一种基于压电控制阀的MEMS质量流量控制器及控制方法与流程

文档序号:26100922发布日期:2021-07-30 18:11阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种基于压电控制阀的mems质量流量控制器,其特征在于,包括壳体以及位于壳体内部的质量流量传感器和压电膜片,所述壳体包括下基板、上盖板以及由二者围成的气流通道;所述质量流量传感器设置在下基板上靠近气流通道的入口一侧;所述压电膜片设置在下基板上靠近气流通道的出口一侧;所述压电膜片两端设置于下基板上,所述压电膜片中部与下基板之间设有振动空隙;

所述压电膜片采用无机压电材料,包括钛酸钡、锆钛酸铅,或采用有机压电材料,包括聚偏氟乙烯,并通过粘接或机械夹持的方法固定在下基板上;

所述质量流量传感器包括:

衬底,设有沿上下向贯通的隔热腔体;

支撑层,形成于衬底及隔热腔体上;

加热元件,形成于支撑层的上表面,且局部位于隔热腔体的上方;

感温元件,形成于支撑层的上表面,两个感温元件对称分布在加热元件的两侧,且局部位于隔热腔体的上方;

金属层,形成于支撑层的上表面;

绝缘层,覆盖加热元件、感温元件及金属层,且绝缘层上通过局部刻蚀形成暴露出部分金属层的接触孔。

2.根据权利要求1所述的一种基于压电控制阀的mems质量流量控制器,其特征在于,所述压电膜片的位置低于所述质量流量传感器的位置,所述上盖板的内侧对应压电膜片的位置处设有向下的凸起。

3.根据权利要求1所述的一种基于压电控制阀的mems质量流量控制器,其特征在于,所述质量流量传感器采用mems工艺制作而成,并通过粘接的方法固定在下基板上。

4.根据权利要求1所述的一种基于压电控制阀的mems质量流量控制器,其特征在于,所述衬底包括硅衬底、锗衬底、soi衬底、geoi衬底的一种。

5.根据权利要求1所述的一种基于压电控制阀的mems质量流量控制器,其特征在于,所述支撑层、绝缘层的材料为氧化硅、氮化硅的一种或两种组合。

6.根据权利要求1所述的一种基于压电控制阀的mems质量流量控制器,其特征在于,所述加热元件的材料为p型多晶硅、n型多晶硅、金属的一种。

7.根据权利要求1所述的一种基于压电控制阀的mems质量流量控制器,其特征在于,所述感温元件为热敏电阻或热电堆;其中,热敏电阻的材料为具有正/负温度系数的金属,热电堆的材料为p型多晶硅/n型多晶硅的组合,或p型多晶硅/金属的组合,或n型多晶硅/金属的组合。

8.根据权利要求1所述的一种基于压电控制阀的mems质量流量控制器,其特征在于,所述金属层的材料为金属钛、钨、铬、铂、铝、金中的一种或多种组合。

9.一种基于压电控制阀的mems质量流量控制方法,采用如权利要求1所述的一种基于压电控制阀的mems质量流量控制器,其特征在于,气体从气流通道的入口通入壳体后,经质量流量传感器测得其质量流量,并反馈给后端处理电路与给定值进行比较,随后利用该反馈动态调节压电膜片的驱动电压,控制压电膜片的弯曲程度,即控制气流通道的大小,从而实现对气体质量流量的精确控制。


技术总结
本发明公开了一种基于压电控制阀的MEMS质量流量控制器及控制方法,包括壳体以及位于壳体内部的质量流量传感器和压电膜片,所述壳体包括下基板、上盖板以及由二者围成的气流通道;所述质量流量传感器设置在下基板上靠近气流通道的入口一侧;所述压电膜片设置在下基板上靠近气流通道的出口一侧;所述压电膜片两端设置于下基板上,所述压电膜片中部与下基板之间设有振动空隙。本发明利用质量流量传感器对气体流量进行精确测量并实时反馈,作为压电膜片驱动电压的调节依据,进而可利用压电膜片的形变实现对微小流量的高精度控制;此外,本发明具有结构简单、体积小、成本低、制备可控性强等优点。

技术研发人员:胡国庆;田伟
受保护的技术使用者:青岛芯笙微纳电子科技有限公司
技术研发日:2021.04.01
技术公布日:2021.07.30
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