角磨齿轮箱防漏油密封结构的制作方法

文档序号:17705705发布日期:2019-05-21 20:49阅读:519来源:国知局
角磨齿轮箱防漏油密封结构的制作方法

本实用新型涉及电动工具技术领域,特别是一种防止角向磨光机漏油的角磨齿轮箱防漏油密封结构。



背景技术:

角向磨光机简称角磨是一种主要用于切割、打磨抛光及磨削金属构件和石材的电动工具,根据加工要求可以采用不同的砂轮片就可进行切割、打磨抛光或磨削工作,具有体积小、重量轻、工作效率高、携带使用方便等特点,不仅可以大大降低操作者的劳动强度,而且可以提高工作效率,倍受广大用户的欢迎,被广泛应用在各行各业。目前,角磨头壳与前盖和中间盖构成的齿轮箱没有密封结构,当机器工作时,齿轮箱内会产生热量导致润滑油变稀薄,进而会从前盖与头壳配合之间渗出到外面,导致齿轮润滑性能下降,磨损加快,极容易损坏,严重影响齿轮的使用寿命,同时也造成整个机器使用寿命变短,虽然损坏后可以更换齿轮,更换润滑油,但这样成本比较高,也耗时耗力。针对上述问题,许多生产厂家和有识之士进行了开发和研究,但至今未有理想的产品面世。



技术实现要素:

为了克服现有技术存在的上述的缺陷,本实用新型的目的是提供一种结构简单合理、生产安装方便、密封及润滑效果好、产品使用寿命长的角磨齿轮箱防漏油密封结构。

本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案,它包括输出轴、前盖、输出轴轴承、大锥齿轮、头壳、小锥齿轮、电机输出轴轴承、中间盖,所述的前盖和中间盖对应固定在头壳的输出端和输入端并构成齿轮箱,前盖上设有前盖轴承挡,前盖轴承挡内设有前盖内凹槽,前盖内凹槽上安装有第一密封圈,输出轴轴承通过第一密封圈密封固定在前盖轴承挡上,输出轴的中部可转动地安装在输出轴轴承、输出轴的上部可转动地安装在头壳的圆柱孔上,输出轴的下部伸出前盖并设有与工作头组件固定的连接头,大锥齿轮固定安装在齿轮箱内的输出轴上;中间盖上设有中间盖轴承挡,中间盖轴承挡内设有中间盖内凹槽,中间盖内凹槽上安装有第三密封圈,电机输出轴轴承通过第三密封圈密封固定在中间盖轴承挡上,电机输出轴可转动地安装在电机输出轴轴承上,小锥齿轮固定在齿轮箱内的电机输出轴上并与大锥齿轮啮合。

本实用新型的进一步方案,所述的前盖上设有前盖外凹槽,前盖外凹槽上安装有第二密封圈,前盖通过第二密封圈与头壳的输出端密封固定。

本实用新型的进一步方案,所述头壳的输入端设有头壳凹槽,头壳凹槽上安装有第四密封圈,中间盖通过第四密封圈与头壳的输入端密封固定。

采用上述结构后,与现有技术比较有如下优点和效果:由于在前盖与输出轴轴承之间以及前盖与头壳的输出端之间对应设置第一、第二密封圈,从而有效解决了齿轮箱输出端漏油的问题;由于在中间盖与机输出轴轴承之间以及中间盖与头壳的输入端之间设置第三、第四密封圈,从而有效解决了齿轮箱输入端漏油的问题;不仅可以提高润滑效果以及机器工作的可靠性,而且可以大大延长使用寿命,结构简单,生产加工方便,生产成本低。

附图说明

图1为本实用新型的配合结构示意图。

图2为本实用新型的分解结构示意图。

其中1输出轴,2前盖,3第一密封圈,4第二密封圈,5输出轴轴承,6大锥齿轮,7头壳,8小锥齿轮,9第四密封圈,10电机输出轴轴承,11第三密封圈,12中间盖,13前盖内凹槽,14前盖外凹槽,15头壳凹槽,16中间盖内凹槽。

具体实施方式

图1和图2所示,为本实用新型一种角磨齿轮箱防漏油密封结构的具体实施方案,它包括输出轴1、前盖2、输出轴轴承5、大锥齿轮6、头壳7、小锥齿轮8、电机输出轴轴承10、中间盖12,所述的前盖2和中间盖12对应固定在头壳7的输出端和输入端并构成齿轮箱,前盖2上设有前盖轴承挡,前盖轴承挡内设有前盖内凹槽13,前盖内凹槽13上安装有第一密封圈3,输出轴轴承5通过第一密封圈3密封固定在前盖轴承挡上,输出轴1的中部可转动地安装在输出轴轴承5、输出轴1的上部可转动地安装在头壳7的圆柱孔上,输出轴1的下部伸出前盖2并设有与工作头组件固定的连接头,大锥齿轮6固定安装在齿轮箱内的输出轴1上;所述的前盖2上设有前盖外凹槽14,前盖外凹槽14上安装有第二密封圈4,前盖2通过第二密封圈4与头壳7的输出端密封固定;可以有效解决了齿轮箱输出端漏油的问题。

所述的中间盖12上设有中间盖轴承挡,中间盖轴承挡内设有中间盖内凹槽16,中间盖内凹槽16上安装有第三密封圈11,电机输出轴轴承10通过第三密封圈11密封固定在中间盖轴承挡上,电机输出轴可转动地安装在电机输出轴轴承10上,小锥齿轮8固定在齿轮箱内的电机输出轴上并与大锥齿轮6啮合。所述头壳7的输入端设有头壳凹槽15,头壳凹槽15上安装有第四密封圈9,中间盖12通过第四密封圈9与头壳7 的输入端密封固定;可以有效解决了齿轮箱输入端漏油的问题。

以上所述,只是本实用新型的具体实施例,并非对本实用新型作出任何形式上的限制,在不脱离本实用新型的技术方案基础上,所作出的简单修改、等同变化或修饰,均落入本实用新型的保护范围。

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