一种CT扫描和DR拍摄双功能成像检测设备的制作方法

一种ct扫描和dr拍摄双功能成像检测设备
技术领域
1.本实用新型属于检测设备技术领域，尤其是涉及一种ct扫描和dr拍摄双功能成像检测设备。


背景技术：

2.在现有的绝大多数无损检测设备中，可粗略的大致分为ct检测设备和dr检测设备两种，现有检测设备很难做到既可以做ct扫描检测，又可以实现快速dr扫描检测，而且还要兼具快速进出料等适用于生产线的检测设备。


技术实现要素：

3.有鉴于此，本实用新型旨在提出一种ct扫描和dr拍摄双功能成像检测设备，以解决现有的无损检测设备检测方式单一的问题。
4.为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：
5.一种ct扫描和dr拍摄双功能成像检测设备，包括三轴向移动平台一、待检样品进出样平台和三轴向移动平台二；
6.三轴向移动平台一包括x向滑轨机构一，安装在x向滑轨机构一上的y向滑轨机构一以及安装在y向滑轨机构一上的z向滑轨机构一，z向滑轨机构一上安装有射线源机构；
7.三轴向移动平台二包括x向滑轨机构二，安装在x向滑轨二上的y向滑轨机构二以及安装在y向滑轨机构二上的z向滑轨机构二，z向滑轨机构二上安装有与射线源机构对应设置的探测器机构；
8.待检样品进出样平台设置在三轴向移动平台一和移动平台二之间，待检样品进出样平台用于输送待检样品。
9.进一步的，x向滑轨机构一的一端设有用于驱动y向滑轨机构一沿x向滑轨机构一移动的动力组件；
10.y向滑轨机构一的一端设有用于驱动z向滑轨机构一沿y向滑轨机构一移动的动力组件；
11.z向滑轨机构一的顶端设有用于驱动射线源机构上下移动的动力组件。
12.进一步的，x向滑轨机构二的一端设有用于驱动y向滑轨机构二沿x向滑轨机构二的动力组件；
13.y向滑轨机构二的一端设有用于驱动z向滑轨机构二沿y向滑轨机构二的动力组件；
14.z向滑轨机构二的顶端设有用于驱动探测器机构上下移动的动力组件。
15.进一步的，射线源机构包括防护外壳，防护外壳固定设置在z向滑轨机构一的滑块上；
16.防护外壳内设置有射线源。
17.进一步的，探测器机构包括固定支架，固定支架固定设置在z向滑轨机构二的滑块
上；
18.固定支架上设置有探测器。
19.进一步的，待检样品进出样平台包括x向滑轨机构三，x向滑轨机构三上安装有样品传动支架，样品传动支架上设置有托盘，待检样品放置在托盘上。
20.进一步的，三轴向移动平台一、待检样品进出样平台和三轴向移动平台二均通过固定支架安装在辐射防护箱体内。
21.进一步的，辐射防护箱体上设有与托盘对应的物料口，物料口处对应设有辐射防护门。
22.进一步的，还包括plc控制单元，三轴向移动平台一、三轴向移动平台二、待检样品进出样平台、射线源、探测器和动力组件均与plc控制单元电连接。
23.相对于现有技术，本实用新型所述的一种ct扫描和dr拍摄双功能成像检测设备具有以下有益效果：
24.本实用新型所述的一种ct扫描和dr拍摄双功能成像检测设备既能够对样品进行快速二维dr成像检测，又能够对样品进行ct扫描检测的双功能成像检测模式的检测设备，而且设备还具备快速上下料的样品传送装置，依靠运动轴及传感器实现样品的自动弹入和弹出，极大的适应生产线快速检测的品质管控需求。
附图说明
25.构成本实用新型的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：
26.图1为本实用新型实施例所述的一种ct扫描和dr拍摄双功能成像检测设备内部结构图；
27.图2为本实用新型实施例所述的ct扫描示意图；
28.图3为本实用新型实施例所述的dr扫描示意图；
29.图4为本实用新型实施例所述的辐射防护箱体结构示意图。
30.附图标记说明：
[0031]1‑
射线源；2
‑
y向滑轨机构一；3
‑
z向滑轨机构一；4
‑
x向滑轨机构一；5
‑
x向滑轨机构三；6
‑
x向滑轨机构二；7
‑
y向滑轨机构二；8
‑
z向滑轨机构二；9
‑
探测器；10
‑
托盘；11
‑
样品传动支架；12
‑
待检样品；13
‑
x光虚拟模型；14
‑
辐射防护箱体。
具体实施方式
[0032]
需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0033]
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示
或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
[0034]
在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
[0035]
下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。
[0036]
如图1所示，一种ct扫描和dr拍摄双功能成像检测设备，包括三轴向移动平台一、待检样品进出样平台和三轴向移动平台二；
[0037]
三轴向移动平台一包括x向滑轨机构一4，安装在x向滑轨机构一4上的y向滑轨机构一2以及安装在y向滑轨机构一2上的z向滑轨机构一3，z向滑轨机构一3上安装有射线源机构；
[0038]
三轴向移动平台二包括x向滑轨机构二6，安装在x向滑轨二上的y向滑轨机构二7以及安装在y向滑轨机构二7上的z向滑轨机构二8，z向滑轨机构二8上安装有与射线源机构对应设置的探测器机构；
[0039]
待检样品进出样平台设置在三轴向移动平台一和移动平台二之间，待检样品进出样平台用于输送待检样品12。
[0040]
x向滑轨机构一4的一端设有用于驱动y向滑轨机构一2沿x向滑轨机构一4移动的动力组件，以x向滑轨机构一4驱动y向滑轨机构一2的动力组件为例，本技术采用的动力组件包括伺服电机，伺服电机的输出轴端通过联轴器连接丝杠，丝杠与y向滑轨机构一底端固定设置的螺母滑台螺纹连接，螺母滑台固定设置在滑块的底端，丝杠的另一端连接丝杠轴承，通过伺服电机驱动y向滑轨机构一2沿x向滑轨机构一4移动；
[0041]
y向滑轨机构一2的一端设有用于驱动z向滑轨机构一3沿y向滑轨机构一2移动的动力组件，y向滑轨机构一2上设有的驱动z向滑轨机构一3采用的动力组件与x向滑轨机构一4驱动y向滑轨机构一2采用的动力组件结构相同；
[0042]
z向滑轨机构一3的顶端设有用于驱动射线源机构上下移动的动力组件，z向滑轨机构一3上设有的驱动射线源机构采用的动力组件与x向滑轨机构一4驱动y向滑轨机构一2采用的动力组件结构相同。
[0043]
x向滑轨机构二6的一端设有用于驱动y向滑轨机构二7沿x向滑轨机构二6的动力组件，x向滑轨机构二6上设有的驱动y向滑轨机构二7采用的动力组件与x向滑轨机构一4驱动y向滑轨机构一2采用的动力组件结构相同；
[0044]
y向滑轨机构二7的一端设有用于驱动z向滑轨机构二8沿y向滑轨机构二7的动力组件，y向滑轨机构二7上设有的驱动z向滑轨机构二8采用的动力组件与x向滑轨机构一4驱动y向滑轨机构一2采用的动力组件结构相同；
[0045]
z向滑轨机构二8的顶端设有用于驱动探测器机构上下移动的动力组件，z向滑轨机构二8上设有的驱动探测器机构采用的动力组件与x向滑轨机构一4驱动y向滑轨机构一2采用的动力组件结构相同。
[0046]
射线源机构包括防护外壳，防护外壳固定设置在z向滑轨机构一3的滑块上；
[0047]
防护外壳内设置有射线源1。
[0048]
探测器机构包括固定支架，固定支架固定设置在z向滑轨机构二8的滑块上；
[0049]
固定支架上设置有探测器9。
[0050]
待检样品进出样平台包括x向滑轨机构三5，x向滑轨机构三5上安装有样品传动支架11，样品传动支架11上设置有托盘10，待检样品12放置在托盘10上。
[0051]
三轴向移动平台一、待检样品进出样平台和三轴向移动平台二均通过固定支架安装在辐射防护箱体14内。
[0052]
辐射防护箱体14上设有与托盘10对应的物料口，物料口包括进料口和出料口，用于输送待检样品，物料口处对应设有辐射防护门。
[0053]
还包括plc控制单元，三轴向移动平台一、三轴向移动平台二、待检样品进出样平台、射线源1、探测器9和动力组件均与plc控制单元电连接，通过plc控制系统控制各部件的运行，进而完成对待检样品的ct扫描和dr成像。
[0054]
本方案实施时，当设备处于圆周ct扫描模式时，将待检样品12位置固定，检测原理如图2所示，此时射线源1与探测器9在待检样品12的上下两端(除本实施例之外，射线源1和探测器9也可位于待检样品的左右两侧，本专利申请并不对其作进一步的赘述)，分别处于相同角度，按照不同方向依靠x、y两轴平移运动进行圆周拟合旋转，如图中箭头所示，例如射线源1按照顺时针方向旋转，则探测器9在待检样品另外一侧按照逆时针方向旋转，(除本实施例之外，射线源1和探测器9也可采用相同的旋转方向完成对待检样品的扫描和成像),分别采集样品同一位置的不同角度的透视图像，进行三维数据体重建，进而检测样品内部缺陷与品质；
[0055]
可通过调节z向滑轨机构一3和z向滑轨机构二8分别调节射线源1、探测器9与待检样品12之间的距离关系，用于调节几何放大比，实现不同分辨率的检测需求；
[0056]
当设备处于dr成像模式时，待检样品12位置固定，如图3，此时射线源1与待检样品12和探测器9处于垂直方向三点一线位置，其中13为x光虚拟模型。此时射线源1与探测器9中心连线通过dr拍摄样品的局部或者全部区域，可实现样品大面积多位置，不同分辨率的dr拍摄；
[0057]
可通过调节z向滑轨机构一3和z向滑轨机构二8分别调节射线源1、探测器9与待检样品12之间的距离关系，用于调节几何放大比，实现不同分辨率的检测需求；
[0058]
完成单个待检样品12检测后，可通过x向滑轨机构一4、y向滑轨机构一2、和x向滑轨机构二6、y向滑轨机构二7，移动检测位置，实现批量待检样品12的自动切换拍摄，提高检测效率；
[0059]
完成单次批量待检样品12检测后，还可以通过待检待检样品12进出样平台5，对待检样品12从物料口进行自动弹出，辐射防护门开启，如图4所示，在辐射防护箱体14外可自动或者人工更换一批次样品后，待检样品进出样平台将样品传送进辐射防护箱体14内部，辐射防护门关闭，继续进行自动拍摄检测。
[0060]
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。