1.一种系统，包括：
至少一个包括一组指令的存储介质；以及
至少一个被配置为与所述至少一个存储介质通信的处理器，其中，当执行所述一组指令时，所述系统被指示执行以下操作：
获得与放射设备有关的束流模型和与所述放射设备有关的探测器模型、与受试对象有关的参考图像以及与所述受试对象有关的治疗计划；
基于所述束流模型、所述探测器模型和所述参考图像确定合成图像；
通过执行所述治疗计划的至少一部分来获得治疗图像，所述治疗计划包括使用所述放射设备将至少一束辐射束向所述受试对象放射；
确定一个或以上比例因子；
基于所述合成图像和所述一个或以上比例因子确定所述治疗图像的综合估计；以及
基于所述治疗图像和所述治疗图像的所述综合估计来估算辐射剂量沉积。
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，为了基于所述治疗图像和所述治疗图像的所述综合估计来估算所述辐射剂量沉积，所述系统进一步被指示执行操作，包括：
确定所述治疗图像和所述治疗图像的综合估计之间的差异或比率。
3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述系统进一步被指示执行操作，包括：
通过对所述治疗图像进行散射校正来确定所述治疗图像中的主要部分，
其中，基于所述治疗图像中的所述主要部分，估算所述辐射剂量沉积。
4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，为了基于所述治疗图像中的所述主要部分和所述治疗图像的所述综合估计，估算所述辐射剂量沉积，所述系统进一步被指示执行操作，包括：
将所述主要部分转化为出口相空间中的能量分布；以及
基于所述出口相空间中的所述能量分布估算所述辐射剂量沉积。
5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，为了基于所述出口相空间中的所述能量分布来估算所述辐射剂量沉积，所述系统进一步被指示执行操作，包括：
在至少两次迭代中，
确定对应于差异中最小差异的最佳机架位置，所述差异是所述治疗图像的所述主要部分和所述合成图像的所述主要部分在所述至少两次迭代中的差异，其中所述最佳机架位置与一系列多叶准直器形状、钳口位置和准直器角度相关。
6.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述束流模型与所述辐射束的粒子的能量、所述粒子的位置、所述粒子在辐射传输模型的权值、所述粒子的电荷、所述粒子的类型或所述粒子的运动方向中的至少一项有关。
7.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述探测器模型与所述放射设备的探测器对某类粒子的响应、所述探测器对能级粒子的响应、所述探测器的光学响应，或所述探测器的时间响应中的至少一项有关。
8.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述探测器模型与所述放射设备的探测器的材料和所述探测器的所述材料的密度分布有关。
9.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述一个或以上比例因子与所述治疗计划的一个或以上场或射野的不同形状有关。
10.一种系统，包括：
至少一个包括一组指令的存储介质；以及
至少一个被配置为与所述至少一个存储介质通信的处理器，其中，当执行所述一组指令时，所述系统被指示执行以下操作：
获得与放射设备有关的束流模型，与受试对象有关的参考图像以及与所述受试对象有关的治疗计划；
在第一条件下确定第一合成图像和第一治疗图像；
在第二条件下确定第二合成图像和第二治疗图像，其中所述第二条件是对所述受试对象执行至少一部分所述治疗计划；
基于所述第一合成图像和所述第二合成图像确定第一比率；
基于所述第一治疗图像和所述第二治疗图像确定第二比率；以及
通过比较所述第一比率和所述第二比率来确定差异或比率率。
11.根据权利要求10所述的系统，其特征在于，进一步包括：
基于所述差异或所述比率检测放射治疗中的错误。
12.根据权利要求10所述的系统，其特征在于，所述第一条件是在物体上执行的所述治疗计划的至少一部分。
13.根据权利要求10所述的系统，其特征在于，所述第一合成图像通过模拟所述第一治疗图像的第一成像条件来确定，所述第二合成图像通过模拟所述第二治疗图像的第二成像条件来确定。
14.根据权利要求10所述的系统，其特征在于，所述错误包括场形状和强度调制模式的错误、患者摆位的错误或束流质量的错误中的至少一种。