置在精密位移装置7上，而精密位移装置7设置在被测物体10上，当被测物体10发生位移时，被测物体10带动精密位移装置7，进而带动测量平面反射镜6，如此，当被测物体10发生位移时，在位移过程中，由于第二激光束9光程的变化，使得第一激光束8与第二激光束9的干涉状态也随之变化，开始测量工作前，启动精密位移装置7，使测量平面反射镜6产生位移，所述测量平面反射镜6的位移方向与被测物体10的位移方向在同一直线上，当光电探测器3检测到最强相长干涉时，停止精密位移装置7，并将光电探测器3计数清零，然后再开始测量被测物体10的位移，在第一激光束8与第二激光束9干涉状态变化过程中，光电探测器3记录最强相长干涉的次数N，当被测物体10移动结束，处于静止状态时，光电探测器3停止计数；此时，通过精密位移装置7使测量平面反射镜6在被测物体10的位移方向上移动，并观测光电探测器3，当光电探测器3检测到最强相长干涉时，停止精密位移装置7，并读取精密位移装置7为测量平面反射镜6提供的位移值Λ Lo
[0052]若位移Λ L与被测物体10的位移方向相同，则，被测物体10实际产生的位移值L=NX λ/2+( λ/2-Λ L)，其中Λ L< λ/2，式中λ为激光波长；
[0053]而，若位移Λ L与被测物体10的位移方向相反，贝1J，被测物体10实际产生的位移值L = NX人/2+厶1^，其中厶1^< λ/2，式中λ为激光波长。
[0054]如此，通过上述结构，将被测物体10实际位移中超出半个激光波长的小数部分Δ L也测量出来并补充到位移检测结果中，进而使得本申请的激光干涉仪所测量得到的位移结果更加精确，其精度高于半个激光波长，具体取决于精密位移装置7所能提供的位移精度。
[0055]实施例2，
[0056]如图1、2所示，如实施例1所述的激光干涉仪，所述精密位移装置7包括支撑平台11和设置在所述支撑平台11上的驱动装置12，所述支撑平台11与所述被测物体10相配合，所述驱动装置12为所述测量平面反射镜6提供在被测物体10位移方向上的位移，所述驱动装置12为压电陶瓷型驱动装置。
[0057]在本实施例中，采用的压电陶瓷型驱动装置12为能够将机械能和电能互相转换的功能陶瓷材料，其在电场作用下产生的形变量很小，最多不超过本身尺寸的千万分之一的微小位移，具有良好的往复形变恢复能力，稳定性好、精度尚，进一步提尚了本实施例中精密位移装置7的精度。
[0058]实施例3，
[0059]如图1、2所示，如实施例2所述的激光干涉仪，所述精密位移装置7还包括设置在所述支撑平台11上的第一位移件13和设置在所述第一位移件13上的第二位移件14，所述驱动装置12与所述第一位移件13相配合，为所述第一位移件13提供沿所述支撑平台11的位移，所述第一位移件13具有一相对于其位移方向倾斜的斜面15，所述第二位移件14滑动设置在所述第一位移件13的斜面15上，使所述第二位移件14可沿所述第一位移件13的斜面15滑动，所述第一位移件13与第二位移件14之间贴紧配合，所述测量平面反射镜6设置在所述第二位移件14上，所述支撑平台11上还设置有约束装置16，所述约束装置16限制所述第二位移件14沿所述第一位移件13位移方向上的运动，使得当第一位移件13被所述驱动装置12带动而产生位移时，所述第二位移件14被所述第一位移件13带动而产生位移，并且，所述第二位移件14的位移方向与所述第一位移件13的位移方向相垂直，所述第一位移件13的斜面15与其位移方向的夹角为A度，优选0〈A〈45。
[0060]在实施例中，驱动装置12与第一位移件13相配合，为第一位移件13提供沿支撑平台11的位移，第一位移件13具有一相对于其位移方向倾斜的斜面15，第二位移件14滑动设置在第一位移件13的斜面15上，使第二位移件14可沿第一位移件13的斜面15滑动，在精密位移装置7工作时，驱动装置12提供一定的位移量推动第一位移件13，此时，由于约束装置16限制第二位移件14沿第一位移件13位移方向上的运动，使第二位移件14的位移方向与第一位移件13的位移方向相垂直，如此，第二位移件14的位移量与驱动装置12为第一位移件13提供的位移量相关，还与第一位移件13的斜面15与其位移方向的夹角相关。
[0061]S卩，设第一位移件13的斜面15与其位移方向的夹角为A度，当驱动装置12提供的位移量为X时，第二位移件14在垂直于驱动装置12运动方向上产生的位移量即为Y =Xtan⑷。优选地是，当夹角A小于45度时，将得到一个小于X值的位移量，当进一步的减小夹角A时，位移量Y也随之减小，如此，使得在本实施例中，精密位移装置7通过以行程换精度的方式，直接提高了本实施例精密位移装置7的精度，也就进一步的提高了本实施例激光干涉仪的测量精度。
[0062]实施例4，
[0063]如图2所示，如实施例3所述的激光干涉仪，所述第一位移件13与所述支撑平台11之间还设置有具有磁性的磁性件17，所述第二位移件14具有磁性，所述第二位移件14与所述磁性件17为异性相吸状态，所述第二位移件14与所述测量平面反射镜6为一体式结构。使得第一位移件13在被推动时，测量平面反射镜6能够保持与第二位移件14紧密贴合，保证本申请精密位移装置7的精度，进而保证本申请激光干涉仪的测量精度，第二位移件14与测量平面反射镜6为一体式结构，也就是说，直接在第二位移件14上设置一反射面，使其本身形成测量平面反射镜6，如此，简化了本实施例激光干涉仪的结构，方便调试和使用。
[0064]实施例5，
[0065]如图1、2所示，一种用于上述激光波长修正式平面反射镜激光干涉仪的测量方法，其包括有下述步骤:
[0066]步骤一:安装本发明所述平面反射镜激光干涉仪；
[0067]步骤二:将测量平面反射镜装置4设置在被测物体10上；
[0068]步骤三:调试本发明所述角反射镜激光干涉仪，使形成符合要求的光路，并且，使第一激光束8与第二激光束9处于干涉状态；
[0069]步骤四:开始测量工作前，启动精密位移装置7，使测量平面反射镜6产生位移，所述测量平面反射镜6的位移方向与被测物体10的位移方向在同一直线上，当光电探测器3检测到最强相长干涉时，停止精密位移装置7，并将光电探测器3计数清零；
[0070]步骤五:开始测量工作，被测物体10开始移动，光电探测器3记录第一激光束8与第二激光束9最强相长干涉的次数N ;
[0071]步骤六:被测物体10位移结束，处于静止状态，再次启动精密位移装置7，使测量平面反射镜6产生位移，所述测量平面反射镜6的位移方向与被测物体10的位移方向在同一直线上，当光电探测器3再次检测到最强相长干涉时，停止所述精密位移装置7，使测量平面反射镜6停止；
[0072]步骤七:读取精密位移装置7为所述测量平面反射镜6提供的位移值Λ L ;
[0073]步骤八:记录测量过程中光电探测器3记录的最强相长干涉次数Ν和测量平面反射镜6位移值Λ Lo
[0074]步骤九:再次启动精密位移装置7，移动测量平面反射镜6，使光电探测器3记录最强相长干涉的次数Μ (M为正整数)，并读取Μ次最强相长干涉对应的测量平面反射镜6位移值Ζ。根据Ζ = MX λ’