触控传感器的制作方法

本发明涉及一种触控传感器，尤其涉及一种光学性质差异小，视觉效果好，局部无黑影的触控传感器。

背景技术：

触控传感器是一种透明的绝对定位系统，能够检测外界的触摸动作并定位触摸的位置。以电容式触摸屏（GFF结构）为例，其基本结构为发射层、光学胶（Optically Clear Adhesive，OCA）、接收层和盖板玻璃。

其中发射层和接收层均为图案化的透明导电膜，该图案化的透明导电膜是实现触控功能的关键部分。其制备工艺如下：采用激光、丝网印刷或者黄光等工艺将透明导电膜上图案化区域的导电组分去除掉，从而形成特定的导电图案和导电通路。在导电图案区，导电膜被切割成许多孤立的导电单元，无法形成连续的导电通路；而在导电通路区，导电组分未被刻蚀，能够感应并传输外界触摸引起的电信号。常见的导电图案包括正方形、菱形等，图1为一种常见的正方形导电图案。

在图1所示方案中，导电图案区中黑色线条部分的导电组分被蚀刻掉，而在导电通道区中导电组分完全没有被蚀刻。因此，导电图案区和导电通道区的宏观光学性质有明显的差异，导致组合后的触摸屏传感器蚀刻痕十分明显。一般情况下，如果不对导电膜进行特殊的消影处理，采用这种方法制备的图案化导电膜会有严重的蚀刻痕，从而影响产品的视觉效果及用户体验，无法应用于中高端产品。

有鉴于此，有必要对现有的触摸屏传感器予以改进，以解决上述问题。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供光学性质差异小，视觉效果好，局部无黑影的触控传感器。

为实现上述发明目的，本发明提供了一种触控传感器，包括至少一层透明的导电膜和盖板，靠近所述盖板的导电膜具有导电图案区和导电通道区，所述导电图案区具有第一刻蚀图案，所述导电通道区具有与部分所述第一刻蚀图案相同的第二刻蚀图案。

作为本发明的进一步改进，所述触控传感器具有视窗区和围绕所述视窗区的周缘区，位于所述视窗区的所述第一刻蚀图案与第二刻蚀图案相同或部分相同。

作为本发明的进一步改进，所述触控传感器具有视窗区和围绕所述视窗区的周缘区，所述触控传感器还包括位于所述周缘区与所述导电膜导通以传输电信号的导电线路；所述第一刻蚀图案与所述导电线路断开，而所述第二刻蚀图案与所述导电线路导通。

作为本发明的进一步改进，所述触控传感器具有视窗区和围绕所述视窗区的周缘区，所述触控传感器还包括位于所述周缘区与所述导电膜导通以传输电信号的导电线路；所述第二刻蚀图案的任何导电单元可与所述导电线路导通。

作为本发明的进一步改进，所述第一刻蚀图案与第二刻蚀图案呈周期性排列。

作为本发明的进一步改进，所述第一刻蚀图案与第二刻蚀图案包括周期性排列的直线、折线、弧线、波浪线、方形、圆形、三角形、菱形中的一种或多种的组合。

作为本发明的进一步改进，所述导电图案区具有由第一刻蚀图案分割成的孤立导电单元，所述导电通道区的第二刻蚀图案中的任意两条刻蚀线不相交。

作为本发明的进一步改进，所述第一刻蚀图案、第二刻蚀图案的刻蚀线条的宽度介于10μm~300μm之间。

作为本发明的进一步改进，所述第一刻蚀图案、第二刻蚀图案的相邻两条刻蚀线条的间距介于50μm~1000μm之间。

作为本发明的进一步改进，所述导电膜为ITO导电膜、纳米银导电膜、金属网格导电膜、碳纳米管导电膜、石墨烯导电膜或导电高分子导电膜。

本发明的有益效果是：本发明的触控传感器，通过所述导电通道区具有与部分所述第一刻蚀图案相同的第二刻蚀图案，从而使得所述导电通道区与导电图案区的刻蚀图案相同或相近，从视觉上消除或降低传统图案所带来的光学性质差异，使人眼无法区分出因刻蚀图案中的刻蚀痕，从而达到消影效果。

附图说明

图1是传统的导电膜的图案示意图。

图2是本发明其中一实施例的导电膜的图案示意图。

图3是本发明另一实施例中导电膜的图案示意图。

图4是本发明又一实施例中导电膜的图案示意图。

图5是本发明又一实施例中导电膜的图案示意图。

图6是本发明又一实施例中导电膜的图案示意图。

图7是本发明又一实施例中导电膜的图案示意图。

图8是本发明又一实施例中导电膜的图案示意图。

图9是本发明又一实施例中导电膜的图案示意图。

图10是本发明再一实施例中导电膜的图案示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面结合具体实施例对本发明进行详细描述。

本发明提供了一种触控传感器，所述触控传感器具有供用户交互的视窗区和围绕所述视窗区的周缘区。所述触控传感器包括分别作为信号发射层和信号接收层的两层透明的导电膜、位于最外层的盖板、位于所述周缘区与所述导电膜导通以传输电信号的导电线路。

请参阅图2~图10所示，其中，信号发射层和信号接收层均为图案化的透明导电膜，靠近所述盖板的导电膜具有被图案分割成许多孤立的导电单元的导电图案区和无孤立的导电单元能够传导电信号的导电通道区。图中黑色线条部分的导电组分被刻蚀掉，其他部分的导电组分保留。

所述导电图案区具有第一刻蚀图案。所述第一刻蚀图案将所述导电图案区分割成多个孤立导电单元，无法形成连续的导电通路。另外，所述第一刻蚀图案与所述导电线路断开，无法传导电信号。

所述导电通道区具有与部分所述第一刻蚀图案相同的第二刻蚀图案；部分相同使得所述第一刻蚀图案与第二刻蚀图案的形状在特定区域的形状相同或相似，从而从视觉上消除或降低传统图案所带来的光学性质差异，使人眼无法区分出因刻蚀图案中的刻蚀痕，以达到消影效果；进而使得所述触控感应器用于高端电子产品。

进一步地，如图2、图5和图8所示，位于所述视窗区的所述第一刻蚀图案与第二刻蚀图案相同；如图3、图4、图6、图7、图9和图10所示，位于所述视窗区的所述第一刻蚀图案与第二刻蚀图案部分相同；而位于所述周缘区的所述第一刻蚀图案与第二刻蚀图案可随意变换。

所述第二刻蚀图案与所述导电线路导通；进一步地，请参阅图4、图7、图10所示，所述导电图案区的相邻横线、折线或波浪线与中间的连接线相交形成若干孤立的导电单元；而所述导电通道区的第二刻蚀图案中的任意两条刻蚀线不相交，所述导电图案区的相邻横线、折线或波浪线与中间的连接线不相交，因此该区域无孤立的导电单元。另外，所述第二刻蚀图案的任何导电单元可与所述导电线路导通。

所述第一刻蚀图案与第二刻蚀图案呈周期性排列，包括线条及常见的图形。当图案为周期性排列的线条时，第一刻蚀图案中的线条两端封闭以与所述导电线路断开；而第二刻蚀图案中的线条两端敞开以与所述导电线路导通。当图案为周期性排列的方形、圆形、菱形等图形时，第一刻蚀图案中的图形为封闭的图形，而第二刻蚀图案中的图形具有至少一个缺口使得整个导电通道区无孤立的导电单元。

所述第一刻蚀图案与第二刻蚀图案包括周期性排列的直线、折线、弧线、波浪线、方形、圆形、三角形、菱形中的一种或多种的组合。

为了达到较好的效应效果，所述第一刻蚀图案、第二刻蚀图案的刻蚀线条的宽度介于10μm~300μm之间；所述第一刻蚀图案、第二刻蚀图案的相邻两条刻蚀线条的间距介于50μm~1000μm之间。

本发明的导电膜可以为ITO导电膜、纳米银导电膜、金属网格导电膜、碳纳米管导电膜、石墨烯导电膜或导电高分子导电膜。

综上所述，本发明的触控传感器，通过所述导电通道区具有与部分所述第一刻蚀图案相同的第二刻蚀图案，从而使得所述导电通道区与导电图案区的刻蚀图案相同或相近，从视觉上消除或降低传统图案所带来的光学性质差异，使人眼无法区分出因刻蚀图案中的刻蚀痕，从而达到消影效果。

采用本发明的技术方案，无需对形成刻蚀图案的蚀刻液和导电膜进行特殊处理增加额外的资金投入，也无需在导电膜上蒸镀或涂布消影层增加制备工序、原材料和成本，就可以达到消影的效果；且具有更强的适用性，不仅可应用于传统的ITO导电膜，更适用于基于纳米银、金属网格、碳纳米管、石墨烯或导电高分子的透明导电膜。

以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的精神和范围。