本发明涉及称量设备技术领域，一种新型负压称量罩。
背景技术：
称量罩是一种用于制药、微生物研究和科学实验等场所专用的开放式房间，用于进行粉尘、试剂称量、分装。现有大部分的称量间采用普通房间洁净处理后，作为称量间用，没有相应的空气处理系统，更没有配套的自动化控制系统，难以控制粉尘、试剂外溢、上扬、污染，工作人员容易吸入粉尘、试剂对人体健康形成危害，而且还存在粉尘、试剂的交叉污染，危及外界环境及室内人员的安全。
现有的负压称量罩虽然采取过滤模组进行过滤，但是当空气较为干燥时，仍然有少部分微小粉尘悬浮在工作区的死角内，使得称量罩的洁净度无法得到保证，容易产生交叉污染；而且现有的负压称量罩的称量台固定于工作区内，不便于清理和更换。
技术实现要素：
有鉴于此，本发明提供一种新型负压称量罩，具有清洁度高、便于称量台清理的特点。
本发明通过以下技术手段解决上述问题：
本发明的新型负压称量罩，包括机箱、初效过滤器、中效过滤器、高效过滤器、静压箱、均流膜、风机、回风窗、调节窗、称量台，所述机箱内具有工作区、风机箱体、回风箱体及出风箱体，所述出风箱体位于工作区和风机箱体的上方并间隔设置，所述回风箱体位于工作区的正下方，且所述风机箱体与工作区分别左右间隔设置，所述风机设置在风机箱体内的底部，所述静压箱设于所述出风箱体内，所述调节窗设置在出风箱体的一侧壁上，所述均流膜位于静压箱的底部，所述高效过滤器设于调节窗和静压箱之间，所述初效过滤器和所述中效过滤器设于所述回风箱体内，所述回风窗设置在所述回风箱体的一侧壁上，所述风机通过软管与所述静压箱连接，其特征在于：所述工作区内设有插槽，所述称量台插入所述插槽安装于所述工作区内，所述工作区的内壁上设有湿度传感器，所述工作区内与所述均流膜相对设有喷雾嘴。
进一步，所述初效过滤器位于中效过滤器的上方，且所述初效过滤器和所述中效过滤器之间填充有活性炭。
本发明的新型负压称量罩，通过所述湿度传感器能够检测所述工作区内的环境湿度，当测量的湿度值小于预定值时，开启所述喷雾嘴向所述工作区内喷雾，为所述工作区加湿，雾水附于所述微小粉尘，将悬浮粉尘打落，保证了称量罩内的洁净度；通过所述插槽来安装所述称量台，便于所述称量台的清洁和更换。
附图说明
图1为本发明的新型负压称量罩的结构示意图。
附图标记说明：机箱-1、初效过滤器-2、中效过滤器-3、高效过滤器-4、静压箱-5、均流膜-6、风机-7、回风窗-8、调节窗-9、称量台-10、工作区-11、风机箱体-12、回风箱体-13、出风箱体-14、插槽-15、湿度传感器-16、喷雾嘴-17、活性炭-18、软管-19。
具体实施方式
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
以下将结合附图对本发明进行详细说明，如图1所示：本实施例所述的新型负压称量罩，包括机箱1、初效过滤器2、中效过滤器3、高效过滤器4、静压箱5、均流膜6、风机7、回风窗8、调节窗9、称量台10，所述机箱1内具有工作区11、风机箱体12、回风箱体13及出风箱体14，所述出风箱体14位于工作区11和风机箱体12的上方并间隔设置，所述回风箱体13位于工作区11的正下方，且所述风机箱体12与工作区11分别左右间隔设置，所述风机7设置在风机箱体12内的底部，所述静压箱5设于所述出风箱体14内，所述调节窗9设置在出风箱体14的一侧壁上，所述均流膜6位于静压箱5的底部，所述高效过滤器4设于调节窗9和静压箱5之间，所述初效过滤器2和所述中效过滤器3设于所述回风箱体13内，所述回风窗8设置在所述回风箱体13的一侧壁上，所述风机7通过软管19与所述静压箱5连接，所述工作区11内设有插槽15，所述称量台10插入所述插槽15安装于所述工作区11内，所述工作区11的内壁上设有湿度传感器16，所述工作区11内与所述均流膜6相对设有喷雾嘴17。
本实施例所述的新型负压称量罩，通过所述湿度传感器16能够检测所述工作区11内的环境湿度，当测量的湿度值小于预定值时，开启所述喷雾嘴17向所述工作区11内喷雾，为所述工作区11加湿，雾水附于所述微小粉尘，将悬浮粉尘打落，保证了称量罩内的洁净度；通过所述插槽15来安装所述称量台10，便于所述称量台10的清洁和更换。
为了提高过滤和吸附效果，作为上述技术方案的进一步改进，所述初效过滤器2位于中效过滤器3的上方，且所述初效过滤器2和所述中效过滤器3之间填充有活性炭18。
最后说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的宗旨和范围，其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。