0015]40 -待测物；100 ‘ 扫描设备；[0016]110 轨道；111 ‘ 支撑部；[0017]112 悬吊部；120 ‘ 探测头；[0018]121 顶面；122 ‘ 凹槽；[0019]130 连接装置；131 ‘ 推送单元；[0020]132 支撑框件；140 ‘ 转位单元；[0021]141 悬吊电磁元件；142--悬吊磁铁；[0022]143 辅推电磁元件；144--辅推磁铁。
具体实施方式
参照图2，其显示本发明实施例的扫描设备100，用以对一待测物40进行检测，包括一轨道110、一探测头120、一连接装置130、介质液体30以及一转位单元140。待测物40 置于该介质液体30之中。连接装置130连接该轨道110以及该探测头120。连接装置130 包括一推送单元131。推送单元131连接该轨道110，使该连接装置130及该探测头120沿该轨道110滑动。转位单元140连接该探测头120以及该轨道110，该转位单元140通过磁力控制该探测头120相对于该轨道110而转动。
参照图3，其显示图2中的沿X方向观察的剖面图。搭配参照图2、图3，轨道110 包括一支撑部111以及一悬吊部112，该支撑部111形成于该悬吊部112的两侧，该推送单元131于该支撑部111接触该轨道110。该推送单元131可以为滚轮，该滚轮(131)于该轨道110的支撑部111上滑动。
该探测头120包括一顶面121，该顶面121上形成有一凹槽122。
搭配参照图2、图3，该转位单元140包括多个悬吊电磁元件141、多个悬吊磁铁 142、多个辅推电磁元件143以及多个辅推磁铁144。
所述多个悬吊磁铁142设于该探测头120的该顶面121之上，所述多个悬吊电磁元件141设于该轨道110的该支撑部111之上。所述多个悬吊电磁元件141对应所述多个悬吊磁铁142，通过调制所述多个悬吊电磁元件141对于所述多个悬吊磁铁142的吸力，可使该探测头120相对于该轨道110转动。
所述多个辅推磁铁144设于该探测头120的该凹槽122之中，所述多个辅推电磁元件143设于该轨道110的该悬吊部112之上(接近底端)，所述多个辅推电磁元件143对应所述多个辅推磁铁144，通过调制所述多个辅推电磁元件143对于所述多个辅推磁铁144 的吸力，可使该探测头120相对于该轨道110转动。
参照图3，该连接装置130还包括一支撑框件132，该支撑框件132连接该推送单元131以及该探测头120。
参照图4A以及图4B，其显示本发明的扫描设备100的扫描情形，其中，由于探测头 120可以通过磁力调制而相对于该轨道110转动，因此可以调整超音波信号2的射出方向。 当待测物(晶片)40表面的弯曲程度过大时，超音波信号2的行进方向仍然可以大致垂直于该待测物(晶片)40表面，因此由该待测物(晶片)40所反射的超音波信号2仍可充分的由探测头20接收，避免检测失败的情况发生。
在上述实施例中，扫描设备100可以根据探测头20所接收的超音波信号2，动态控制探测头120的旋转方位。
在上述实施例中，所述多个悬吊磁铁142设于该探测头120之上，所述多个悬吊电磁元件141设于该轨道110之上，所述多个辅推磁铁144设于该探测头120之上，所述多个辅推电磁元件143设于该轨道110之上。然而，上述描述并限制本发明，在一变形例之中， 悬吊磁铁142与悬吊电磁元件141也可以互换位置，辅推磁铁144与辅推电磁元件143也
可以互换位置。
该扫描设备100可以为一超音波扫描式显微镜(C-Mode Scanning Acoustic Microscope)或其他形式的扫描设备。
虽然本发明已以具体的优选实施例揭示如上，然其并非用以限定本发明，任何本领域普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，仍可作些许的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视所附的权利要求
所界定的范围为准。
权利要求
1.一种扫描设备，用以对一待测物进行检测，包括一轨道；一探测头；一连接装置，该连接装置连接该轨道以及该探测头，该连接装置包括一推送单元，该推送单元连接该轨道，使该连接装置及该探测头沿该轨道滑动；以及一转位单元，连接于该探测头以及该轨道，该转位单元通过磁力控制该探测头相对于该轨道而转动。
2.如权利要求
1所述的扫描设备，其中，该推送单元包括多个滚轮，该滚轮于该轨道中滑动。
3.如权利要求
1所述的扫描设备，其中，该转位单元包括多个悬吊磁铁以及多个悬吊电磁元件，所述多个悬吊磁铁设于该探测头之上，所述多个悬吊电磁元件设于该轨道，所述多个悬吊电磁元件对应所述多个悬吊磁铁，通过调制所述多个悬吊电磁元件对于所述多个悬吊磁铁的吸力，该探测头相对于该轨道转动。
4.如权利要求
3所述的扫描设备，其中，该轨道包括一支撑部以及一悬吊部，该支撑部形成于该悬吊部的两侧，该推送单元于该支撑部接触该轨道，所述多个悬吊电磁元件设于该支撑部之上。
5.如权利要求
4所述的扫描设备，其中，该转位单元还包括多个辅推磁铁以及多个辅推电磁元件，所述多个辅推磁铁设于该探测头之上，所述多个辅推电磁元件设于该轨道，所述多个辅推电磁元件对应所述多个辅推磁铁，通过调制所述多个辅推电磁元件对于所述多个辅推磁铁的吸力，该探测头相对于该轨道转动。
6.如权利要求
5所述的扫描设备，其中，所述多个辅推电磁元件设于该悬吊部之上。
7.如权利要求
6所述的扫描设备，其中，该探测头包括一顶面，该顶面上形成有一凹槽，所述多个悬吊磁铁设于该顶面之上，所述多个辅推磁铁设于该凹槽之中。
8.如权利要求
1所述的扫描设备，其中，该连接装置还包括一支撑框件，该支撑框件连接该推送单元以及该探测头。
9.如权利要求
1所述的扫描设备，其中，该扫描设备为一超音波扫描式显微镜。
10.如权利要求
1所述的扫描设备，其中，该转位单元包括多个磁铁以及多个电磁元件，所述多个磁铁设于该轨道之上，所述多个电磁元件设于该探测头，所述多个电磁元件对应所述多个磁铁，通过调制所述多个电磁元件对于所述多个磁铁的吸力，该探测头相对于该轨道转动。
专利摘要
本发明公开了一种扫描设备，用以对一待测物进行检测，包括一轨道、一探测头、一连接装置以及一转位单元。该连接装置连接该轨道以及该探测头，该连接装置包括一推送单元，该推送单元连接该轨道，使该连接装置及该探测头沿该轨道滑动。转位单元连接于该探测头以及该轨道，该转位单元通过磁力控制该探测头相对于该轨道而转动。本发明中的由该待测物所反射的超音波信号仍可充分的由探测头接收，可避免检测失败的情况发生。
文档编号G01Q10/00GKCN102375076SQ201010257003
公开日2012年3月14日 申请日期2010年8月17日
发明者李伯毅, 王宗鼎, 郑荣伟 申请人:台湾积体电路制造股份有限公司导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan