1.一种触摸传感器膜的制造方法，其特征在于，
使用多个轨道辊对厚度不足80μm的长尺寸且透明的支撑体进行辊式输送，
以对所述支撑体的动态玻化温度加上35℃后的温度以下的温度对所述支撑体实施退火处理，
在被实施了所述退火处理的所述支撑体的表面上形成由金属细线构成的网格图案，
在对所述支撑体实施所述退火处理后，以所述支撑体的静态玻化温度以上而且低于动态玻化温度的温度将所述支撑体一直输送到第一条轨道辊，
在从所述第一条轨道辊到第二条轨道辊的期间，将所述支撑体降温至低于静态玻化温度。
2.根据权利要求1所述的触摸传感器膜的制造方法，其中，
所述第一条轨道辊与所述第二条轨道辊的间隔在30cm以内。
3.根据权利要求2所述的触摸传感器膜的制造方法，其中，
所述第一条轨道辊与所述第二条轨道辊的间隔在20cm以内。
4.根据权利要求1～3中任意一项所述的触摸传感器膜的制造方法，其中，
所述退火处理是以从所述动态玻化温度减去10℃后的温度以上的温度进行的。
5.根据权利要求1～3中任意一项所述的触摸传感器膜的制造方法，其中，
所述退火处理是以对所述动态玻化温度加上25℃后的温度以下的温度进行的。
6.根据权利要求1～3中任意一项所述的触摸传感器膜的制造方法，其中，
所述支撑体的厚度不足50μm。
7.一种触摸传感器膜，其特征在于，所述触摸传感器膜具有：
厚度不足80μm的透明的支撑体；以及
网状电极，其配置在所述支撑体的表面上，具有由金属细线构成的网格图案，
设置有所述网状电极的支撑体在机械流程方向上的热收缩率的绝对值在0.6％以内、而且与所述机械流程方向垂直的横向上的热收缩率的绝对值在0.2％以内，并且表面凹凸形状的10点平均粗糙度在6.1μm以下，
其中，表面凹凸形状的10点平均粗糙度是利用扫描型激光移位计对触摸传感器膜的10cm见方的范围进行高度测定而得到的，扫描型激光移位计的测定条件为：沿相互垂直的X轴和Y轴这两个方向设定扫描方向，设激光光束的直径为0.07mm且测定间距为1mm。
8.根据权利要求7所述的触摸传感器膜，其中，
表面凹凸形状的10点平均粗糙度在4.5μm以下。
9.根据权利要求7所述的触摸传感器膜，其中，
所述支撑体的厚度不足50μm。
10.一种触摸屏，其特征在于，
所述触摸屏具有权利要求7～9中任意一项所述的触摸传感器膜。