专利名称：彩色显像管残余气体分析设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及彩色显像管制造，尤其涉及一种对彩色显像管真空质量的残余气体分析的装置。
背景技术：
彩色显像管是电视机的核心部件，而阴极又是彩色显像管的“心脏”，其发射电子能力的衰退将会引起图像亮度下降、对比度淡化、清晰度变差，最终导致“寿终”即失效。研究表明，阴极发射不良往往是由于管内真空质量恶化，引起阴极中毒、溅散而造成的。成品显像管内的真空状态属于“准静态”。管内真空的量与质，不仅取决于封离真空度、吸气剂的吸气能力，还与管内气源包括管内材料放气或管壳漏气密切相关。在大生产中，考虑到生产效率，封离真空度不可能很高；吸气剂的吸气容量也是有限度的；为长期保持管内良好的真空质量，必须重点研究管内气源，以便采取有效的改善措施。
扫屏放气是显像管内的主要气源。实测发现，扫屏时的放气速率是不扫屏时的数倍、数十倍甚至上百倍。扫屏一小时内所释放出的气体量相当于甚至超过显像管内空间残气的总量。在现有技术中常用的残气分析设备，仅能测出管内空间的残气种类及其分压强或百分含量为静态，它不足以全面地反映管子的真空质量。
经大量试验发现，所有彩色显像管扫屏时释放的主要气体是H2和N2。屏幕内的有机膜残留物是彩色显像管扫屏时的主要氢源，少量吸附在荫罩和铝膜表面的H2解析以及H2O的裂解也是彩色显像管扫屏时的氢源。彩色显像管扫屏时释放出的N2则大部分来自荧光粉层内。彩色显像管扫屏时释放的H2和N2的释放量及其随时间的变化情况，是与彩色显像管真空质量的优劣有着明显的差异。
发明内容
本实用新型的任务是提供一种彩色显像管残余气体分析设备，它解决了现有技术的残气分析设备不能全面反映管子真空质量的问题。
本实用新型的技术方案如下一种彩色显像管残余气体分析设备，将彩色显像管与其连接，所述分析设备包括抽气装置、质谱分析装置和取样装置；所述抽气装置包括顺序相连的机械泵、吸附阱和分子泵，分子泵的进口端分别通过管路与质谱分析装置和取样装置连通；所述质谱分析装置包括四极质谱计、超高真空电离规、溅散离子泵和质谱分析室，四极质谱计、超高真空电离规和溅散离子泵分别通过管路与质谱分析室连通，质谱分析室还通过管路分别与抽气装置的分子泵和取样装置连通；所述取样装置为取样管道，取样装置与取样玻管连通，取样玻管与彩色显像管连接，取样装置的进气端与彩色显像管相连通，取样装置的出气端与质谱分析装置相连通。
利用本实用新型的彩色显像管残余气体分析设备，能分析出彩色显像管内的残余气体成分及其分压力，还能在较短时间内测量出彩色显像管的扫屏放气性能，用其判定彩色显像管的内在真空质量，进而判定或比较制屏工艺与材料包括排气工艺与设备的优劣，预估因真空因素导致失效的整管寿命水平，信息反馈速度快，更能及时地反映工艺或材料变更对成品管带来的影响，具有实际应用价值。
附图是本实用新型的一种彩色显像管残余气体分析设备的结构示意图。
具体实施方式
请参见附图，本实用新型的一种彩色显像管残余气体分析设备主要由抽气装置1、质谱分析装置2和取样装置3三部分组成，将被测彩色显像管9与本分析设备连接。
抽气装置1包括顺序相连的机械泵11、吸附阱12和分子泵13，分子泵13的进口端通过阀门4与质谱分析装置的质谱分析室23连通，并通过阀门5与取样装置3连通。
质谱分析装置2包括四极质谱计(QMS)21及其探头、超高真空电离规22、质谱分析室23和溅散离子泵24。四极质谱计21、超高真空电离规22和溅散离子泵24分别通过管路与质谱分析室23连通，质谱分析室23还通过管路分别与抽气装置的分子泵13和取样装置3连通。
在质谱分析室23与四极质谱计21、超高真空电离规22、溅散离子泵24和分子泵13相连接的连通管路上设有全金属超高真空角阀4、6、7、8。分子泵13与取样装置3的连通管路上设有超高真空角阀5。质谱分析装置2中的四极质谱计21、阀门4、6、7、8及相关管道经过长期烘烤后，利用溅散离子泵24能始终维持在超高真空状态下。即使在更换被测彩色显像管9并对取样装置玻管单独进行烘烤除气期间，阀门4、6也不打开，以保持质谱分析装置2不受污染。
取样装置3为取样管道，取样装置3的进气端与取样玻管连通，取样玻管与被测彩色显像管9连接，取样装置3的出气端与质谱分析装置2相连通。取样装置3的出气端通过阀门6与质谱分析装置的质谱分析室23连通，溅散离子泵24通过阀门8与质谱分析室23连通，四极质谱计21通过阀门7与质谱分析室23连通，超高真空电离规22直接与质谱分析室23连通。在取样管道上缠绕有绝缘加热带32。取样装置3的取样管道上设有吹气尾管31，吹气尾管31在取样装置与取样玻管连通后熔封。
质谱分析装置2中的四极质谱计21为四极智能化质谱计，用它可进行残气成分分析和分压力测量。由于该仪器设计独特，电脑屏幕上不仅可适时地给出真空装置内设定气体的分压力，还可同时显示“总压力”数值。由于残气分析和扫屏放气性能分别采用“静态膨胀法”和“静态定容法”测试，为了避免超高真空电离规吸放气效应对测试结果的影响，在测试过程中，超高真空电离始终关闭，仅用四极智能化质谱计自动采集和贮存不断变化着的总压力和各设定气体的分压力数据。
本装置测试用的扫屏电源为数显式彩色显像管通用电源，其参数可调，稳定可靠。
权利要求1.一种彩色显像管残余气体分析设备，将彩色显像管与其连接，其特征在于所述分析设备包括抽气装置、质谱分析装置和取样装置；所述抽气装置包括顺序相连的机械泵、吸附阱和分子泵，分子泵的进口端分别通过管路与质谱分析装置和取样装置连通；所述质谱分析装置包括四极质谱计、超高真空电离规、溅散离子泵和质谱分析室，四极质谱计、超高真空电离规和溅散离子泵分别通过管路与质谱分析室连通，质谱分析室还通过管路分别与抽气装置的分子泵和取样装置连通；所述取样装置为取样管道，取样装置与取样玻管连通，取样玻管与彩色显像管连接，取样装置的进气端与彩色显像管相连通，取样装置的出气端与质谱分析装置相连通。
2.如权利要求1所述的彩色显像管残余气体分析设备，其特征在于所述质谱分析室与四极质谱计、超高真空电离规、溅散离子泵和分子泵相连接的连通管路上设有超高真空角阀。
3.如权利要求1所述的彩色显像管残余气体分析设备，其特征在于所述分子泵与取样装置的连通管路上设有超高真空角阀。
4.如权利要求1所述的彩色显像管残余气体分析设备，其特征在于所述取样管道上缠绕有绝缘加热带。
5.如权利要求1所述的彩色显像管残余气体分析设备，其特征在于所述取样装置的取样管道上设有吹气尾管，吹气尾管在取样装置与取样玻管连通后熔封。
6.如权利要求1所述的彩色显像管残余气体分析设备，其特征在于所述四极质谱计为四极智能化质谱计。
专利摘要本实用新型提供了一种彩色显像管残余气体分析设备，它包括抽气装置、质谱分析装置和取样装置。抽气装置包括顺序相连的机械泵、吸附阱和分子泵，分子泵的进口端分别通过管路与质谱分析装置和取样装置连通。质谱分析装置包括四极质谱计、超高真空电离规、溅散离子泵和质谱分析室，四极质谱计、超高真空电离规和溅散离子泵分别通过管路与质谱分析室连通，质谱分析室还通过管路分别与抽气装置的分子泵和取样装置连通。取样装置为取样管道。利用本分析设备能分析出彩色显像管内的残余气体成分及其分压力，还能在较短时间内测量出彩色显像管的扫屏放气性能，用其判定彩色显像管的内在真空质量，进而判定或比较制屏工艺与材料包括排气工艺与设备的优劣，预估因真空因素导致失效的整管寿命水平，具有实际应用价值。
文档编号G01N30/72GK2757130SQ20042011085
公开日2006年2月8日 申请日期2004年12月8日 优先权日2004年12月8日
发明者钱永生 申请人:上海永新彩色显像管股份有限公司