一种传感器制备方法及其传感器与流程

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种传感器制备方法及其传感器。

背景技术：

触控屏是一种感应式液晶显示设备，由于其具有易操作性、直观性和灵活性等优点，是一种主要的人机交互手段设备。触控屏被广泛应用在智能终端的同时，用户对其视觉效果的要求日益增高。

然而，市场上大部分触控屏传感器必须通过彩色滤光片来获得红蓝绿三种基本色，这种方式会导致触控屏色彩纯度低、显色性和还原率低及触控屏ntsc色域比较低。

技术实现要素：

本发明公开了一种传感器制备方法及其传感器，应用于显示设备，能够提高触控屏色彩纯度、显色性、还原率及触控屏ntsc色域。

第一方面，本发明实施例公开了一种传感器制备方法，所述方法包括以下步骤：

提供量子点膜；

在所述量子点膜上形成第一导电层；

对所述第一导电层进行处理，以在所述量子点膜上形成第一电路；

提供基材；

在所述基材上形成第二导电层；

对所述第二导电层进行处理，以在所述基材上形成第二电路；

将所述第一电路和所述第二电路连接，形成传感器；

其中，所述第一电路为发射电路或接收电路，所述第二电路为接收电路或发射电路。

作为一种可选的实施方式，在本发明第一方面的实施例中，所述第一导电层形成于所述量子点膜的第一表面，所述第二导电层形成于所述基材的第二表面，所述第二表面与所述第一表面同向设置，所述量子点膜通过光学胶与所述第二电路粘接，或者所述基材通过光学胶与所述第一电路粘接。

作为一种可选的实施方式，在本发明第一方面的实施例中，所述基材为绝缘材料，所述第二导电层为纳米银丝。

作为一种可选的实施方式，在本发明第一方面的实施例中，所述第一导电层形成于所述量子点膜的一面，所述纳米银丝形成于所述绝缘材料的一面，所述绝缘材料的另一面通过压膜处理粘接于所述量子点膜的另一面或第一电路。

作为一种可选的实施方式，在本发明第一方面的实施例中，所述第一导电层通过溅镀或涂覆处理形成于所述量子点膜，所述第二导电层通过溅镀或涂覆处理形成于所述基材。

作为一种可选的实施方式，在本发明第一方面实施例中，所述第一导电层通过团案转移工艺处理，形成所述第一电路，所述第二导电层通过图案转移工艺处理，形成所述第二电路。

第二方面，本发明实施例还公开了一种采用第一方面公开的方法制备的传感器，包括量子点膜及基材，所述量子点膜上设有第一电路，所述基材上设有第二电路，所述第二电路与所述第一电路连接。

其中，所述第一电路为发射电路或接收电路，所述第二电路为接收电路或发射电路。

作为一种可选的实施方式，在本发明第二方面实施例中，所述第一电路设于所述量子点膜的第一表面，所述第二电路设于所述基材的第二表面，所述第一表面与所述第二表面同向设置，所述量子点膜与所述第二电路之间设置有光学胶，或者所述基材与所述第一电路之间设置有光学胶。

作为一种可选的实施方式，在本发明第二方面实施例中，所述基材为绝缘材料，所述第二电路设于所述绝缘材料的一面，所述第一电路设于所述量子点膜的一面，所述绝缘材料的另一面设于所述量子点膜的另一面或所述第一电路上。

作为一种可选的实施方式，在本发明第二方面实施例中，所述量子点膜包括从上到下依次层叠设置的第一光学封装膜、第一阻隔层、量子点材料涂层、第二阻隔层及第二光学处理封装膜。

本发明实施例提供了一种传感器制备方法及其传感器，通过在量子点膜上附上第一导电层，然后处理第一导电层，以在量子点膜上形成第一电路，在基材上附上第二导电层，然后处理第二导电层，以在基材上形成第二电路，电连接第一电路和第二电路后形成传感器。采用该方法制备传感器，制备工艺简单，且基于上述制备方法制备得到的传感器应用于触控屏，能够提高触控屏色彩纯度、显色性、还原率及触控屏ntsc色域。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本技术领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是发明实施例一公开的一种应用于显示设备的传感器制备方法的流程图；

图2是发明实施例三公开的一种传感器的结构示意图；

图3是发明实施例三公开的一种传感器的量子点膜的结构示意图；

图4是发明实施例四公开的一种传感器的结构示意图；

图5是发明实施例五公开的一种传感器的结构示意图；

图6是发明实施例六公开的一种传感器的结构示意图；

图7是发明实施例七公开的一种传感器的结构示意图；

图8是发明实施例八公开的一种传感器的结构示意图；

图9是发明实施例九公开的一种传感器的结构示意图；

图10是发明实施例十公开的一种传感器的结构示意图；

图11是发明实施例十一公开的一种传感器的结构示意图；

图12是发明实施例十二公开的一种传感器的结构示意图；

图13是发明实施例十三公开的一种传感器的结构示意图；

图14是发明实施例十四公开的一种传感器的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中国的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，都属于本发明保护的范围。

需要说明的是，本发明实施例的术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

本发明实施例公开了一种传感器制备方法及其传感器，能够提高触控屏色彩纯度、显色性、还原率及触控屏ntsc色域。以下将结合附图进行详细描述。

实施例一

请参阅图1，为本发明实施例一提供的一种传感器制备方法流程图。该方法包括以下步骤：

s1：提供量子点膜

具体地，该量子点膜由第一光学处理封装膜、第一阻隔层、量子点材料涂层、第二阻隔层及第二光学处理封装膜从上到下依次层叠形成。

其中，量子点为颗粒直径仅有2～20nm的纳米粒子，由于纳米粒子具有纳米效应，可通过对量子点进行光电刺激，使得量子点根据光刺激发出特定频率的光。利用这些特定频率的光可获得红蓝绿三种基本色，从而将量子点应用于显示设备时，可有效提高色彩质量。

s2：在该量子点膜上形成第一导电层。

具体地，先对量子点膜的表面进行处理(如等离子清洗，即plasma或uv紫外线清洗)，提高量子点膜表面形成导电层的附着力，然后量子点膜可通过溅镀或涂覆处理，以在量子点膜上形成导电层。

由于量子点膜在高温条件下不稳定，因此，在量子点膜上形成导电层时，不可采用传统的高温溅镀或涂覆处理，而是应该严格注意导电层的温度，在低温条件下实现导电层的形成。事实上，在本实施例中，该导电层可选用低温导电油墨，然后再采用低温工艺在量子点膜上涂布形成该导电层。

s3：对该第一导电层进行处理，以在该量子点膜上形成第一电路。

具体地，第一导电层可采用图案转移工艺处理，以在量子点膜上形成第一电路。

s4：提供基材。

具体地，该基材可为绝缘材料、玻璃以及高分子类的光学薄膜等。

s5：在该基材上形成第二导电层。

具体地，基材可通过溅镀或涂覆处理，以在基材上形成第二导电层。

s6：对该第二导电层进行处理，以在该基材上形成第二电路。

具体地，第二导电层可采用图案转移工艺处理，以在基材上形成第二电路。

s7：将该第一电路和该第二电路连接，形成传感器。

具体地，将第一电路和第二电路通过电连接的方式连接在一起，从而形成该传感器。

更具体地，该第一电路可为发射电路或接收电路，该第二电路可为接收电路或发射电路。

作为一种可选的实施方式，该第一导电层形成于该量子点膜的第一表面，该第二导电层形成于该基材的第二表面，该第二表面与该第一表面同向设置，该量子点膜通过光学胶与所述第二电路粘接，或者所述基材通过光学胶与所述第一电路粘接。具体地，在量子点膜的第一表面上形成有第一导电层，在基材的第二表面上形成有第二导电层，对该第一导电层和该第二导电层进行处理，以在量子点膜的第一表面上形成第一电路，在基材的第二表面上形成第二电路，该第一电路为发射电路或接收电路，该第二电路为接收电路或发射电路，然后采用光学胶将量子点膜和第二电路粘接在一起，或者采用光学胶将基材和第一电路粘接在一起，电连接第一电路和第二电路，即可形成该传感器。

作为另一种可选的实施方式，与上述实施方式的区别是，该第二表面与该第一表面可反向设置，该量子点膜通过光学胶与该基材粘接，或者该第一电路通过光学胶与该第二电路粘接。具体地，在量子点膜的第一表面形成第一导电层，在基材的第二表面形成第二导电层，对该第一导电层和第二导电层进行处理，以在量子点膜的第一表面形成第一电路，在基材的第二表面形成第二电路，该第一电路为发射电路或接收电路，该第二电路为接收电路或发射电路，然后采用光学胶将量子点膜和基材粘接在一起，或者采用光学胶将第一电路和第二电路粘接在一起，同样地，电连接第一电路和第二电路，即可形成传感器。

采用上述两种方式，制备的传感器的发射电路与接收电路通过光学胶间隔开，不易互相干扰，性能更加稳定。

作为又一种可选的实施方式，该基材为绝缘材料，该第二导电层为纳米银丝。具体地，采用绝缘材料作为基材，在绝缘材料上经过溅镀或涂覆处理附上纳米银丝作为导电层。

作为再一种可选的实施方式，绝缘材料包括相对设置的第一面和第二面，第二导电层形成于绝缘材料的第一面，绝缘材料的第二面通过压膜处理粘接于量子点膜背离第一导电层的一面或粘接于第一电路。具体地，第一导电层形成于量子点膜上，第二导电层形成于绝缘材料的第一面，对第一导电层进行处理，以在量子点膜上形成第一电路，第一电路可为发射电路或接收电路，然后采用压膜的方式将绝缘材料的第二面粘接于量子点膜背离第一电路的一面或第一电路，再对第二导电层进行处理，以在绝缘材料的第一面上形成第二电路，第二电路可为接收电路或发射电路，最后电连接第一电路和第二电路，即可形成传感器。

采用上述两种方式，制备传感器的基材和第二导电层形成透明导电转印膜，由于该透明导电转印膜的厚度较薄，大约为1～200μm，从而使得制备得到的传感器厚度较薄，可使用于小型化的智能设备(例如智能手表、智能手环等)或柔性折叠的智能设备。

优选地，该透明导电转印膜的厚度可为1μm、5μm、10μm、20μm、40μm、60μm、80μm、100μm、120μm、140μm、160μm、180μm、200μm等。

实施例二

本发明实施例二提供了一种基于上述实施例一的制备方法制备得到的传感器。本发明实施例二的传感器包括量子点膜以及基材，量子点膜上设有第一电路，基材上设有第二电路，且第一电路与第二电路连接，从而形成该传感器。

其中，第一电路为发射电路或接收电路，第二电路为接收电路或发射电路。

实施例三

请参见图2，本发明实施例三提供一种基于实施例一的制备方法制备得到的传感器。本发明实施例三提供的传感器包括量子点膜10以及基材30，量子点膜10上设有第一电路，该第一电路为发射电路21，基材30上设有第二电路，该第二电路为接收电路41，且发射电路21与接收电路41连接，从而形成该传感器。其中，发射电路21设于量子点膜10的第一表面(未图示)，接收电路41设于基材30的第二表面(未图示)，第一表面与第二表面同向设置，量子点膜10与第二电路之间设置有光学胶50，第一电路为发射电路21，此时，第二电路40为接收电路41。具体地，该传感器为五层结构，发射电路21、量子点膜10、光学胶50、接收电路41、基材30从上到下依次层叠设置。

更具体地，请参见图3，为本发明实施例提供的量子点膜的结构。在本实施例中，该量子点膜10包括从上到下依次层叠设置的第一光学处理封装膜101、第一阻隔层102、量子点材料涂层103、第二阻隔层104及第二光学处理封装膜105。具体地，量子点为颗粒直径仅有2～20nm的纳米粒子，由于纳米粒子具有纳米效应，可通过对量子点进行光电刺激，使得量子点根据光刺激发出特定频率的光。利用这些特定频率的光可获得红蓝绿三种基本色，从而将量子点应用于显示设备时，可有效提高色彩质量。

实施例四

请参见图4，本发明实施例四提供一种基于实施例一的制备方法制备得到的传感器。本实施例与实施例三的区别在于，第一电路可为接收电路22，此时，第二电路为发射电路42。具体地，该传感器也为五层结构，接收电路22、量子点膜10、光学胶50、发射电路42、基材30从上到下依次层叠设置。

实施例五

请参见图5，本发明实施例五提供一种基于实施例一的制备方法制备得到的传感器。本实施例与实施例三的区别在于，光学胶50设置于基材30与第一电路之间，第一电路可为发射电路21，此时，第二电路为接收电路41。具体地，该传感器为五层结构，接收电路41、基材30、光学胶50、发射电路21、量子点膜10从上到下依次层叠设置。

实施例六

请参见图6，本发明实施例六提供一种基于实施例一的制备方法制备得到的传感器。本实施例与实施例五的区别在于，第一电路可为接收电路22，此时，第二电路为发射电路42。具体地，该传感器也为五层结构，发射电路42、基材30、光学胶50、接收电路22、量子点膜10从上到下依次层叠设置。

其中，量子点膜10的具体结构请参见实施例三，在此不再赘述。

实施例七

请参见图7，本发明实施例七提供一种基于实施例一的制备方法制备得到的传感器。本实施例与实施例三的区别在于，第一表面与第二表面反向设置，量子点膜10与基材30之间设置有光学胶50，第一电路可为发射电路21，此时，第二电路为接收电路41。具体地，该传感器为五层结构，发射电路21、量子点膜10、光学胶50、基材30、接收电路41从上到下依次层叠设置。

实施例八

请参见图8，本发明实施例八提供一种基于实施例一的制备方法制备得到的传感器。本实施例与实施例七的区别在于，第一电路可为接收电路22，此时，第二电路为发射电路42。具体地，该传感器也为五层结构，接收电路22、量子点膜10、光学胶50、基材30、发射电路42从上到下依次层叠设置。

实施例九

请参见图9，本发明实施例九提供一种基于实施例一的制备方法制备得到的传感器。本实施例与实施例七的区别在于，光学胶50设置于第一电路与第二电路之间，第一电路可为发射电路21，此时，第二电路为接收电路41。具体地，该传感器为五层结构，量子点膜10、发射电路21、光学胶50、接收电路41、基材30从上到下依次层叠设置。

实施例十

请参见图10，本发明实施例十提供一种基于实施例一的制备方法制备得到的传感器。本实施例与实施例九的区别在于，第一电路可为接收电路22，此时，第二电路为发射电路42。具体地，该传感器也为五层结构，量子点膜10、接收电路22、光学胶50、发射电路42、基材30从上到下依次层叠设置。

上述实施例三至实施例十中的一种基于实施例一的制备方法制备得到的传感器具有以下效果：

该传感器的结构为五层结构，发射电路和接收电路通过光学胶隔开，使该结构划线精度高、触控准确以及抗干扰能力强。而且，光学胶起到了粘接的作用，使传感器的结构更加稳定，其性能也更加稳定。

实施例十一

请参见图11，为本发明实施例十一提供的一种基于实施例一的制备方法制备得到的传感器。本发明实施例十一提供的传感器包括量子点膜10以及基材(未图示)，该基材为绝缘材料31，量子点膜10上设有第一电路，该第一电路为发射电路21，绝缘材料31上设有第二电路，该第二电路为接收电路41，且发射电路21与接收电路41连接，从而形成该传感器。具体地，该绝缘材料31包括相对设置的第一面(未图示)和第二面(未图示)，接收电路41设于该绝缘材料的第一面，绝缘材料的第二面连接于量子点膜10背离发射电路21的一面或者连接于发射电路21上。具体地，该传感器为四层结构，发射电路21、量子点膜10、绝缘材料31、接收电路41从上到下依次层叠设置。

进一步地，绝缘材料的第二面可通过压膜处理粘接于量子点膜背离发射电路的一面或者粘接于发射电路上，这样，绝缘材料与量子点膜或发射电路之间无需额外设置光学胶进行粘接，不仅有利于减少形成的传感器的整体厚度，使得传感器更加轻薄化。而且也有利于节省粘接工序，简化传感器的制备流程。

进一步地，请参见图3，为本发明实施例提供的量子点膜的结构。在本实施例中，该量子点膜10包括从上到下依次层叠设置的第一光学处理封装膜101、第一阻隔层102、量子点材料涂层103、第二阻隔层104及第二光学处理封装膜105。具体地，量子点为颗粒直径仅有2～20nm的纳米粒子，由于纳米粒子具有纳米效应，可通过对量子点进行光电刺激，使得量子点根据光刺激发出特定频率的光。利用这些特定频率的光可获得红蓝绿三种基本色，从而将量子点应用于显示设备时，可有效提高色彩质量。

更进一步地，纳米银丝(未图示)通过溅镀或涂覆处理，在绝缘材料31上形成的第二导电层，第二导电层经过图案转移工艺处理形成第二电路。

实施例十二

请参见图12，本发明实施例十二提供一种基于实施例一的制备方法制备得到的传感器。本实施例与实施例十一的区别在于，第一电路可为接收电路22，此时，第二电路为发射电路42。具体地，该传感器也为四层结构，接收电路22、量子点膜10、绝缘材料31、发射电路42从上到下依次层叠设置。

实施例十三

请参见图13，本发明实施例十二提供一种基于实施例一的制备方法制备得到的传感器。本实施例与实施例十一的区别在于，绝缘材料31的另一面设于第一电路上，第一电路可为发射电路21，此时，第二电路为接收电路41。具体地，该传感器为四层结构，接收电路41、绝缘材料31、发射电路21、量子点膜10从上到下依次层叠设置。

实施例十四

请参见图14，本发明实施例十二提供一种基于实施例一的制备方法制备得到的传感器。本实施例与实施例十一的区别在于，第一电路可为接收电路22，此时，第二电路为发射电路42。具体地，该传感器也为四层结构，发射电路42、绝缘材料31、接收电路22、量子点膜10从上到下依次层叠设置。

上述实施例十一至实施例十四中的一种基于实施例一的制备方法制备得到的传感器具有以下效果：

该传感器的基材和第二导电层形成透明导电转印膜，由于该透明导电转印膜的厚度较薄，大约为1～200μm，从而使得制备得到的传感器厚度较薄，可使用于小型化的智能设备(例如智能手表、智能手环等)或柔性折叠的智能设备，使用了该传感器的智能设备具备良好的触控性能。

以上对本发明实施例公开的一种应用于显示设备的传感器制备方法及其传感器进行了详细的介绍，本文应用了个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的一种应用于显示设备的传感器制备方法及其传感器及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。