一种水温传感器测试系统结构的制作方法

文档序号:11499339阅读:245来源:国知局

本实用新型属于传感器测试技术领域,尤其涉及一种水温传感器测试系统结构。



背景技术:

水温传感器用于检测发动机冷却液的温度,内有负热敏电阻元件,随着温度的改变而改变电阻。水温传感器功能测试设备就是通过模仿产品的工作环境,将水温传感器浸泡在水浴箱中,使其内部的电阻随着温度的改变而发生改变,再通过设备测试产品的绝缘电阻、热敏电阻和仪表电阻值是否合格从而判断产品是否合格,水温传感器功能测试系统是用于测试水温传感器功能的系统,水温传感器功能测试设备是水温传感器功能测试系统的装置,水温传感器功能测试设备包括工业液晶显示器、工作工位、配电箱、工业计算机、通讯卡、万用表卡、测试工装、软件操作系统等,从广义上说还包括水温传感器测试方法、组装方法都属于水温传感器功能测试系统,现有技术存在目前市场尚没有适用于水温传感器测试系统的结构的问题。



技术实现要素:

本实用新型提供一种水温传感器测试系统结构,以解决上述背景技术中提出现有技术存在目前市场尚没有适用于水温传感器测试系统的结构的问题。

本实用新型所解决的技术问题采用以下技术方案来实现:一种水温传感器测试系统结构,包括层叠式结构,第一层结构包括显示区,第二层结构包括工位区,第三层结构包括配电箱区,所述显示区内设置显示器,所述工位区包括水平间隔的第一工位~第四工位,所述第一工位~第三工位设置循环水浴箱,所述第四工位设置吹干机,所述配电箱区水平间隔的立式工控机区和卧式工控机区,所述立式工控机区设置立式工控机,所述卧式工控机区设置两台卧式工控机。

进一步,所述显示器为工业液晶显示器。

进一步,所述循环水浴箱为9700系列的可调温水浴箱。

进一步,所述工控机为研华工业计算机。

进一步,所述研华工业计算机内置研华通讯卡和NI万用表卡。

本实用新型的有益效果为:

1、本专利采用层叠式结构,第一层结构包括显示区,第二层结构包括工位区,第三层结构包括配电箱区,所述显示区内设置显示器,所述工位区包括水平间隔的第一工位~第四工位,所述第一工位~第三工位设置循环水浴箱,所述第四工位设置吹干机,所述配电箱区水平间隔的立式工控机区和卧式工控机区,所述立式工控机区设置立式工控机,所述卧式工控机区设置两台卧式工控机,由于第一层结构包括显示区,第二层结构包括工位区,第三层结构包括配电箱区的三层结构,提高了结构的实用性。

2、本专利采用所述显示器为工业液晶显示器,由于液晶显示屏15寸,分辨率1024×768,四线电阻触摸屏,RS-232协议(DB-9P孔座),电源AC220V(GX16-3针航插),支架式(100、75孔距)安装,静电喷涂黑色,具有显示区域宽性能好的有益技术效果。

3、本专利采用循环水浴箱为9700系列的可调温水浴箱,一号工位为美国PolyScience 生产的9700系列的可调温水浴箱用于工程试验测试,二、三号工位为8100系列的恒温水浴箱,具有水温调节性强的有益技术效果。

4、本专利采用研华工业计算机内置研华通讯卡和NI万用表卡,具有稳定性高的有益技术效果。

附图说明

图1是本实用新型一种水温传感器测试系统结构结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型做进一步描述:

图中:1-显示区,2-工位区,3-配电箱区,4-第一工位,5-第二工位,6-第三工位,7-第四工位,8-立式工控机区,9-卧式工控机区。

实施例:

本实施例:如图1所示,一种水温传感器测试系统结构,包括层叠式结构,第一层结构包括显示区1,第二层结构包括工位区2,第三层结构包括配电箱区3,所述显示区1内设置显示器,所述工位区2包括水平间隔的第一工位~第四工位4~7,所述第一工位~第三工位4~6设置循环水浴箱,所述第四工位设置吹干机7,所述配电箱区3水平间隔的立式工控机区8和卧式工控机区9,所述立式工控机区8设置立式工控机,所述卧式工控机区9设置两台卧式工控机。

所述显示器为工业液晶显示器。

所述循环水浴箱为9700系列的可调温水浴箱。

所述工控机为研华工业计算机。

所述研华工业计算机内置研华通讯卡和NI万用表卡。

工作原理:

本专利通过层叠式结构,第一层结构包括显示区,第二层结构包括工位区,第三层结构包括配电箱区,所述显示区内设置显示器,所述工位区包括水平间隔的第一工位~第四工位,所述第一工位~第三工位设置循环水浴箱,所述第四工位设置吹干机,所述配电箱区水平间隔的立式工控机区和卧式工控机区,所述立式工控机区设置立式工控机,所述卧式工控机区设置两台卧式工控机,由于第一层结构包括显示区,第二层结构包括工位区,第三层结构包括配电箱区的三层结构,本实用新型解决了现有技术存在目前市场尚没有适用于水温传感器测试系统的结构的问题,具有实用性、显示区域宽、水温调节性强、稳定性高的有益技术效果。

利用本实用新型的技术方案,或本领域的技术人员在本实用新型技术方案的启发下,设计出类似的技术方案,而达到上述技术效果的,均是落入本实用新型的保护范围。

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