光学评价。在该情况中，在图2所示的实施例中，光线通过半透明的偏转镜18偏转到表面上，反射光也会再传递到观察装置4。后者现在可以进行表面的光学评价，在该例子中，为此优选将从在先的表面形貌测量获得的数据也纳入考虑。
[0074]附图标记12意指控制装置，其控制整个评估。该所述控制装置具有以下效果。首先，在第一方法步骤中确定所述表面的表面形貌，且接着在所述第二方法步骤中执行实际图像评估同时考虑所述表面形貌。为此，该设备具有图像显示装置14以向用户显示记录的表面的图像。此外，该设备可以具有存储装置16，用于例如记录图像的参考数据的归档。此夕卜，测量值，例如表面形貌数据，可以在该存储装置中接收。
[0075]附图标记22意指处理器装置，用于分别评价或计算的光学值。如上所述，在该例子中，该处理器装置22还可以考虑表面形貌数据，例如，表面的(局部)曲率或局部垂直位置。附图标记24意指评价装置，其基于第一辐射检测装置确定将要被研究的表面的至少一个表面形貌性质。在该例子中。从辐射检测装置获得的图像数据可以更精确地评估。
[0076]图3显示了一个可能图像评价的例子。在该例子中，连续线10意指具有指定的粗糙程度的表面纹理的表面，即在方向Z上偏移(deviat1n)。虚水平线Η可指示用于区分值到区域Β1和区域Β2的阈值。在本发明的一个设置中，对于表面的出现在区域Β1中的组成部分，将额外进行研究，并且表面的出现在区域Β2中的组成部分，也将额外进行研究。这样，仅仅在这些表面不规则导致的影响产生时，才需要考虑该影响。
[0077]优选的，在此描述的方法中，对于其中确定所述表面的所述表面形貌的第一方法步骤，以及其中执行光学评价(例如关于光泽)的方法步骤，以相同的表面部分执行。然而特别是，将所述图像记录装置记录的相同表面区段彼此进行比较。
[0078]图4使出了确定在该例子中弯曲的表面的性质确定的示例。如果在该例子中，辐射检测装置仍然是垂直设置在将要被研究的表面之上。光线将仅仅从水平延伸的这些区域直接反射到辐射检测单元，来自不同弯曲的区域(参见虚线)的光，另一方面，也可在其他方向偏转。附图标记Τ意指其中辐射传入的区域的切线。这种偏差也会导致在图像记录较小的强度。对于这种类型的弯曲，本发明认为他们同样应该分别在图像的评价或测量值的评价中考虑。例如，在该例子中，测得的强度值可以由考虑表面的曲率的因素校正。此外，测量亮度强度的角度范围相对于表面垂直面从0°到90°是可能的。
[0079]申请人要求保护本申请文件中公开的对本发明而言均是必要的所有特征，不论是其单独或相互结合，相比于现有技术均是新颖的。
【主权项】
1.一种确定表面性质的多步方法，包括以下步骤: 确定将要被研究的表面(10)的至少一个区域的至少一个表面形貌性质； 确定将要被研究的表面(10)的至少该区域的光学性质，并且发出表征所述光学性质的至少一个值；其特征在于， 当确定表征所述光学性质的所述至少一个值时，考虑所述区域的所述表面形貌性质。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，定义所述表面的至少两个区域，所述两个区域的所述表面形貌性质不同。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，数学地比较所述表面的所述至少两个区域的所述光学性质。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，确定所述将要被研究的表面的所述区域中的至少一个的所述光学性质。5.根据至少一项前述权利要求所述的方法，其特征在于，以取决于表征所述表面的所述表面形貌性质的至少一个测量值的方式定义所述光学性质的所述研究的测量区域。6.根据至少一项前述权利要求所述的方法，其特征在于，为了确定所述光学性质，通过辐射装置(2)将辐射引导到所述表面，且通过辐射检测装置(4)检测所述表面(10)反射和/或散射的辐射。7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述辐射检测装置(4)记录所述表面的空间解析图像。8.根据至少一项前述权利要求所述的方法，其特征在于，为了确定所述表面形貌性质，通过辐射装置(6)将辐射引导到所述表面，且通过辐射检测装置(4)检测所述表面(10)反射和/或散射的辐射。9.根据至少一项前述权利要求所述的方法，其特征在于，同一辐射检测装置(4)用于确定所述光学性质和用于确定所述表面形貌性质。10.根据至少一项前述权利要求所述的方法，其特征在于，评价所述表面的同一图像以确定所述光学性质和用于确定所述表面形貌性质。11.根据至少一项前述权利要求所述的方法，其特征在于，执行所述表面形貌测量的图像和所述光学性质测量的图像的空间的，优选逐个像素的分配。12.根据权利要求1-11中至少一项前述权利要求所述的方法，其特征在于，所述空间解析图像划分为多个图像区段，且所述图像区段的至少一部分分配给所述第一区域而且所述图像区段的至少一部分分配给所述第二区域。13.根据至少一项前述权利要求所述的方法，其特征在于，为了确定所述表面形貌性质，将辐射以相对于与所述表面成直角的方向成一角度引导到所述表面，所述角度小于10。。14.一种用于表面性质研究的设备，具有用于检测将要研究的表面的表面形貌的表面形貌测量仪器(2，4)，其中所述结构测量仪器具有辐射装置(2)，所述辐射装置(2)引导辐射到将要研究的表面(10)，以及第一辐射检测装置，所述第一辐射检测装置记录引导到所述表面的辐射和所述表面反射和/或散射的辐射，以及评估装置(24)，所述评估装置(24)根据所述第一辐射检测装置(4)记录的所述辐射确定将要被研究的表面的至少一个表面形貌性质，且发射表征所述被研究的表面的所述形貌性质的至少一个测量值；所述设备具有第二测量仪器(6)，所述第二测量仪器(6)具有辐射测量装置(6)，以将辐射引导到将要被研究的表面，以及辐射检测装置(4)以记录引导到所述表面(10)的辐射和所述表面反射和/或散射的辐射，其中所述辐射检测装置⑷允许对传入的辐射的空间解析和评估，其特征在于，所述设备(1)具有参考由所述表面形貌测量仪器确定的区段区域发射表征所述表面的所述光学性质的值的处理器。15.根据权利要求14所述的设备，其特征在于，所述设备具有控制装置，所述控制装置具有以下效果，首先，所述第一辐射装置(2)辐射所述表面，且所述辐射检测装置记录引导到所述表面的辐射和所述表面反射和/或散射的辐射，接着所述第二辐射装置(6)辐射所述表面，且所述辐射检测装置记录引导到所述表面的辐射和所述表面反射和/或散射的辐射。16.根据权利要求14或15中至少一项权利要求所述的设备，其特征在于，所述设备具有分配装置，以分配所述辐射检测装置记录的所述图像的第一部分区域(B1)给所述表面(10)的第一表面形貌性质，且分配所述辐射检测装置记录的所述图像的第二部分区域(B2)给所述表面(10)的第二表面形貌性质。17.根据权利要求14或16中至少一项权利要求所述的设备，其特征在于，所述第一辐射装置(2)从不同于所述第二辐射装置￠)的角度引导辐射到所述表面。
【专利摘要】本发明涉及一种确定表面性质的多步方法，包括以下步骤：确定将要被研究的表面(10)的至少一个区域的至少一个表面形貌性质；确定将要被研究的表面(10)的至少该区域的光学性质，并且发出表征所述光学性质的至少一个值。根据本发明，当确定表征所述光学性质的所述至少一个值时，考虑所述区域的所述表面形貌性质。
【IPC分类】G01N21/84, G01B11/24
【公开号】CN105277558
【申请号】CN201510352841
【发明人】克里斯多佛·格罗
【申请人】毕克-加特纳有限责任公司
【公开日】2016年1月27日
【申请日】2015年6月24日
【公告号】DE102014108789A1, US20150369595