专利名称：与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法
技术领域：
本发明涉及一种遮障面的生成制作方法，具体涉及一种与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法。
背景技术：
基于图像特征分析的目标识别技术正日趋成熟。作为对抗，在寻找所有可能作为识别依据的目标和背景特性基础上，伪装应设法掩盖目标图像与背景图像在可探测的特征集上的差异。在彩色影像上，起伏地表的阴影区域相比其他区域具有如下的一些特有属性①由于阴影区域太阳光线被阻挡，其亮度值更低；②由于大气瑞利散射的影响使得阴影区域的散射光线主要来自波长更短的蓝紫色光，其饱和度更高；③通过分析Phong光照模型得出，其色调值更大。伪装遮障面和起伏地表空间特征的不同导致了在阴影、亮度分布和色调等方面的明显差异，从而导致了目标的暴露。因此，有必要在实施遮障伪装时考虑遮障面和需模拟区域的空间特征。
发明内容
本发明的目的在于为伪装遮障面与起伏度较大的地表在空间特征上更加融合匹配而提供一种基于随机中点与综合相似度评价的与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法。本发明是这样实现的，一种与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法，包括以下步骤
1)获取需模拟区域的正方形二维基平面的四个角点的高程；
2)利用所述的四个角点的高程，在所述正方形二维基平面上运用随机中点法，通过多次迭代得到伪装遮障面的特征点的高程数据；
3)分析所述需模拟区域与伪装遮障面的空间特征参数，得出所述需模拟区域与伪装遮障面的空间特征参数的相似度，并根据所述各空间特征参数的相似度，利用强制评分法得出所述需模拟区域与伪装遮障面的综合相似度；
4)所述综合相似度符合要求时根据生成的伪装遮障面的特征点的高程数据，制作与所述需模拟区域相匹配的伪装遮障面；否则返回步骤2)，重复以上步骤。本发明中，所述空间特征参数包括平均高度、方差、粗糙度、起伏度以及阴影函数。本发明中，利用激光测距仪、经纬仪或已测得的等高线图，获取所述需模拟区域的正方形二维基平面的四个角点的高程。本发明中，所述的制作与需模拟区域相匹配的伪装遮障面的步骤如下
利用所述伪装遮障面的特征点的高程数据将伪装遮障面的二维基平面分割成多个相同的正方形遮障单元，每一正方形遮障单元等分成8个三角遮障单元；利用所述伪装遮障面的特征点的高程数据计算每个三角遮障单元的各边边长；根据计算的三角遮障单元的各边边长，对每个正方形遮障单元的上表面进行连续裁 剪，使每个正方形遮障单元的上表面的裁剪线最多为两条；采用缝合或粘接进行连接裁剪的边，形成正方形遮障单元，所述正方形遮障单元间利 用绑扎方式连接，制作而成伪装遮障面。
本发明可利用该中点算法中的衰减因子来控制遮障面的粗糙度和起伏度以及平 均高度的波动范围，通过迭代次数来控制遮障面的精细程度；生成的伪装遮障面与需模拟 区域融合效果好，适用于模拟起伏度较大的地表，具有显著的军事和经济效益。
图1是本发明实施例提供的与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法的流 程图；图2是本发明实施例提供的二维基平面中点位移偏移法的示意图；图3a—图3c是计算高度相似度时不同取值下钟形隶属度函数的模型图；图4是本发明实施例提供的伪装遮障面的各遮障单元分割的示意图；图5是本发明实施例提供的伪装遮障面各遮障单元的边长编号示意图；图6是本发明实施例提供的伪装遮障面各遮障单元的裁剪示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图，对本发明进 行进一步详细说明。
本发明是这样实现的，一种与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法，包括 以下步骤1)获取需模拟区域的需模拟区域的四个角点的高程；2)利用所述四个角点的高程，在所述需模拟区域的正方形二维基平面上运用随机中点 法，通过多次迭代得到伪装遮障面的特征点的高程数据；3)分析所述需模拟区域与伪装遮障面的空间特征参数，得出所述需模拟区域与伪装遮 障面的空间特征参数的相似度，并根据所述各空间特征参数的相似度，利用强制评分法得 出所述需模拟区域与伪装遮障面的综合相似度；4)所述综合相似度符合要求时，根据生成的伪装遮障面的特征点的高程数据，制作与 需模拟区域相匹配的伪装遮障面；否则返回步骤2)，重复以上步骤。
本发明中，当不满足综合相似度的要求时，则再次运用上述的随机中点法，在所述 需模拟区域的正方形二维基平面上通过进一步的迭代、细化来获取伪装遮障面的高程数 据，然后再分析需模拟区域与伪装遮障面的空间特征参数，得出所述需模拟区域与伪装遮 障面的空间特征参数的相似度，并根据所述各空间特征参数的相似度，利用强制评分法得 出所述需模拟区域与伪装遮障面的综合相似度，再次评价综合相似度是否满足相似度的要 求，直到满足要求时，根据生成的伪装遮障面的特征点的高程数据，制作与需模拟区域相匹 配的伪装遮障面。
本发明中，利用激光测距仪、经纬仪或已测得的等高线图，获取所述需模拟区域的正方形二维基平面的四个角点的高程。
本发明中，所述的制作与需模拟区域相匹配的伪装遮障面的步骤如下利用所述伪装遮障面的特征点的高程数据将伪装遮障面的二维基平面分割成多个相同的正方形遮障单元，每一正方形遮障单元等分成8个三角遮障单元；利用所述伪装遮障面的特征点的高程数据计算每个三角遮障单元的各边边长；根据计算的三角遮障单元的各边边长，对每个正方形遮障单元的上表面进行连续裁剪，使每个正方形遮障单元的的上表面裁剪线最多为两条；采用缝合或粘接进行连接裁剪的边，形成正方形遮障单元，所述正方形遮障单元间利用绑扎方式连接，制作而成伪装遮障面。
参见图1，该图示出了本发明实施例提供的与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法的流程。为了便于说明，仅示出了与本发明实施例有关的部分。下面结合该图1 及图2飞对本发明进行说明。
参见图2所示，利用激光测距仪、经纬仪、已测得的等高线图，获取需模拟区域的正方形二维基平面的四个角点A、B、C、D的高程，其中心化、标准化后的高度值分别为Λ>Λ。则该需模拟区域中心I处的标准化数据I可以由四个角点处高度值模拟出
权利要求
1.一种与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法，其特征在于，包括以下步骤1)获取需模拟区域的正方形二维基平面的四个角点的高程2)利用所述四个角点的高程，在所述正方形二维基平面上运用随机中点法，通过多次迭代得到伪装遮障面的特征点的高程数据；3)分析所述需模拟区域与伪装遮障面的空间特征参数，得出所述需模拟区域与伪装遮障面的空间特征参数的相似度，并根据所述各空间特征参数的相似度，利用强制评分法得出一所述需模拟区域与伪装遮障面的综合相似度；4)所述综合相似度符合要求时根据生成的伪装遮障面的特征点的高程数据，制作与所述需模拟区域相匹配的伪装遮障面；否则返回步骤2)，重复以上步骤。
2.根据权利要求1所述的与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法，其特征在于，所述空间特征参数包括平均高度、方差、粗糙度、起伏度以及阴影函数。
3.根据权利要求1或2所述的与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法，其特征在于，利用激光测距仪、经纬仪或已测得的等高线图，获取所述需模拟区域的正方形二维基平面的四个角点的高程。
4.根据权利要求1所述的与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法，其特征在于，所述的制作与需模拟区域相匹配的伪装遮障面的步骤如下利用所述伪装遮障面的特征点的高程数据将伪装遮障面的二维基平面分割成多个相同的正方形遮障单元，每一正方形遮障单元等分成8个三角遮障单元；利用所述伪装遮障面的特征点的高程数据计算每个三角遮障单元的各边边长；根据计算的三角遮障单元的各边边长，对每个正方形遮障单元的上表面进行连续裁剪，使每个正方形遮障单元的上表面的裁剪线最多为两条；采用缝合或粘接进行连接裁剪的边，形成正方形遮障单元，所述的正方形遮障单元间利用绑扎方式连接，制作而成伪装遮障面。
全文摘要
本发明涉及一种与起伏地表空间特征相匹配的遮障面制作方法，包括获取需模拟区域正方形二维基平面的四个角点的高程，利用该四个角点的高程在该正方形二维基平面上用随机中点法经多次迭代，得到伪装遮障面的特征点的高程数据；分析需模拟区域与伪装遮障面的空间特征参数，得出空间特征参数的相似度，并得出一综合相似度；该综合相似度符合要求时根据生成的伪装遮障面的特征点的高程数据，制作与需模拟区域相匹配的伪装遮障面。本发明可利用随机中点法中衰减因子控制遮障面的粗糙度和起伏度及平均高度波动范围，通过迭代次数控制遮障面精细程度；生成的伪装遮障面与需模拟区域融合效果好，适用于模拟起伏度较大地表的遮障面制作。
文档编号G06T7/00GK103021004SQ20121050217
公开日2013年4月3日 申请日期2012年11月30日 优先权日2012年11月30日
发明者苏荣华, 陈玉华, 王吉远, 高洪生, 林伟, 余松林, 王吉军, 黄艳萍, 吴卫, 刘晓鸣 申请人:中国人民解放军61517部队