一种新型涂布机及其涂布方法与流程

本申请涉及涂布领域，特别是涉及一种新型涂布机及其涂布方法。

背景技术：

在tft-lcd(thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay，薄膜晶体管液晶显示器)基板制备过程中，涂布是很重要的一个环节。在涂布过程中，如果涂布机的口金擦拭不干净，口金出液口中还残留有异物时还继续投入使用，将会导致所生产的基板表面出现破膜、刮痕等问题，这将严重影响基板的质量，因此口金的擦拭和检测是涂布过程中非常重要的环节。而在现有的涂布机中，还没有能够在基板进行涂布前，对口金出液口进行检测的装置。

因此，现有的涂布机技术中，还存在涂布机中的口金在涂布前不能对其进行检测是否含有异物或是异物含量是否达标的问题，急需改进。

技术实现要素：

本申请涉及一种新型涂布机及其涂布方法，用于解决现有技术中存在的涂布机中的口金在涂布前不能对其进行检测是否含有异物或是异物含量是否达标的问题。

为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：

本申请提供的一种新型涂布机，包括：传动装置、擦拭装置、口金以及光学探测装置；其中，

所述传动装置包括：工作台、滚轮、导轨以及传送带；

所述擦拭装置设置在所述传动装置上方，与所述传送带之间保持一定的距离；

所述口金正对所述传送带进行设置，用于对所述传送带上的基板进行涂布；

所述光学探测装置设置在所述工作台上，所述光学探测器可以发射光波和接收光波，还可以对发出和接收到的光波信号进行比较。所述光学探测装置上还设置有两个信号灯，所述信号灯用于反馈检测到的信号。

根据本申请提供的一种优选实施例，所述擦拭装置的长度大于或等于所述口金出液口的长度。

根据本申请提供的一种优选实施例，所述口金和所述擦拭装置均可沿x轴方向和z轴方向运动，所述光学探测装置可沿y轴方向运动。

根据本申请提供的一种优选实施例，所述光学探测装置发射出的光波波长范围为：400-770nm。

根据本申请提供的一种优选实施例，所述光学探测装置可发出多种不同光阻的谱线。

根据本申请提供的一种优选实施例，所述光学探测装置外形由一个立方体或是一个长方体和一个圆柱体组成。

根据本申请提供的一种优选实施例，所述光学探测装置上还设置有两个信号灯。

根据本申请提供的一种优选实施例，所述两个信号灯为一个红灯和一个绿灯。

根据本申请提供的一种优选实施例，所述工作台包括第一导轨和第二导轨。

本申请还提供一种新型涂布机的涂布方法，包括上述任一项所述的新型涂布机，其涂布方法包括以下步骤：

s10，移动所述擦拭装置和所述口金，使得所述擦拭装置对所述口金出液口进行擦拭；

s20，移开所述擦拭装置，同时将所述口金对准所述光学探测装置；

s30，所述光学探测装置沿导轨方向移动，并发出光波；

s40，当所述光学探测装置上的绿灯点亮时，所述口金沿第一方向移动，对准所述基板边缘；

s50，所述基板在所述传送带上沿第一方向运动，同时所述口金开始涂布光阻液。

有益效果：与现有技术相比，本申请提供一种包含传动装置、口金、擦拭装置和光学探测装置的新型的涂布机，可以在每次进行涂布动作前，对口金出液口进行检测，确保口金出液口是无异物的再开始进行涂布工作，提高了涂布基板的质量。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例提供的一种新型涂布机的结构示意图。

图2为本申请实施例提供的一种新型涂布机的局部结构放大图。

图3为本申请实施例提供的一种新型涂布机涂布方法的流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

参阅图1，为本申请提供的一种新型涂布机的结构示意图。1为擦拭装置，2为传动装置，3为口金，4为光学探测装置，21为滚轮，22为第一导轨，23为第二导轨，24为工作台，25为传送带，26为第一高度调节处，27为第二高度调节处，31为口金出液口，32为支撑杆，321为第一支撑杆，322为螺栓连接，323为第二支撑杆。

本申请提供的一种新型涂布机，包括：传动装置2、擦拭装置1、口金3以及光学探测装置4；其中，所述传动装置2包括：工作台24、滚轮21、导轨21、22以及传送带25；所述擦拭装置1设置在所述传动装置2上方，与所述传送带25之间保持一定的距离；所述口金3正对所述传送带25进行设置，用于对所述传送带25上的基板进行涂布；所述光学探测装置4设置在所述工作台24上，所述光学探测器4可以发射光波和接收光波，还可以对发出和接收到的光波信号进行比较。本申请提供的用于检测所述口金3出液口31异物的装置为光学探测装置，同时还可以使用声波探测装置等其他同类型装置。

本申请提供的一优选实施例，所述擦拭装置1的长度大于或等于所述口金3出液口31的长度。所述擦拭装置1与所述口金3出液口31的形状互相配合可组成一个长方体型。

根据本申请提供的一优选实施例，所述口金3和所述擦拭装置1均可沿x轴方向和z轴方向运动，所述光学探测装置4可沿y轴方向运动。所述擦拭装置1在z轴方向的运动由设置于工作台24侧面的第一高度调节处26和第二高度调节处27进行调节，同时，所述擦拭装置1还可以在x轴方向滑动。所述口金3在x轴方向沿第二导轨23左右滑动，在z轴方向沿第二支撑杆323上下滑动，并通过螺栓322进行固定。所述光学探测装置4可沿所述第一导轨22来回滑动。所述滚轮21可顺时针或逆时针转动，所述传送带25在所述滚轮21的带动下，沿x轴负方向或正方向运动。

根据本申请提供的一优选实施例，所述光学探测装置4发射出的光波波长范围为：400-770nm，可根据实际需求发出多种不同光阻的谱线，并进行选择。

根据本申请提供的一优选实施例，所述口金3由一个三棱柱(即口金出液口31)和一个多边形立体图组成，该多边形立体图可以是三棱柱、长方体或是五棱柱等等多边形立体图都可以。所述口金3通过支撑架32与所述工作台24进行连接。所述支撑架32包括第一支撑杆321和第二支撑杆323。所述第一支撑杆321可沿所述第二支撑杆323上下滑动。所述第一支撑杆321和所述第二支撑杆323之间通过螺栓322进行固定，详见图2。

根据本申请提供的一优选实施例，所述光学探测装置4外形由一个立方体或是一个长方体和一个圆柱体组成。所述光学探测装置4可以在所述第一导轨22上来回滑动。所述光学探测装置4上还设置有两个信号灯。所述两个信号灯为一个红灯和一个绿灯。当所述光学探测装置4在对所述口金3进行检测时，所述光学探测装置4沿所述第一导轨22移动，并发出光波，若所述光学探测装置4上的绿灯点亮时，表示所述口金3出液口31是干净的，或是所述口金3出液口31颗粒物的含量在允许的范围内，即此时所述口金3出液口31在涂布时不会影响基板的质量；当所述光学探测装置4上的红灯点亮且所述光学探测装置4停止滑动时，表示所停留的地方所对应的所述口金3出液口31的异物量超过了允许的范围，涂布机停止涂布工作。

根据本申请提供的一优选实施例，所述擦拭装置1中心有凹槽，所述凹槽的宽度等于或略大于所述口金3出液口31的宽度，所述凹槽两端面的锥度与所述口金3出液口31的锥度相等，所述擦拭装置的材料为软质材料。

本申请提供的一优选实施例，所述工作台24包括第一导轨22和第二导轨23。所述第一导轨22为所述光学探测装置4的运动轨道，所述第二导轨23为所述口金3的运动轨道。

参阅图3，本申请还提供一种新型涂布机的涂布方法，包括上述任一项所述的新型涂布机，其涂布方法包括以下步骤：s10，移动所述擦拭装置1和所述口金3，使得所述擦拭装置1对所述口金3出液口31进行擦拭；s20，移开所述擦拭装置1，同时将所述口金3对准所述光学探测装置4；s30，所述光学探测装置4沿第一导轨22方向移动，并发出光波；s40，当所述光学探测装置4上的绿灯点亮时，所述口金3沿x轴正方向移动，对准所述基板的边缘；s50，所述基板在所述传送带25上沿x轴负方向运动，同时所述口金3开始涂布光阻液。其中，所述步骤“s10”包括：s101，沿所述x轴正方向移动所述擦拭装置1，沿x轴负方向移动所述口金3，使得所述擦拭装置1靠近所述口金3；s102，沿所述z轴方向移动所述擦拭装置1和所述口金3，使得所述擦拭装置1的中心正对所述口金3的出液口31。所述步骤“s20”包括：s201，先将所述口金3沿z轴正方向移动，使得所述口金3的出液口31离开所述擦拭装置1的凹槽；s202，沿x轴负方向移动所述擦拭装置1，使得所述擦拭装置1与所述口金3在x轴方向上保持一段距离；s203，沿x轴负方向移动所述口金3，使得所述口金3的出液口31正对于所述光学探测装置4。

以上对本申请实施例所提供的一种新型涂布机及其涂布方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。