一种用于成像光谱仪的偏振多狭缝结构的制作方法

文档序号:12655444阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种用于成像光谱仪的偏振多狭缝结构,其特征在于,包括:基底,所述基底上通过激光刻蚀工艺从上到下依次刻蚀有三条狭缝,狭缝的尺寸以及狭缝之间的间距均相等,在三条狭缝结构处通过镀膜工艺实现偏振功能,从上到下,狭缝分别对应0°、45°、90°三个偏振态。

2.根据权利要求1所述的一种用于成像光谱仪的偏振多狭缝结构,其特征在于,所述基底为直径20mm的石英玻璃,其一面覆盖有铬膜,三条狭缝刻蚀在膜层上。

3.根据权利要求1所述的一种用于成像光谱仪的偏振多狭缝结构,其特征在于,每一条狭缝的长度均为9mm,宽度均为13μm,厚度均为2.3mm,狭缝之间的间距为1.8mm。

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