一种带除垢器的阀门的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种带除垢器的阀门，所述的带除垢器的阀门包含一“T”字形的阀门主体，所述的阀门主体的两侧分别设有一连接盘头，所述的阀门主体的中部设有一除垢圆盘，所述的除垢圆盘上设有一高压注入喷嘴，所述的阀门主体的侧壁上设有一入口接管和一出口接管，所述的入口接管通过第一连接管与所述的高压注入喷嘴相连接，所述的出口接管通过第二连接管与所述的高压注入喷嘴相连接。本发明的带除垢器的阀门利用直接设置在阀门主体顶部的高压注入喷嘴，当阀门需要清洗时，使用者可以直接在高压注入喷嘴中注入高压稀盐酸，并利用第一连接管和第二连接管反复在阀门的通道内进行循环，对管内壁进行清洗，特别适合甲烷硅化物的生产。
【专利说明】一种带除垢器的阀门
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种化工装置，更确切地说，是一种带除垢器的阀门。
【背景技术】
[0002]在甲烷硅化物的生产过程中，阀门处极容易被硅化物沉积而造成阀门通道的流量下降甚至堵塞，现有的方法是只能直接拆卸发生堵塞的阀门进行外部清洗，成本较高，对生产影响很大。
【发明内容】
[0003]本发明主要是解决现有技术所存在的技术问题，从而提供一种带除垢器的阀门。
[0004]本发明的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的:
一种带除垢器的阀门，所述的带除垢器的阀门包含一 “T ”字形的阀门主体，所述的阀门主体的两侧分别设有一连接盘头，所述的阀门主体的中部设有一除垢圆盘，所述的除垢圆盘上设有一高压注入喷嘴，所述的阀门主体的侧壁上设有一入口接管和一出口接管，所述的入口接管通过第一连接管与所述的高压注入喷嘴相连接，所述的出口接管通过第二连接管与所述的高压注入喷嘴相连接。
[0005]作为本发明较佳的实施例，所述的出口接管与所述的第二连接管之间设有一单向阀。
[0006]本发明的带除垢器的阀门利用直接设置在阀门主体顶部的高压注入喷嘴，当阀门需要清洗时，使用者可以直接在高压注入喷嘴中注入高压稀盐酸，并利用第一连接管和第二连接管反复在阀门的通道内进行循环，对管内壁进行清洗，无需拆卸阀门，速度快，效果明显，对系统无杂质引入，特别适合甲烷硅化物的生产。
[0007]【专利附图】
【附图说明】
[0008]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0009]图1为本发明的带除垢器的阀门的立体结构示意图；
图2为图1中的带除垢器的阀门的A区域的细节放大示意图；
其中，
1、带除垢器的阀门；10、入口接管；2、阀门主体；3、连接盘头；4、除垢圆盘；5、高压注入喷嘴；6、单向阀；7、第二连接管；8、第一连接管；9、出口接管。
[0010]【具体实施方式】
[0011]下面结合附图对本发明的优选实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
[0012]如图1至图2所示，本发明的带除垢器的阀门I包含一“T ”字形的阀门主体2，该阀门主体2的两侧分别设有一连接盘头3，该阀门主体2的中部设有一除垢圆盘4，该除垢圆盘4上设有一高压注入喷嘴5，该阀门主体2的侧壁上设有一入口接管10和一出口接管9，该入口接管10通过第一连接管8与该高压注入喷嘴5相连接，该出口接管9通过第二连接管7与该闻压注入喷嘴5相连接。
[0013]该出口接管9与该第二连接管7之间设有一单向阀6。
[0014]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
【权利要求】
1.一种带除垢器的阀门，其特征在于，所述的带除垢器的阀门(I)包含一“T ”字形的阀门主体(2)，所述的阀门主体(2)的两侧分别设有一连接盘头(3)，所述的阀门主体(2)的中部设有一除垢圆盘(4)，所述的除垢圆盘(4)上设有一高压注入喷嘴(5)，所述的阀门主体(2)的侧壁上设有一入口接管(10)和一出口接管(9)，所述的入口接管(10)通过第一连接管(8)与所述的高压注入喷嘴(5)相连接，所述的出口接管(9)通过第二连接管(7)与所述的高压注入喷嘴(5)相连接。
2.根据权利要求1所述的带除垢器的阀门，其特征在于，所述的出口接管(9)与所述的第二连接管(7)之间设有一单向阀(6)。
【文档编号】F16K51/00GK103697231SQ201410000246
【公开日】2014年4月2日 申请日期:2014年1月2日 优先权日:2014年1月2日
【发明者】陈焕祥 申请人:陈焕祥